一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖及其制备方法，涉及瓷砖技术领域。其中，所述具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、纹理层和蜡质保护釉层，所述纹理层由精雕墨水和下陷墨水烧制形成，具有深度更大的凹陷纹理，有更强的立体感；所述蜡质保护釉层覆盖所述纹理层的区域在烧制后形成凹陷区域，所述凹陷区域的部分位置镶嵌有干粒釉，使得形成的釉面纹理更加丰富，层次感强，且立体感明显。且立体感明显。且立体感明显。

【技术实现步骤摘要】
一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及瓷砖
，特别涉及一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着人们生活水平的提高，人们对于陶瓷砖的品质和装饰效果的追求也越来越高。为了顺应这种市场需求，具有不同手感以及光泽度的陶瓷产品应运而生，其中不少产品以具有立体图案效果作为卖点吸引客户，但是从臻石釉陶瓷砖到肌肤釉陶瓷砖，再到最新的蜡质釉陶瓷砖，都只是通过更换面釉的配方以达到釉面手感更迭，而陶瓷砖上的所谓立体图案大多只是通过色彩搭配来形成，不会对釉面手感产生影响。因此，目前产品的釉面效果比较单一，缺乏立体感和层次感。
[0003]为了营造立体效果，目前有部分产品采用精雕釉以形成凹陷的纹理效果，但是精雕釉所形成凹纹深度不够，立体感不够强。
[0004]可见，现有技术还有待改进和提高。

