本发明专利技术提供一种光谱仪的超窄狭缝的防尘装置，包括：超窄狭缝设置在狭缝基板的中轴线位置上，狭缝基板的入光面的中轴线位置开有限位槽，用于安装第一防尘玻璃，第一防尘玻璃采用完全封闭的方式安装；狭缝基板的出光面的中轴线位置设置有两块刃口板，刃口板的中轴线外侧位置开有限位槽，用于安装第二防尘玻璃，第二防尘玻璃的较长端的边缘位置开有透气缝隙，透气缝隙的宽度小于或等于0.5mm；第一防尘玻璃和第二防尘玻璃均采用石英材料，其厚度均为0.5mm，其面形精度均为其表面均镀有增透膜。本发明专利技术通过优化设计狭缝两端的防尘玻璃材料、形状、厚度、膜系等参数，并通过防尘玻璃的安装位置以及不完全封闭口的设计，实现空间光谱仪的狭缝污染问题。谱仪的狭缝污染问题。谱仪的狭缝污染问题。
【技术实现步骤摘要】
光谱仪的超窄狭缝的防尘装置
[0001]本专利技术涉及空间光学
，具体提供一种应用于空间对日成像光谱仪的超窄狭缝的防尘装置。
技术介绍
[0002]空间对日成像光谱仪中的狭缝是分光的核心器件，狭缝位于光学系统的像面处，狭缝的宽度决定了光谱仪光学系统的能量和光谱分辨率。当狭缝宽度低于10um时，即为超窄狭缝，由于空气中的杂质和微尘直径通常小于500um，还有很多小于10um的悬浮粒子，即PM10，悬浮粒子和灰尘很容易吸附在狭缝上，一旦吸附在狭缝上，则会给成像光谱仪器带来灾难性的后果，即光谱仪的成像视场会被遮挡，丢失有效成像信息。同时因狭缝位于成像光谱仪的内部光路，光谱仪集成装配完成后无法对其进行除尘清理，因此成像光谱仪的各种测试和试验均需在超净的实验室内进行，尽管如此，万级洁净度的实验室也会存在灰尘，一旦出现灰尘落到狭缝的现象，将会按照灰尘的大小评估成像光谱仪的破坏情况，严重时只能将光谱仪拆解重新装配，导致大量的时间和经费损失，因此迫切需要对狭缝的防尘进行专门设计。
技术实现思路
[0003]本专利技术为解决上述问题，提供了一种光谱仪的超窄狭缝的防尘装置，主要通过优化设计狭缝两端的防尘玻璃材料、形状、厚度、膜系等参数，并通过防尘玻璃的安装位置以及不完全封闭口的设计，实现空间光谱仪的狭缝污染问题。
[0004]本专利技术提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置，包括：
[0005]超窄狭缝设置在狭缝基板的中轴线位置上，狭缝基板的入光面的中轴线位置开有限位槽，用于安装第一防尘玻璃，第一防尘玻璃采用完全封闭的方式安装；
[0006]狭缝基板的出光面的中轴线位置设置有两块刃口板，刃口板的中轴线外侧位置开有限位槽，用于安装第二防尘玻璃，第二防尘玻璃的较长端的边缘位置开有透气缝隙，透气缝隙的宽度小于或等于0.5mm；
[0007]第一防尘玻璃和第二防尘玻璃均采用石英材料，其厚度均为0.5mm，其面形精度均为λ表示波长，λ为632.8nm，其表面均镀有增透膜。
[0008]优选的，增透膜外侧还贴有保护膜。
[0009]优选的，狭缝基板的出光面还设置有定位孔。
[0010]优选的，第一防尘玻璃和第二防尘玻璃均采用聚酯类硅橡胶固定在限位槽内。
[0011]优选的，第一防尘玻璃和第二防尘玻璃均采用先镀增透膜和保护膜，再进行切割成型的方式制成，用于保证其面形精度不发生改变。
[0012]与现有技术相比，本专利技术能够取得如下有益效果：
[0013]本专利技术通过优化设计狭缝两端的防尘玻璃材料、形状、厚度、膜系等参数，并采用
超薄防尘玻璃不完全封闭的方式，可以有效防止光谱仪在地面装调和试验过程中灰尘进入超窄狭缝，保证了光谱仪的成像完整性，本专利技术从设计和工艺上解决了超窄狭缝的污染问题，对各种成像光谱仪的狭缝防尘均有很好的借鉴意义。
附图说明
[0014]图1是根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的剖视图；
[0015]图2是根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的入光侧示意图；
[0016]图3是根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的出光侧示意图。
[0017]其中的附图标记包括：
[0018]第一防尘玻璃1、第二防尘玻璃2、透气缝隙21、狭缝基板3、刃口板4。
