一种减反射膜制造技术

本发明专利技术涉及薄膜光学技术领域，特别涉及一种减反射膜。为了解决减小表面反射而带来的成像蓝色或红色的问题，本发明专利技术提供一种减反射膜。所述减反射膜的结构从下至上包括基材层、吸蓝光层和减反射层，所述减反射层从下至上包括第一折射率层、第二折射率层和第三折射率层。本发明专利技术提供的减反射膜能使成像具有低的颜色偏差，更接近自然光下的成像。更接近自然光下的成像。更接近自然光下的成像。

【技术实现步骤摘要】
一种减反射膜


[0001]本专利技术涉及薄膜光学
，特别涉及一种减反射膜。

技术介绍

[0002]在薄膜光学中，入射光线在基材的前表面和后表面发生反射，由于基材表面不平整，前后表面漫反射的光线发生干涉，成像变得杂乱无章，并且像的衬度也随之下降，导致成像不清晰。因此，减少表面反射是解决该问题最简单的方法。
[0003]在基材表面沉积不同折射率的材料，可以显著减小中心波长的反射率，解决上述成像不清晰的问题。但自然界不同折射率的材料有限，不一定存在需求的特定折射率材料，因此通过控制沉积材料的厚度达到上述减小反射率(减小表面反射)的目的。当膜层的光学厚度为某一波长的1/4时，则两个矢量的方向完全相反，合矢量为最小，如果这时两个矢量的模相等，两个矢量完全抵消，就会出现反射率为零的情况。
[0004]上述技术通过多层镀膜并控制镀层厚度实现降低反射率(减小表面反射)的目的，解决的成像不清晰的问题。但同时带来另外一个问题，由于上述方法是通过人为干预自然光的反射和透射，使得某一波段的反射光能量转化为透射光能量，此时成像的颜色也发生偏移，不再像自然光一样均衡分布，而是呈现出明显的蓝色或者红色，此时的成像并不是最理想的。