技术实现思路

[0005]鉴于上述现有技术的不足之处，本专利技术的目的在于提供一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖及其制备方法，旨在解决现有技术中陶瓷砖釉面的层次感和立体感不足的技术问题。
[0006]为了达到上述目的，本专利技术采取了以下技术方案：一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、纹理层和蜡质保护釉层；所述蜡质保护釉层覆盖所述纹理层的区域在烧制后形成凹陷区域，所述凹陷区域的部分位置镶嵌有干粒釉；所述纹理层由精雕墨水和下陷墨水烧制形成。
[0007]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述精雕墨水和下陷墨水层叠设置，打印灰度为30～80；精雕墨水与下陷墨水所形成的纹理线条宽度为0.5～2.5毫米。
[0008]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述精雕墨水的制备原料按重量百分比计包括：亚光熔块35%～45%、钒酸锌2%～10%、聚乙二醇分散剂3%～6%、消泡剂0.3%～0.8%、苯甲酸异癸酯15%～25%、环己烷10%～20%、溶剂油20%～30%。
[0009]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述亚光熔块的化学组分按重量百分比计包括：SiO
2 48%～50%、Al2O
3 12%～14%、MgO 0.5%～0.8%、CaO 8%～11%、Na2O 1%～2%、K2O 4%～6%、BaO 10%～13%、ZnO 4.5%～6%、B2O
3 1%～3%、灼减0.15%～0.3%，余量为杂质。
[0010]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述下陷墨水的制备原料按重量百分比计包括：下陷釉40%～50%、丙烯酸树酯5%～10%、聚乙二醇分散剂3%～6%、消泡剂0.3%～0.8%、二乙二醇丁醚醋酸酯33.2%～51.7%。
[0011]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述下陷釉的化学组分按重量百
分比计包括：V2O
5 10%～20%、Bi2O
3 9%～25%、BaO10%～15%、ZnO 2%～5%、SiO
2 30%～40%、Al2O
3 3%～6%、Na2O 0.5%～1.5%、K2O 1.5%～3.5%。
[0012]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其中，所述干粒釉为亮光干粒釉或亚光干粒釉。
[0013]一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖的制备方法，用于制备如上所述的蜡质陶瓷砖，包括如下步骤：S1.在坯体上布施底釉，以在烧制后形成底釉层；S2.在布施有所述底釉的坯体层表面喷墨打印图案，然后喷墨打印精雕墨水和下陷墨水，所述精雕墨水和下陷墨水的打印位置重合，以在烧制后形成纹理层；S3.在喷墨打印有图案、精雕墨水和下陷墨水的坯体层表面布施蜡质保护釉，以在烧制后形成蜡质保护釉层，所述蜡质保护釉层覆盖所述纹理层的区域形成凹陷区域；S4.根据设计需要在所述坯体层表面打印有精雕墨水和下陷墨水的位置印刷干粒釉，所述干粒釉在烧制后与所述凹陷区域的蜡质保护釉层熔融镶嵌；S5.对所述印刷有干粒釉的坯体层进行烧制处理，烧制完成后再对坯体层表面进行刷抛处理，制得具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖。
[0014]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖的制备方法，其中，所述打印有精雕墨水和下陷墨水的位置印刷干粒釉的步骤中，采用丝网印刷工艺印刷干粒釉。
[0015]所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖的制备方法，其中，所述蜡质保护釉的制备原料按重量份数计包括：钾长石20～25份、钠长石15～20份、方解石10～15份、硅灰石5～10份、高岭土10～15份、白云石4～8份、氧化锌2～6份、氧化铝1～5份、碳酸锶2～5份、碳酸钡5～10份、滑石2～5份。
[0016]有益效果：本专利技术提供了一种具有立体装饰效果的的蜡质陶瓷砖，包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、纹理层和蜡质保护釉层，所述蜡质保护釉层覆盖所述纹理层的区域在烧制后形成凹陷区域，所述凹陷区域的部分位置镶嵌有熔融的干粒釉。通过纹理层、蜡质保护釉层和干粒层之间的搭配，形成的釉面纹理丰富，层次感强，且立体感明显。所述纹理层通过精雕墨水和下陷墨水釉烧制后形成，可以形成深度更大的凹陷纹理，使立体感更强。
[0017]本专利技术还提供了一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖的制备方法，通过精雕墨水、下陷墨水釉与蜡质保护釉的排斥作用，使蜡质保护釉布施在精雕墨水和下陷墨水釉上后形成多种光泽和不同凹陷程度的区域，再通过在部分区域上印刷干粒釉，使烧制后的陶瓷砖釉面不仅具有凹陷的纹理，部分纹理还镶嵌有干粒层。釉面由不同材质形成的纹理在形状上协调统一，并具有不同的光泽度和手感，使釉面具有丰富的视觉效果和较强的立体感。
附图说明
[0018]图1为本专利技术提供的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖烧制后的结构示意图。
[0019]图2为具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖在烧制前的结构示意图。
[0020]图1和图2中主要元件符号说明：1
‑
坯体层，2
‑
底釉层，3
‑
纹理层，4
‑
蜡质保护釉层，5
‑
干粒层，6
‑
底釉，7
‑
图案，8
‑
精雕墨水，9
‑
下陷墨水，10
‑
蜡质保护釉，11
‑
干粒釉。
[0021]图3为实施例1的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0022]图4为实施例2的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0023]图5为实施例3的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0024]图6为实施例4的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0025]图7为实施例5的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0026]图8为对比例1的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0027]图9为对比例2的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0028]图10为对比例3的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0029]图11为对比例4的蜡质陶瓷砖的实物图。
[0030]图12为对比例5的蜡质陶瓷砖的实物图。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、纹理层和蜡质保护釉层；所述蜡质保护釉层覆盖所述纹理层的区域在烧制后形成凹陷区域，所述凹陷区域的部分位置镶嵌有干粒釉；所述纹理层由精雕墨水和下陷墨水烧制形成。2.根据权利要求1所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，所述精雕墨水和下陷墨水层叠设置，打印灰度为30～80；精雕墨水与下陷墨水所形成的纹理线条宽度为0.5～2.5毫米。3.根据权利要求2所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，所述精雕墨水的制备原料按重量百分比计包括：亚光熔块35%～45%、钒酸锌2%～10%、聚乙二醇分散剂3%～6%、消泡剂0.3%～0.8%、苯甲酸异癸酯15%～25%、环己烷10%～20%、溶剂油20%～30%。4.根据权利要求3所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，所述亚光熔块的化学组分按重量百分比计包括：SiO
2 48%～50%、Al2O
3 12%～14%、MgO 0.5%～0.8%、CaO 8%～11%、Na2O 1%～2%、K2O 4%～6%、BaO 10%～13%、ZnO 4.5%～6%、B2O
3 1%～3%、灼减0.15%～0.3%，余量为杂质。5.根据权利要求2所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，所述下陷墨水的制备原料按重量百分比计包括：下陷釉40%～50%、丙烯酸树酯5%～10%、聚乙二醇分散剂3%～6%、消泡剂0.3%～0.8%、二乙二醇丁醚醋酸酯33.2%～51.7%。6.根据权利要求5所述的具有立体装饰效果的蜡质陶瓷砖，其特征在于，所述下陷釉的化学组分按重量百分比计包括：V2O
5 10%～20%、Bi2O
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【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，谢石长，单红丽，郭向召，徐童，田冲，梁平英，苏启港，王向桥，王秀芬，朱少强，戴志梅，袁小娣，黄诗程，李辉，简润桐，叶德林，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司新明珠广东新材料有限公司江西新明珠建材有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：