一种分离舱体电子束膜沉积设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种分离舱体电子束膜沉积设备，所述分离舱体电子枪膜沉积设备包括第一舱体和第二舱体，所述第一舱体位于第二舱体的下方，所述第一舱体设置有第一舱体门，第二舱体设置有第二舱体门，所述第一舱体门和第二舱体门均可独立打开或封闭；所述第二舱体设有第二真空系统，所述第一舱体设有第一真空系统；第二舱体和第一舱体之间设有隔板，所述隔板能够开启或关闭，隔板开启状态下，第二舱体和第一舱体之间连通；隔板关闭状态下，第二舱体和第一舱体成为各自封闭的独立舱体，本设备缩短了抽真空的时间，提高了工作效率和成品率，保证了蒸发物料的初始纯度，更好的保证镀膜的膜层质量。膜的膜层质量。膜的膜层质量。

【技术实现步骤摘要】
一种分离舱体电子束膜沉积设备


[0001]本技术属于电子束膜沉积设备
，具体为涉及一种分离舱体电子束膜沉积设备。

技术介绍

[0002]电子束膜沉积技术，或称电子束蒸发镀膜(Electron Beam Evaporation)是物理气相沉积的一种，其原理是利用电磁场的配合加速电子轰击坩埚内的膜材料，将电子的动能转换成热能使膜材料加热蒸发并在基材上沉积形成膜。电子束膜沉积设备在半导体、微电子、声表器件、航空航天、激光器、太阳能、机械、生物医药等领域有着广泛应用，然而随着科学技术的发展，使用其能连续生产并提高生产效率，也逐步有了更高的要求。
[0003]现有电子束膜沉积设备配置一般是整体式结构的工艺舱体，即载具和电子束蒸发系统在同一舱体内，由于舱体体积较大，且受温度和湿度的影响，抽真空的时间比较长，在工件膜沉积工艺完成或蒸发物料使用完，都需打开工艺舱体取出工件，装载工件或添加蒸发物料，无论哪种操作，在准备好后都需要对工艺舱体进行抽真空，故影响连续生产的效率，如遇蒸发物料使用完但工件还未镀完的情况，如打开工艺舱体添加蒸发物料，未执行完工艺的工件将全部报废，严重影响了生产效率和工件的合格率。

