【技术实现步骤摘要】
对位芳纶的溶解体系及其应用、芳纶隔膜及其制备方法、芳纶陶瓷复合隔膜及其制备方法
[0001]本申请涉及芳纶溶解
,具体而言,涉及一种对位芳纶的溶解体系及其应用、芳纶隔膜及其制备方法、芳纶陶瓷复合隔膜及其制备方法。
技术介绍
[0002]对位芳纶在纺丝、化学改性以及加工过程中往往需要将其溶解掉,然后才可以进行下一步的反应或者工序。所以如何得到一种简单、高效的溶解对位芳纶的方法显得极其重要。
[0003]对于对位芳纶的溶解,目前最常用的溶解方法为浓硫酸溶解,但是浓硫酸具有极强的腐蚀性,该方法对设备和生产人员都有直接或者潜在的损害。目前的另一种方法为采用非质子型强极性溶剂配合作为助溶剂的盐来溶解,但是这种溶解方法通常需要很长的溶解时间。
技术实现思路
[0004]本申请的目的在于提供一种对位芳纶的溶解体系及其应用、芳纶隔膜及其制备方法、芳纶陶瓷复合隔膜及其制备方法,能改善溶解损害大、溶解时间长的问题。
[0005]本申请的实施例是这样实现的:
[0006]第一方面,本申请实施例提供一种对位芳纶的溶解体系,包括质子供体、溶剂以及助溶剂,溶剂的主要成分为非质子型强极性溶剂,助溶剂包括强碱。
[0007]第二方面,本申请实施例提供一种如上述实施例的对位芳纶的溶解体系在溶解对位芳纶中的应用,包括:将对位芳纶在对位芳纶的溶解体系中进行溶解处理。
[0008]第三方面,本申请实施例提供一种芳纶隔膜的制备方法,包括:将上述实施例的应用形成的溶解后的对位芳纶浆料涂布在多孔基膜的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种对位芳纶的溶解体系,其特征在于,包括:质子供体;溶剂,所述溶剂的主要成分为非质子型强极性溶剂;以及助溶剂,所述助溶剂包括强碱。2.根据权利要求1所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述质子供体为水或者有机质子酸。3.根据权利要求1或2所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述质子供体与所述溶剂的质量比为(0.01~10):100。4.根据权利要求1所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述非质子型强极性溶剂包括DMAc、DMF、NMP和DMSO中的一种或多种。5.根据权利要求1或4所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述溶剂满足以下条件(a)~(d)中的一项;(a)所述溶剂由一种所述非质子型强极性溶剂组成;(b)所述溶剂由两种所述非质子型强极性溶剂组成;(c)所述溶剂包括所述非质子型强极性溶剂和非质子型极性溶剂,所述非质子型极性溶剂包括甲醇、乙醇和丙酮中的一种或多种;在所述溶剂中,所述非质子型强极性溶剂的质量占比为80%~99.9%;(d)所述溶剂包括所述非质子型强极性溶剂和水;在所述溶剂中,所述非质子型强极性溶剂的质量占比为90%~99.99%。6.根据权利要求5所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述溶剂满足条件(a),其中,所述溶剂由DMAc、DMF和NMP中的一种组成。7.根据权利要求5所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述溶剂满足条件(b),其中,所述溶剂由DMAc、DMF和NMP中的一种和DMSO组成,在所述溶剂中,DMSO的质量占比wt1满足0.1%≤wt1<50%。8.根据权利要求7所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述溶剂由DMAc和DMSO组成,在所述溶剂中,DMSO的质量占比wt1满足wt1≤5%。9.根据权利要求1所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述强碱包括NaH、KH、t
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BuOK、KOH、NaOH、C2H5ONa中的一种或多种。10.根据权利要求1或9所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述助溶剂还包括碱式盐,所述碱式盐包括LiCl、NaCl、KCl和CaCl2中的一种或多种。11.根据权利要求10所述的对位芳纶的溶解体系,其特征在于,所述助溶剂中,所述碱式盐的摩尔占比wn1满足1%≤wn1≤50%。12.一种如权利要求1~11中任一项所述的对位芳纶的溶解体系在溶解对位芳纶中的应用,其特征在于,包括:将对位芳纶在所述对位芳纶的溶解体系中进行溶解处...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹大为,周广盖,蒋广翔,陈永乐,廖晨博,马芸,孙照伟,李文强,虞少波,庄志,程跃,
申请(专利权)人:上海恩捷新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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