本发明专利技术公开了一种多栅极射频离子源,包括:定位架、横摆组件、轴摆组件和射频离子源,轴摆组件嵌入安装于定位架内壁的两侧,且轴摆组件的一侧与横摆组件的表面固定连接,横摆组件包括偏摆架、垂摆架、拼接块和抱接板,偏摆架和垂摆架的数量均匀两个且呈对称布置,两组偏摆架和垂摆架通过拼接块相互拼接组合成框型结构,垂摆架的内侧开设有偏摆槽。本发明专利技术中,通过设置新型安装摆架结构,在射频离子源工作过程中发生机械震颤,由垂摆架和轴摆组件将该机械震颤通过共振的行驶进行放大,使射频离子源在工作中可通过横摆组件的轴向摆动和横向摆动实现射频离子源的自由运动,提高射流工作范围,并均匀镀膜。并均匀镀膜。并均匀镀膜。
【技术实现步骤摘要】
一种多栅极射频离子源
[0001]本专利技术涉及射频离子源
,具体为一种多栅极射频离子源。
技术介绍
[0002]射频离子源系统是一种使中性原子或分子电离并从中提取离子束的装置。随着离子源技术的不断发展,其在涂料中的应用越来越广泛,对离子源本身的要求也越来越高。离子源技术种类繁多,如何选择合适的离子源已成为涂料应用的重要环节,射频离子源通过射频电离产生等离子体,再通过栅网电场加速,使正离子加速产生离子束;射频离子源通过射频电离气体,一般连续工作时间可以到达1000小时以上,具有没有耗材、使用时间长以及发热量小的优点。
[0003]现有的多栅极射频离子源在喷涂镀膜过程中主要通过离子源的电场加速作用作为动能,实现离子源涂附着,其扩散角较小导致作用范围有限,为提高其作用区域常采用大直径多栅极射频离子源结构,或使用多组离子源进行共同作用,但在实际操作中,作用面积的增大即会同步造成作用面的不均匀分布,使成膜厚度不均,存在一定缺陷。有鉴于此,针对现有的问题予以研究改良,提供一种多栅极射频离子源,来解决目前存在的问题,旨在通过该技术,达到解决问题与提高实用价值性的目的。
技术实现思路
[0004]本专利技术旨在解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
[0005]为此,本专利技术所采用的技术方案为:一种多栅极射频离子源,包括:定位架、横摆组件、轴摆组件和射频离子源,所述轴摆组件嵌入安装于定位架内壁的两侧,且轴摆组件的一侧与横摆组件的表面固定连接,所述横摆组件包括偏摆架、垂摆架、拼接块和抱接板,所述偏摆架和垂摆架的数量均匀两个且呈对称布置,两组所述偏摆架和垂摆架通过拼接块相互拼接组合成框型结构,所述垂摆架的内侧开设有偏摆槽,所述垂摆架的表面滑动套接有与抱接板端部固定连接的摆滑条,所述摆滑条的底面和垂摆架的内侧固定连接有第一连接条,所述第一连接条的底端固定连接有位于偏摆槽内侧的重垂块,所述射频离子源固定套接于抱接板的表面;所述轴摆组件包括轴摆盘、轴摆件、第二连接条和联动座,所述轴摆盘、轴摆件、第二连接条的数量为三组并呈层叠状依次连接,所述轴摆件为三角状,所述第二连接条位于轴摆件的角平分线上且一端与轴摆件的内侧固定连接,三个所述联动座的表面设有依次贯穿三个轴摆件的连接销,所述轴摆件的表面固定安装有弹片;所述射频离子源包括防护壳体、石英杯、驱动电机和固定套接于驱动电机输出端的气导盘和分散导盘以及位于防护壳体内侧的电离组件,所述防护壳体的顶面固定安装有栅网,所述栅网的端部电连接有电场发生器,所述驱动电机固定安装于石英杯的内侧,所述气导盘固定套接于分散导盘的外周。
[0006]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述定位架和横摆组件均呈框型结构,所述偏摆架呈等腰梯形结构,且偏摆架的一侧与联动座的表面固定连接。
[0007]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述第一连接条和第二连接条为低碳钢片结构,所述第一连接条和第二连接条的共振频率相同。
[0008]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述轴摆盘的内侧开设有轴摆槽,所述轴摆件和第二连接条位于轴摆槽的内侧,且第二连接条的一端与轴摆槽的内侧固定连接,所述轴摆件的表面设有位于轴摆件三角的离心垂块。
[0009]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:三个所述轴摆件依次偏转60
°
后相互贴合连接,所述弹片对称分布于轴摆件的表面且与轴摆槽的内侧相对布置。
[0010]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述栅网呈圆环状且表面呈锥面结构,所述栅网的底面固定连接有位于分散导盘正上方的导隔环。
[0011]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述分散导盘的表面设有若干导流片,所述导流片呈三棱柱状,所述分散导盘的表面设有多干位于石英杯正上方的通孔。
[0012]本专利技术在一较佳示例中可以进一步配置为:所述电离组件固定于石英杯的底面,所述防护壳体的内侧和石英杯外侧之间设有通风间隙,所述防护壳体的底面设有进气导口,所述分散导盘的直径与石英杯的直径相同且分散导盘与石英杯的圆心位于同一竖直线上。
[0013]本专利技术所取得的有益效果为:1.本专利技术中,通过设置新型安装摆架结构,在射频离子源工作过程中发生机械震颤,由垂摆架和轴摆组件将该机械震颤通过共振的行驶进行放大,使射频离子源在工作中可通过横摆组件的轴向摆动和横向摆动实现射频离子源的自由运动,提高射流工作范围,并均匀镀膜。
