本实用新型专利技术提供了一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统，涉及多晶硅生产设备技术领域。该还原炉喷涂装置包括：支撑底座，用于固定安装还原炉，所述支撑底座内部与所述还原炉内部形成有一容置空间；第一驱动机构，设置于所述容置空间内；喷涂组件，与所述第一驱动机构固定连接，所述喷涂组件用于向所述还原炉的内壁喷涂涂料；其中，所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件进行轴向运动和/或圆周运动。本实用新型专利技术的方案，解决了现有技术在对还原炉内壁进行喷涂时，需要将还原炉高速旋转所带来的安全性低且能耗成本大的问题。性低且能耗成本大的问题。性低且能耗成本大的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统
[0001]本技术涉及多晶硅生产设备
，特别涉及一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统。
技术介绍
[0002]我国的多晶硅企业大多使用改良西门子法生产多晶硅。多晶硅在还原炉内沉积生长过程中的能量消耗包括热辐射损失、热对流损失以及化学气相沉积反应消耗，通过数值模拟研究发现，热辐射损失是最主要的能量消耗方式，占总能量消耗的60％～75％。
[0003]热辐射自高温多晶硅棒表面产生，因不锈钢材料的红外反射率较低，绝大部分被不锈钢材料吸收而转化为热能，并通过热传导传递给还原炉冷却水。此外，生产过程中还原炉内存在高温氯腐蚀情况，导致壁面粗糙度升高，微硅粉/高氯硅烷聚合物会更容易附着在壁面上，进一步降低了还原炉内壁红外反射率。因此，多晶硅沉积生长过程中，辐射能大量损失是改良西门子法目前面临的主要问题。因此，开发高红外反射率、耐高温氯腐蚀的还原炉内壁涂层，对多晶硅企业节能降耗具有十分重要的意义。
[0004]目前，通常使用热喷涂或冷喷涂制备还原炉涂层，还原炉垂直放置在旋转底座上，通过传动结构带动还原炉径向旋转；喷涂设备的喷枪伸入至还原炉内部，喷枪沿还原炉内壁运动进行喷涂。为保证喷涂质量，还原炉旋转时炉壁线速度应大于2m/s，但由于还原炉并非是完全对称结构，旋转时可能出现偏心导致炉体移动发生安全事故。此外，还原炉的重量一般会超过20吨，要使还原炉高速稳定旋转的机构造价成本较高，能量消耗也极大。
技术实现思路
[0005]本技术实施例提供一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统，以解决现有技术在对还原炉内壁进行喷涂时，需要将还原炉高速旋转所带来的安全性低且能耗成本大的问题。
[0006]为了解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
[0007]依据本技术的一个方面，提供了一种还原炉喷涂装置，包括：
[0008]支撑底座，用于固定安装还原炉，所述支撑底座内部与所述还原炉内部形成有一容置空间；
[0009]第一驱动机构，设置于所述容置空间内；
[0010]喷涂组件，与所述第一驱动机构固定连接，所述喷涂组件用于向所述还原炉的内壁喷涂涂料；
[0011]其中，所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件进行轴向运动和/或圆周运动。
[0012]可选地，所述第一驱动机构包括：
[0013]升降平台，所述升降平台与所述支撑底座同轴设置；
[0014]机械臂，所述机械臂的一端固定安装在所述升降平台上，所述机械臂的另一端与所述喷涂组件固定连接；
[0015]第一驱动结构，所述第一驱动结构与所述升降平台和所述机械臂电连接，所述第一驱动结构用于驱动所述升降平台做轴向运动，以及驱动所述机械臂带动所述喷涂组件做圆周运动。
[0016]可选地，所述支撑底座的侧壁上设置有进风口和出风口，所述进风口连通所述支撑底座外部和所述容置空间。
[0017]可选地，所述还原炉喷涂装置还包括：
[0018]除尘结构，与所述喷涂组件固定连接，所述除尘结构用于通过所述出风口，将所述容置空间内的粉状或气状物质抽出至所述容置空间外部。
[0019]可选地，所述除尘结构包括：
[0020]吸尘管道、收尘口和第二驱动机构；
[0021]其中，所述吸尘管道呈管状，所述吸尘管道的一端与所述收尘口连接，所述吸尘管道的另一端穿过所述出风口并延伸至所述容置空间外部，与所述第二驱动机构连接，所述收尘口和所述第二驱动机构通过所述吸尘管道连通；
[0022]所述收尘口固定安装在所述喷涂组件的下方；
[0023]所述第二驱动机构设置在所述还原炉外部，用于通过所述吸尘管道从所述容置空间内部向所述容置空间外部抽气。
[0024]可选地，所述支撑底座具有一圆盘状底面，沿所述底面边缘向垂直所述底面的方向凸设有支撑凸台；
[0025]所述支撑凸台上远离所述底面的第一端面呈台阶状，所述第一端面包括第一台阶面和第二台阶面，所述第二台阶面的内径小于所述第一台阶面的内径，且所述第二台阶面距离所述底面的高度小于所述第一台阶面距离所述底面的高度。