技术实现思路

[0004]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种分离舱体电子束膜沉积设备。采用双舱体设计，并且能独立开启发封闭，显著提高了蒸镀效率，提高了工件的合格率。
[0005]本技术完整的技术方案包括：
[0006]一种分离舱体电子束膜沉积设备，所述分离舱体电子枪膜沉积设备包括第一舱体和第二舱体，所述第一舱体位于第二舱体的下方，所述第一舱体设置有第一舱体门，第二舱体设置有第二舱体门，所述第一舱体门和第二舱体门均可独立打开或封闭；
[0007]所述第二舱体设有第二真空系统，所述第一舱体设有第一真空系统；
[0008]第二舱体和第一舱体之间设有隔板，所述隔板能够开启或关闭，隔板开启状态下，第二舱体和第一舱体之间连通；隔板关闭状态下，第二舱体和第一舱体成为各自封闭的独立舱体。
[0009]第二舱体和第一舱体之间使用支撑机构连接并实现固定支撑。
[0010]所述第二舱体内设有载具，载具上装载有工件。
[0011]所述第一舱体内设有电子枪蒸发源，电子枪蒸发源设有沉积所需材料。
[0012]第二舱体和第一舱体连通后形成膜沉积的整体工艺舱体。
[0013]膜沉积完成后，第二舱体和第一舱体封闭后，打开第二舱体门装载下批次的工件利用第二真空系统对第二舱体进行抽真空，此过程中第一舱体保持工艺要求的真空状态。
[0014]在某批次工件蒸镀工艺尚未完成但蒸发物料使用完的情况下，第二舱体和第一舱体封闭后，关闭隔板，使第二舱体保持在可进行膜沉积的真空工艺条件下，开启第一舱体并
添加蒸发物料，然后熔料至工艺所需的状态，打开隔板，继续进行膜沉积工艺。
[0015]本技术相对于现有技术的优点在于，
[0016](1)相对于整体式的电子枪膜沉积设备，本技术在第二舱体和第一舱体与其之间加隔板，可分别对第二舱体和第一舱体抽真空，缩短抽真空的时间，提高了工作效率，降低了能耗。
[0017](2)某一批次的膜沉积工艺完成到后，关闭隔离阀，第二舱体装载下批次的工件后即可开始膜沉积，第一舱体中的物料保持在真空状态中，保证了蒸发物料的初始纯度，更好的保证膜沉积的膜层质量。
[0018](3)工艺未完成的情况，蒸发物料使用完，可关闭隔离阀，第二舱体保持在可进行膜沉积的真空工艺条件下，添加蒸发物料，然后熔料至工艺所需的状态，打开隔离阀，继续膜沉积工艺，减少过程工件的报废率和抽真空的时间。
附图说明
[0019]图1为本技术电子束膜沉积设备结构示意图。
[0020]图中：1
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第一舱体，2
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第二舱体，3
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隔板，4
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载具，5
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电子枪蒸发源，6
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第一舱体门，7
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第二舱体门，8
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支撑机构。
具体实施方式
[0021]下面将结合本申请实施方式中的附图，对本申请的实施方式中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施方式仅仅是作为例示，并非用于限制本申请。
[0022]本技术公开的一种分离舱体电子束膜沉积设备结构如图1所示，包括第一舱体 1，所述第一舱体1设置有第一舱体门6，第一舱体上方设有第二舱体2，第二舱体2设置有第二舱体门7。所述第一舱体门和第二舱体门均可独立打开或封闭。
[0023]第二舱体和第一舱体之间由多个支撑机构8固定支撑，优选的，该支撑机构8可以为支撑柱或固定柱。
[0024]第二舱体和第一舱体之间通过隔板3连接，所述隔板3可将第二舱体和第一舱体之间封闭或连通，该隔板可以连接驱动机构，使隔板能够自动封闭或打开，并且带有驱动机构的隔板具体可以选择高真空隔离阀。第二舱体和第一舱体当达到工艺要求的条件，隔板打开，第二舱体和第一舱体连通，成为进行膜沉积工艺的舱体。
[0025]第二舱体为装载工件的舱体，载具4装在第二舱体的顶部。第二舱体设有单独打开的门，舱体有单独的真空系统，能满足单独的取样，装载抽真空，不影响第一舱体的物料的初始纯度。第一舱体是蒸发物料的替换腔和蒸发腔，电子枪蒸发源5装在第一舱体的底部。第一舱体设有单独打开的门，所述第一舱体有单独的真空系统，能满足单独的增添蒸发物料，不影响第二舱体完成未完成膜沉积的工件。
[0026]利用本技术的设备进行电子束蒸镀的方法为：
[0027](1)第二舱体的载具上装载工件，第一舱体的电子枪蒸发源设有沉积所需材料，封闭第二舱体和第一舱体。
[0028](2)隔板退出，使上第一舱体处于连通状态，对整体舱体进行抽真空。
[0029](3)真空度合格以后，开启电子枪，使蒸发源的膜沉积材料蒸发并沉积到工件上进
行膜沉积。
[0030](4)膜沉积完成后，隔板推进封闭隔离上第一舱体，打开第二舱体门，装载下批次的工件后对第二舱体进行抽真空，此过程中第一舱体保持工艺要求的真空状态，第二舱体抽至所需真空后，隔板退出，使上第一舱体处于连通状态，
[0031]开始下一批工件的蒸镀。
[0032]如某一批次工件已镀完，蒸发物料还未使用完，关闭隔板，可单独对第二舱体进行放气，取出已完成膜沉积的工件，再重新装载工件并启动抽真空系统抽至工艺所需的真空，打开隔离阀可以继续进行膜沉积，减少抽真空的时间，并保证蒸发物料的初始纯度。
[0033]在某批次工件的膜沉积工艺尚未完成但蒸发物料使用完的情况下，关闭隔板，打开第一舱体门，增添蒸发物料，关闭第一舱体门，启动第一舱体真空系统将第一舱体抽至工艺所需的真空度，将物料熔至可进行膜沉积的状态后打开隔板，继续进行膜沉积，减少抽真空的时间，并减少工件报废。
[0034]综上所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分离舱体电子束膜沉积设备，其特征在于，所述分离舱体电子枪膜沉积设备包括第一舱体和第二舱体，所述第一舱体位于第二舱体的下方，所述第一舱体设置有第一舱体门，第二舱体设置有第二舱体门，所述第一舱体门和第二舱体门均可独立打开或封闭；所述第二舱体设有第二真空系统，所述第一舱体设有第一真空系统；第二舱体和第一舱体之间设有隔板，所述隔板能够开启或关闭，隔板开启状态下，第二舱体和第一舱体之间连通；隔板关闭状态下，第二舱体和第一舱体成为各自封闭的独立舱体。2.根据权利要求1所述的一种分离舱体电子束膜沉积设备，其特征在于，第二舱体和第一舱体之间使用支撑机构连接并实现固定支撑。3.根据权利要求1所述的一种分离舱体电子束膜沉积设备，其特征在于，所述第二舱体内设有载具，载具上装载有工件。4.根据权利要求1所述的一种分离舱体电子...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜鸿基，陈亮，
申请(专利权)人：北京维开科技有限公司，
类型：新型
国别省市：