【技术实现步骤摘要】
一种显影废液的生物处理方法
[0001]本专利技术涉及一种显影废液的生物处理方法。
技术介绍
[0002]在液晶面板生产的光刻工序中需要用显影液将未曝光部位的光刻胶溶解去除。四甲基氢氧化铵(Tetramethylammoniumhydroxide,TMAH),其分子式为(CH3)4NOH,属强有机碱,具有腐蚀性以及生物毒性,是电子行业最常用的显影液之一。在光刻工序去除光刻胶后会产生高浓度的显影废液,其TMAH浓度多为10000~24000mg/L。
[0003]现有显影废液处理工艺主要采用气浮/沉淀+高级氧化+生物处理组合工艺,即先去除显影废液中的光刻胶,而后通过化学方法或生物方法将TMAH转化为氨氮,最后将氨氮去除。高级氧化法包括Fenton、Fe
‑
C、O3/O3+H2O2、UV+S2O8、湿式氧化等,其可处理各种浓度的TMAH废液,但普遍存在投资及运行成本高昂、反应条件严苛(如高温、高压)等问题。生物法可分为好氧生物法和厌氧生物法,其运行成本远低于物化法。好氧生物法,如多级AO工艺,是目前液晶面板TMAH废液最常用的处理工艺,其对进水TMAH浓度有着严格的限制(TMAH<1000mg/L),难以处理大量高浓度的TMAH废液,同时好氧生物处理系统(多级AO)处理过程还存在药剂消耗量大、污泥产量高的问题。厌氧生物法对进水TMAH要求较宽泛(1000~10000mg/L)。研究表明,厌氧生物法对TMAH的降解速率是好氧生物法的5倍以上,总有机碳去除率及有机氮氨化率均在95%以上,但现有的厌氧 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显影废液的生物处理方法,其特征在于,具体为:先通过酸析和气浮工艺去除显影废液中溶解的光刻胶,再通过厌氧生物法将显影废液中的有机氮转化成氨氮,其中,在厌氧生物法中通过添加产氢药剂使厌氧生物反应器内产氢菌富集,抑制产甲烷菌生长;最后通过兼氧生物法将显影废液中的氨氮转化为氮气排出,兼氧生物法将短程硝化工艺和厌氧氨氧化工艺置于同一个反应器内进行自养生物脱氮。2.根据权利要求1所述的显影废液的生物处理方法,其特征在于:所述厌氧生物法中,将去除光刻胶的显影废液经提升泵送入厌氧生物反应器中,进入厌氧生物反应器中的显影废液的温度为32~38℃,显影废液中加入有磷酸氢二钠、微量元素和产氢药剂;往厌氧生物反应器中加入厌氧颗粒污泥,加泥量为22~25g/L;厌氧生物反应器容积负荷为6~9kg TMAH/(m3·
d),上升流速4.5~7m/h;厌氧生物反应器产气经水封罐进入碳酸吸收罐,去除其中的CO2后进入产气收集系统,厌氧生物反应器出水进入兼氧生物反应器进行处理。3.根据权利要求2所述的显影废液的生物处理方法,其特征在于:显影废液中,磷酸二氢钠加药量为废液中四甲基氢氧化铵质量的0.4~0.5%;每升微量元素中,包括1000mg MgSO4·
7H2O、100mg/L NaCl、100mg/L Na2MO4·
2H2O、100mg/L CaCl2·
2H2O和150mgMnSO4·
7H2O,溶剂为水;微量元素的加药量为0.5L/m3;产氢药剂的加药量1L/m3。4.根据权利要求2所述的显影废液的生物处理方法,其特征在于:每升所述产氢药剂中,包括0.1kg纳米铁颗粒、0.08kg Na2S、0.16kg Na2S2O3、0.2kg工业焦糖、0.04kg淀粉和0.12kg L
‑
半胱氨酸,溶剂为水。5.根据权利要求4所述的显影废液的生物处理方法,其特征在于:所述纳米铁颗粒采用如下方法制备而成:将磨碎的菱铁矿加入硫酸中,固液比为1:8~10,搅拌反应后,过滤;将滤出液、水和无水甲醇按体积比1:0.5:1.3~1.7混均后,得到混合液;往混合液中加入甘油脂肪酸酯,甘油脂肪酸酯的加药量为25~50mg/L;随后将溶液升温至45~60℃,加入水合肼,连续搅拌,搅拌后过滤,将过滤得到的纳米铁颗粒以水、无水甲醇反复冲洗,再置于70~80℃环境中烘干,得到平均粒径为40~100nm的纳米铁颗粒。6.根据权利要求1所述的显影废液的生物处理方法,其特征在于:所述兼氧生物法中,将经厌氧生物法处理后的显影废液经提升泵送入兼氧生物反应器中,进入兼氧生物反应器中的显影废液的温度为30~35℃,显影废液中加入有碳酸钠和微量元素,通过碳酸钠调节显影废液的pH为7.7~8.5,微量元素的加药量为0.5L/m3;往兼氧生物反应器中加入短程硝化颗粒污泥和厌氧氨氧化颗粒污泥,加泥量...
【专利技术属性】
技术研发人员:熊江磊,董全宇,罗嘉豪,于红,祺丹娜,申季刚,梅敏,
申请(专利权)人:江苏中电创新环境科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。