[0014]2.本专利技术中,通过在射频离子源内部加装驱动电机、气导盘和分散导盘结构,由驱动电机驱动气导盘和分散导盘高速旋转运动,分别通过气导盘加速气流通入石英杯上方带动离子束喷射,并由分散导盘旋转进行离子束的曝散,从而利用气流运动带动离子束进行均匀曝散镀膜,进一步调高镀膜成型效果。
[0015]3.本专利技术中,由驱动电机在防护壳体内部带动驱动电机和气导盘运动发生机械震颤,并通过与该机械震颤频率相同的第一连接条和第二连接条共振运动,提供射频离子源的轴向摆动和横向摆动动能,设计精巧结构简单。
附图说明
[0016]图1为本专利技术一个实施例的整体结构示意图;图2为本专利技术一个实施例的横摆组件结构示意图;图3为本专利技术一个实施例的轴摆组件结构示意图;图4为本专利技术一个实施例的射频离子源截面结构示意图;图5为本专利技术一个实施例的垂摆架结构示意图;图6为本专利技术一个实施例的偏摆组件分解结构示意图;图7为本专利技术一个实施例的轴摆盘和轴摆件结构示意图。
[0017]附图标记:100、定位架;200、横摆组件;210、偏摆架;220、垂摆架;230、拼接块;240、抱接板;221、偏摆槽;
222、摆滑条;223、重垂块;224、第一连接条;300、轴摆组件;310、轴摆盘;320、轴摆件;330、第二连接条;340、联动座;311、轴摆槽;321、离心垂块;322、弹片;400、射频离子源;410、防护壳体;420、石英杯;430、驱动电机;440、气导盘;450、分散导盘;411、栅网;412、导隔环。
具体实施方式
[0018]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了,下面结合具体实施方式并参照附图,对本专利技术进一步详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本专利技术的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0019]下面结合附图描述本专利技术的一些实施例提供的一种多栅极射频离子源。
[0020]结合图1
‑
7所示,本专利技术提供的一种多栅极射频离子源,包括:定位架100、横摆组件200、轴摆组件300和射频离子源400,轴摆组件300嵌入安装于定位架100内壁的两侧,且轴摆组件300的一侧与横摆组件200的表面固定连接,横摆组件200包括偏摆架210、垂摆架220、拼接块230和抱接板240,偏摆架210和垂摆架220的数量均匀两个且呈对称布置,两组偏摆架210和垂摆架220通过拼接块230相互拼接组合成框型结构,垂摆架220的内侧开设有偏摆槽221,垂摆架220的表面滑动套接有与抱接板240端部固定连接本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种多栅极射频离子源,其特征在于,包括:定位架(100)、横摆组件(200)、轴摆组件(300)和射频离子源(400),所述轴摆组件(300)嵌入安装于定位架(100)内壁的两侧,且轴摆组件(300)的一侧与横摆组件(200)的表面固定连接,所述横摆组件(200)包括偏摆架(210)、垂摆架(220)、拼接块(230)和抱接板(240),所述偏摆架(210)和垂摆架(220)的数量均匀两个且呈对称布置,两组所述偏摆架(210)和垂摆架(220)通过拼接块(230)相互拼接组合成框型结构,所述垂摆架(220)的内侧开设有偏摆槽(221),所述垂摆架(220)的表面滑动套接有与抱接板(240)端部固定连接的摆滑条(222),所述摆滑条(222)的底面和垂摆架(220)的内侧固定连接有第一连接条(224),所述第一连接条(224)的底端固定连接有位于偏摆槽(221)内侧的重垂块(223),所述射频离子源(400)固定套接于抱接板(240)的表面;所述轴摆组件(300)包括轴摆盘(310)、轴摆件(320)、第二连接条(330)和联动座(340),所述轴摆盘(310)、轴摆件(320)、第二连接条(330)的数量为三组并呈层叠状依次连接,所述轴摆件(320)为三角状,所述第二连接条(330)位于轴摆件(320)的角平分线上且一端与轴摆件(320)的内侧固定连接,三个所述联动座(340)的表面设有依次贯穿三个轴摆件(320)的连接销,所述轴摆件(320)的表面固定安装有弹片(322);所述射频离子源(400)包括防护壳体(410)、石英杯(420)、驱动电机(430)和固定套接于驱动电机(430)输出端的气导盘(440)和分散导盘(450)以及位于防护壳体(410)内侧的电离组件,所述防护壳体(410)的顶面固定安装有栅网(411),所述栅网(411)的端部电连接有电场发生器,所述驱动电机(430)固定安装于石英杯(420)的内侧,所述气导盘(440)固定套接于分...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈晓东,
申请(专利权)人:常州鑫立离子技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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