[0026]可选地，所述第一台阶面和所述第二台阶面上均设置有第一安装孔，定位销穿过所述还原炉上的第二安装孔，将所述还原炉固定于所述第一台阶面或所述第二台阶面上。
[0027]依据本技术的另一个方面，提供了一种还原炉喷涂系统，包括如上所述的还原炉喷涂装置，还包括：
[0028]还原炉，所述还原炉与支撑底座同轴设置，所述还原炉的外壁上分别设置有进口和出口，所述还原炉的内壁和外壁之间形成有中空部，所述进口和所述出口通过所述中空部连通。
[0029]可选地，所述中空部内灌装有流体物质。
[0030]可选地，所述还原炉喷涂系统还包括：
[0031]测温机构，设置于所述容置空间内，所述测温机构用于测量所述还原炉的内壁的温度。
[0032]本技术的有益效果是：
[0033]上述方案，通过设置第一驱动机构，能够驱动喷涂组件在还原炉内进行圆周运动和/或轴向运动，从而使得喷涂组件能够向还原炉的内壁的各处喷涂涂料，而不必旋转还原炉，从而避免了还原炉旋转所带来的安全性问题，降低了喷涂成本。
附图说明
[0034]图1表示本技术实施例提供的还原炉喷涂装置的结构示意图。
[0035]附图标记说明：
[0036]100
‑
支撑底座；101
‑
进风口；102
‑
支撑凸台；103
‑
定位销；200
‑
还原炉；201
‑
进口；202
‑
出口；300
‑
喷涂组件；400
‑
升降平台；500
‑
机械臂；600
‑
除尘结构；601
‑
吸尘管道；602
‑
收尘口。
具体实施方式
[0037]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本技术进行详细描述。
[0038]本技术针对现有技术在对还原炉内壁进行喷涂时，需要将还原炉高速旋转所带来的安全性低且能耗成本大的问题，提供一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统。
[0039]如图1所示，本技术其中一实施例提供一种还原炉喷涂装置，包括：
[0040]支撑底座100，用于固定安装还原炉200，所述支撑底座100内部与所述还原炉200内部形成有一容置空间；
[0041]第一驱动机构，设置于所述容置空间内；
[0042]喷涂组件300，与所述第一驱动机构固定连接，所述喷涂组件300用于向所述还原炉200的内壁喷涂涂料；
[0043]其中，所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件300进行轴向运动和/或圆周运动。
[0044]这里，支撑底座100用于放置本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种还原炉喷涂装置，其特征在于，包括：支撑底座(100)，用于固定安装还原炉(200)，所述支撑底座(100)内部与所述还原炉(200)内部形成有一容置空间；第一驱动机构，设置于所述容置空间内；喷涂组件(300)，与所述第一驱动机构固定连接，所述喷涂组件(300)用于向所述还原炉(200)的内壁喷涂涂料；其中，所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件(300)进行轴向运动和/或圆周运动。2.根据权利要求1所述的还原炉喷涂装置，其特征在于，所述第一驱动机构包括：升降平台(400)，所述升降平台(400)与所述支撑底座(100)同轴设置；机械臂(500)，所述机械臂(500)的一端固定安装在所述升降平台(400)上，所述机械臂(500)的另一端与所述喷涂组件(300)固定连接；第一驱动结构，所述第一驱动结构与所述升降平台(400)和所述机械臂(500)电连接，所述第一驱动结构用于驱动所述升降平台(400)做轴向运动，以及驱动所述机械臂(500)带动所述喷涂组件(300)做圆周运动。3.根据权利要求1所述的还原炉喷涂装置，其特征在于，所述支撑底座(100)的侧壁上设置有进风口(101)和出风口，所述进风口(101)连通所述支撑底座(100)外部和所述容置空间。4.根据权利要求3所述的还原炉喷涂装置，其特征在于，还包括：除尘结构(600)，与所述喷涂组件(300)固定连接，所述除尘结构(600)用于通过所述出风口，将所述容置空间内的粉状或气状物质抽出至所述容置空间外部。5.根据权利要求4所述的还原炉喷涂装置，其特征在于，所述除尘结构(600)包括：吸尘管道(601)、收尘口(602)和第二驱动机构；其中，所述吸尘管道(601)呈管状，所述吸尘管道(601)的一端与所述收尘口(602)连接，所述吸尘管道...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴万里，冯留建，刘浩，周克虎，陈肖华，
申请(专利权)人：新特能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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