技术实现思路

[0005]为了解决减小表面反射而带来的成像蓝色或红色的问题，本专利技术提供一种减反射膜。
[0006]为了解决上述技术问题，本专利技术采用下述技术方案。
[0007]本专利技术提供一种减反射膜，所述减反射膜的结构从下至上包括基材层、吸蓝光层和减反射层。
[0008]所述基材层，选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或三醋酸纤维素(TAC)。
[0009]所述基材层厚度为50
‑
100μm。所述基材层厚度为50μm、75μm或100μm。
[0010]所述吸蓝光层为吸蓝光涂液(简称涂布液)经UV固化后形成。所述吸蓝光层的厚度为0.8μm
‑
1.1μm。
[0011]所述吸蓝光涂液包括主剂、吸蓝光助剂(也称为蓝光吸收剂)、光引发剂、其他助剂和有机溶剂。
[0012]所述主剂选自聚氨酯、丙烯酸树脂和环氧树脂中的一种或至少两种的混合物。
[0013]所述蓝光吸收剂选自偶氮类染料和异吲哚啉酮类染料中的一种。
[0014]所述光引发剂选自2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基丙酮(1173)、1
‑
羟基环己基苯基甲酮(184)、2,4,6
‑
三甲基苯甲酰基
‑
二苯基氧化膦(TPO)、2,4,6
‑
三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯(TPO
‑
L)中的一种或至少两种的混合物。
[0015]所述其他助剂包括流平剂和消泡剂。
[0016]所述有机溶剂选自乙酸乙酯、乙酸丁酯、环己酮中的一种或至少两种的混合物。
[0017]所述吸蓝光涂液包括主剂40
‑
50份，光引发剂1
‑
3份，吸蓝光助剂1
‑
2份，其他助剂1
‑
5份，有机溶剂与上述主剂、光引发剂、吸蓝光助剂、其他助剂共100份，所述份数为重量份。
[0018]进一步的，所述吸蓝光涂液包括主剂40份，光引发剂3份，吸蓝光助剂1.2份，其他助剂0.8份，有机溶剂55份；所述份数为重量份。
[0019]进一步的，所述吸蓝光涂液包括主剂聚氨酯40份、光引发剂TPO 2.4份、光引发剂11730.6份、吸蓝光助剂1.2份，流平剂和消泡剂共0.8份、有机溶剂乙酸乙酯44份、有机溶剂乙酸丁酯11份，上述份均为重量份。
[0020]所述吸蓝光涂液经UV固化后形成吸蓝光层。
[0021]通过控制减反射层中各镀层厚度使得反射曲线向高波段(红光)方向移动，反射曲线开口和波形保持不变，此时由于高波段反射下降，低波段(蓝光)反射增加，成像表现出偏蓝色。由于吸蓝光层的存在，将低波段蓝光吸收后，低波段蓝光的反射减弱，此时的成像由于高波段(红光)和低波段(蓝光)反射的均衡，成像的颜色偏移已经得到极大改善，在实现减反射的同时实现成像低色偏。
[0022]所述减反射层为磁控溅射镀膜技术制备的无机镀层，厚度可以调整控制。
[0023]所述减反射层从下至上包括第一折射率层、第二折射率层和第三折射率层。
[0024]所述第一折射率层材质选自氮化硅或氧化镁中的一种，厚度为60
‑
68nm。氮化硅的制备过程选用硅靶与氮气反应溅射沉积，氧化镁则采用氧化镁靶材在溅射过程中补充氧气沉积。
[0025]所述硅靶和氧化镁靶均为旋转柱靶。
[0026]所述第二折射率层材质选自氧化铌或氧化钛中的一种，厚度为40
‑
46nm。氧化铌和氧化钛的制备中分别选择氧化铌靶材和氧化钛靶材，沉积过程中补充氧气。
[0027]所述氧化铌靶和氧化钛靶均为旋转柱靶。
[0028]所述第三折射率层材质选自氧化硅，厚度为80
‑
87nm。氧化硅的制备中使用硅靶与氧气反应溅射沉积二氧化硅。
[0029]进一步的，第一折射率层为氮化硅，氮化硅层的厚度为60nm；第二折射率层为氧化铌，氧化铌层的厚度为46nm；第三折射率层为氧化硅，氧化硅层的厚度为87nm。
[0030]所述硅靶为旋转柱靶。
[0031]本专利技术提供的减反射膜能够使成像具有低的颜色偏差，也称为低色偏减反射膜。
[0032]减反射膜可以用在显示器上，还可以用在博物馆的展示玻璃柜中，避免环境光的反射使得文物的成像不清晰。
[0033]与现有技术相比，本专利技术提供的低色偏减反射膜具有以下技术优势：
[0034](1)通过在基材表面涂布一层吸蓝光层巧妙地解决了降低反射下颜色发生偏移的问题。通过在涂布液中加入吸蓝光助剂可以将低波段的反射光吸收。同时，调整减反射层各镀层的厚度，使得反射光谱向高波段移动，对人眼有刺激作用的红光波段反射减少，此时成像的红色就会消失。随之产生的低波段蓝光反射加强的问题，由于上述吸蓝光涂层的存在将蓝光吸收后，成像的蓝色也消除了，此时的成像已经非常接近在自然光下的成像，是比较理想的成像。
[0035](2)通过应用磁控溅射沉积技术，在上述吸蓝光涂层上沉积可控的减反射层。通过控制各层厚度实现对可见光波段的减反射性能，CIE Y值小于0.5，并且各镀层厚度较薄，在实际生产过程中可行性强，镀层结构仅需要3层，生产成本更低，生产效率更高。
附图说明
[0036]图1为本专利技术提供的一种减反射膜的结构示意图；
[0037]图2为环境光线入射到减反射膜中，反射光线进入人眼的光路示意图。
具体实施方式
[0038]下述将结合参考附图与实施例详细说明本专利技术。
[0039]如图1所示，本专利技术提供的减反射膜结构，从下至上包括基材10、吸蓝光层20、第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反射膜，其特征在于，所述减反射膜的结构从下至上包括基材层、吸蓝光层和减反射层。2.根据权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，所述吸蓝光层为吸蓝光涂液经UV固化后形成，厚度为0.8μm
‑
1.1μm。3.根据权利要求2所述的减反射膜，其特征在于，所述吸蓝光涂液包括主剂、吸蓝光助剂、光引发剂、其他助剂和有机溶剂。4.根据权利要求3所述的减反射膜，其特征在于，所述吸蓝光涂液包括主剂40
‑
50份，光引发剂1
‑
3份，吸蓝光助剂1
‑
2份，其他助剂1
‑
5份；有机溶剂与上述主剂、光引发剂、吸蓝光助剂、其他助剂共100份，所述份数为重量份。5.根据权利要求1所述的减反射膜，其特征在于，所述减反射层从下至上包括第一折射率层、第二折射率层和第三折射率层。6.根据权利要求5所述的减反射膜，其特征在于，所述第一折射率层材质选自氮化硅或...

【专利技术属性】
技术研发人员：李刚，高斌基，夏寅，缪锴，李瑞鑫，张彦，唐海江，
申请(专利权)人：宁波激智科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：