具体实施方式
[0019]在下文中，将参考附图描述本专利技术的实施例。在下面的描述中，相同的模块使用相同的附图标记表示。在相同的附图标记的情况下，它们的名称和功能也相同。因此，将不重复其详细描述。
[0020]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，而不构成对本专利技术的限制。
[0021]图1示出了根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的剖视结构。
[0022]图2示出了根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的入光侧结构。
[0023]图3示出了根据本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置的出光侧结构。
[0024]如图1、图2、图3所示，本专利技术实施例以某种对日成像光谱仪的超窄刃口形狭缝为例，阐述超窄狭缝的防尘装置的具体结构和工作原理，其中超窄刃口形狭缝也可采用其他形式的超窄狭缝。
[0025]本专利技术实施例提供的光谱仪的超窄狭缝的防尘装置，定义第一防尘玻璃1的所在面为光线的入光面，第二防尘玻璃2的所在面为光线的出光面，狭缝基板3的出光面的中轴线位置设置有两块刃口板4，刃口板4的中轴线外侧位置开有限位槽，用于安装第二防尘玻璃2，第二防尘玻璃2通过聚酯类硅橡胶固定在限位槽内，第二防尘玻璃2的较长端的边缘位置开有透气缝隙21，透气缝隙21的宽度约为0.5mm，设置透气缝隙21用于保证超窄狭缝处的气压平衡，防止气压导致装置发生形变；狭缝基板3的出光面还设置有定位孔。
[0026]两块刃口板4为超窄刃口形，超窄狭缝的缝宽为8um，两块刃口板4通过狭缝基板3相对固定，超窄狭缝设置在狭缝基板3的中轴线位置上，狭缝基板3的入光面的中轴线位置开有限位槽，用于安装第一防尘玻璃1，第一防尘玻璃1通过聚酯类硅橡胶固定在限位槽内，采用完全封闭的方式安装，第一防尘玻璃1和第二防尘玻璃2均采用聚酯类硅橡胶固定，有利于实现抗震减震。
[0027]第一防尘玻璃1和第二防尘玻璃2均采用石英材料，其厚度均为0.5mm，其面形精度
均为λ表示波长，λ为632.8nm，其表面均镀有增透膜，增透膜外表面还贴有保护膜，第一防尘玻璃1和第二防尘玻璃2均采用先镀膜后切割加工的工艺制成，用于最大化保证其面形精度不发生改变。此外透气缝隙21的内侧和外侧还可设置迷宫结构，进一步防止灰尘进入
[0028]尽管上面已经示出和描述了本专利技术的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本专利技术的限制。本领域的普通技术人员在本专利技术的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
[0029]以上本专利技术的具体实施方式，并不构成对本专利技术保护范围的限定。任何根据本专利技术的技术构思所做出的各种其他相应的改变与变形，均应包含在本专利技术权利要求的保护范围内。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光谱仪的超窄狭缝的防尘装置，其特征在于，包括：超窄狭缝设置在狭缝基板的中轴线位置上，所述狭缝基板的入光面的中轴线位置开有限位槽，用于安装第一防尘玻璃，所述第一防尘玻璃采用完全封闭的方式安装；所述狭缝基板的出光面的中轴线位置设置有两块刃口板，所述刃口板的中轴线外侧位置开有限位槽，用于安装第二防尘玻璃，所述第二防尘玻璃的较长端的边缘位置开有透气缝隙，所述透气缝隙的宽度小于或等于0.5mm；所述第一防尘玻璃和所述第二防尘玻璃均采用石英材料，其厚度均为0.5mm，其面形精度均为λ表示波长，λ为632.8nm，其表面均...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘强，韩诚山，刘磊，胡庆龙，杨亮，梅贵，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：
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