用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘制造技术

一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，包括钵具主体，所述的钵具主体内设有多个三角形支撑条，相邻两个三角形支撑条之间形成用于放置坯料的V形槽；钵具主体顶部设有盖板，钵具主体内两端设有多个堵片。本实用新型专利技术专利采用上述结构，可有效解决现有技术中的问题，避免钵具与PTC粉料之间的高温反应，提升PTC陶瓷片产品纯度。产品纯度。产品纯度。

【技术实现步骤摘要】
用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘


[0001]本技术涉及正温度系数热敏电阻生产
，具体的是一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘。

技术介绍

[0002]正温度系数热敏电阻，简称PTC热敏电阻，指正温度系数很大的半导体材料或元器件，钛酸钡陶瓷作为PTC的一种，其以钛酸钡(BaTiO3)或其固溶体为主晶相的陶瓷材料。主要原料为碳酸钡和二氧化钛。通常先在1200℃左右合成钛酸钡，再加改性氧化物，经细磨，成型后在1400℃左右温度下烧结而成。用作电容器介质材料和制作多种压电器件。
[0003]PTC粉料经成型后需要高温煅烧成型，预制成PTC陶瓷片，在烧制过程中，由于高温情况，片状粉料与载具之间容易发生反应，导致产品中夹杂少量杂质，影响产出的PTC陶瓷片的质量。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是提供一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，可有效解决现有技术中的问题，避免钵具与PTC粉料之间的高温反应，提升PTC陶瓷片产品纯度。
[0005]为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，包括钵具主体，所述的钵具主体内设有多个三角形支撑条，相邻两个三角形支撑条之间形成用于放置坯料的V形槽；
[0006]所述的钵具主体顶部设有盖板，钵具主体内两端设有多个堵片。
[0007]优选的方案中，所述的钵具主体四周侧壁上沿设有用于透气的缺口。
[0008]优选的方案中，多个所述的堵片一一对应设置在V形槽的两端，位于钵具主体同一端上的多个堵片之间通过连接板连接形成整体，在钵具主体的端面内壁上设有定位凹槽，连接板朝向钵具主体端面的一面上设有定位块，定位块设置于定位凹槽内。
[0009]优选的方案中，所述的定位凹槽与定位块截面均为T形。
[0010]优选的方案中，所述的盖板底面四个角落位置处设有定位插片，定位插片为L形板，定位插片贴合钵具主体的内壁拐角位置处。
[0011]优选的方案中，相邻两个所述的钵具主体之间通过U形连接件连接，U形连接件扣设于钵具主体两侧的缺口上。
[0012]优选的方案中，所述的缺口为倒梯形，U形连接件的顶面两端下沿设有与缺口斜边倾斜度相同的斜向缺口。
[0013]优选的方案中，所述的三角形支撑条与堵片采用氧化锆，钵具主体采用99瓷。
[0014]本技术所提供的一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，通过采用上述结构，具有以下有益效果：
[0015]（1）所设置的三角形支撑条能够有效保证相邻列粉料之间的分隔，提升粉料的高
温煅烧成型效率；
[0016]（2）三角形支撑条与堵片保证了粉料不会与钵具之间接触，解决了现有技术中粉料与钵具之间接触并在高温状态下发生反应导致产品纯度下降的问题；
[0017]（3）通过带有插片的盖板以及U形连接件，解决了在煅烧过程中，相邻钵具之间没有连接导致的煅烧作业连续性不稳定问题。
附图说明
[0018]下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明：
[0019]图1为本技术的整体结构示意图。
[0020]图2为本技术的两个钵具连接状态下的结构示意图。
[0021]图3为本技术的盖板结构示意图。
[0022]图4为本技术的三角形支撑条结构示意图。
[0023]图5为本技术的U形连接件结构示意图。
[0024]图6为本技术的U形连接件立面剖视结构示意图。
[0025]图7为本技术中单组堵片的结构示意图。
[0026]图中：钵具主体1，缺口101，盖板2，三角形支撑条3，堵片4，连接板5，定位凹槽6，定位块7，定位插片8，U形连接件9，斜向缺口901。
具体实施方式
[0027]如图1
‑
7中，一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，包括钵具主体1，所述的钵具主体1内设有多个三角形支撑条3，相邻两个三角形支撑条3之间形成用于放置坯料的V形槽；
[0028]所述的钵具主体1顶部设有盖板2，钵具主体1内两端设有多个堵片4。
[0029]优选的方案中，所述的钵具主体1四周侧壁上沿设有用于透气的缺口101。
[0030]优选的方案中，多个所述的堵片4一一对应设置在V形槽的两端，位于钵具主体1同一端上的多个堵片4之间通过连接板5连接形成整体，在钵具主体1的端面内壁上设有定位凹槽6，连接板5朝向钵具主体1端面的一面上设有定位块7，定位块7设置于定位凹槽6内。
[0031]优选的方案中，所述的定位凹槽6与定位块7截面均为T形。
[0032]优选的方案中，所述的盖板2底面四个角落位置处设有定位插片8，定位插片8为L形板，定位插片8贴合钵具主体1的内壁拐角位置处。
[0033]优选的方案中，相邻两个所述的钵具主体1之间通过U形连接件9连接，U形连接件9扣设于钵具主体1两侧的缺口101上。
[0034]优选的方案中，所述的缺口101为倒梯形，U形连接件9的顶面两端下沿设有与缺口101斜边倾斜度相同的斜向缺口901。
[0035]优选的方案中，所述的三角形支撑条3与堵片4采用氧化锆，钵具主体1采用99瓷。
[0036]采用本新型所公开的用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，通过三角形支撑条3支撑片状粉料，避免片状粉料直接与钵具主体1底部接触，另外配合堵片4隔断片状粉料与钵具主体1内端面，能够避免高温状态下片状粉料与钵具主体1之间接触发生反应。
[0037]另外采用多个三角形支撑条组合形成的支撑结构，对片状粉料进行支撑，使得片
状粉料之间成列状排列并相互隔开，提升了原料的外露面积，提高了煅烧成型效率。
[0038]本申请所公开的钵具，在上述结构的基础上，采用了整体式的堵片结构，解决了堵片尺寸小、拿取不便、易丢失的问题，另外依靠带有插片的盖板以及U形连接件，有效保证了煅烧过程中对粉料防护的目的，同时使多个钵具之间连接，保证了煅烧作业的连续性。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，包括钵具主体（1），其特征在于：所述的钵具主体（1）内设有多个三角形支撑条（3），相邻两个三角形支撑条（3）之间形成用于放置坯料的V形槽；所述的钵具主体（1）顶部设有盖板（2），钵具主体（1）内两端设有多个堵片（4）。2.根据权利要求1所述的一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，其特征在于：所述的钵具主体（1）四周侧壁上沿设有用于透气的缺口（101）。3.根据权利要求1所述的一种用于PTC陶瓷烧制过程中的坯料载盘，其特征在于：多个所述的堵片（4）一一对应设置在V形槽的两端，位于钵具主体（1）同一端上的多个堵片（4）之间通过连接板（5）连接形成整体，在钵具主体（1）的端面内壁上设有定位凹槽（6），连接板（5）朝向钵具主体（1）端面的一面上设有定位块（7），定位块（7）设置于定位凹槽（...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏兵，
申请(专利权)人：宜都市博通电子有限责任公司，
类型：新型
国别省市：