一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构制造技术

本实用新型专利技术属于晶圆光刻胶去边技术领域，特别涉及一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构，其结构包括一可旋转的转轴和一固定在所述转轴顶端的旋转平台，旋转平台顶端贴合设有晶圆，晶圆顶端设有胶层，所述晶圆外围外侧方设有除胶机构，本实用新型专利技术具有以下有益效果，设置除胶机构，由入液管进行连接外部的抽入去边溶剂的设备，并在喷头处喷出于晶圆顶端的胶层外围处，以此进行去除胶层外围不均匀部分；在此过程当中，当去边溶剂发生回溅、飞溅时，即可由抽管外侧连接的第一抽吸装置，在抽管内产生对管口的吸力，即可将回溅、飞溅的液珠进行抽取而极大减小落入到晶圆上胶有效区域可能性的有益效果。的有益效果。的有益效果。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构


[0001]本技术属于晶圆光刻胶去边
，特别涉及一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构。

技术介绍

[0002]EBR，为利用化学或光学的方法去除晶圆边缘处的光刻胶，称为光刻胶边缘修复，也叫光刻胶去边；
[0003]光刻胶涂覆在晶圆端面后，在晶圆的边缘会有光刻胶的堆积，边缘的光刻胶一般涂布不均匀，不能得到很好的图形，而且容易发生剥离而影响其它部分的图形，所以需要去除，一般包括，化学方法和光学方法，化学的方法：用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乙酸
‑2‑
甲氧基乙酯（EGMEA）等等去边溶剂，喷出少量在边缘处，并小心控制不要到达光刻胶有效区域；
[0004]传统的化学EBR方式，为使用一针状喷头，调整针角度，喷洒去边溶剂以压力方式去除晶圆边缘的胶（如：附图3）所示；
[0005]采用上述方式时会存在如下的问题：
[0006]1、喷头必须调适的精度要求高，否则回溅到光刻胶有效区域可能性加大，去边溶剂滴到晶圆上胶有效区域，就必须重工，成本浪费大；
[0007]2、在去边溶剂的流量有瞬间不稳定，或是其他不可测因素，也会造成去边溶剂回溅而需重工；
[0008]对于上述提出产生回溅的问题，急需提出一种对晶圆涂胶的EBR工艺用可极大降低回溅到晶圆上胶区可能性的喷头改良结构。

技术实现思路

[0009]（一）要解决的技术问题
[0010] 为了克服现有技术不足，现提出一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构，以解决上述
技术介绍
的问题，通过加设抽取部件，以此在去边溶剂产生回溅液珠时进行吸取而极大减小落入到晶圆上胶有效区域可能性的有益效果。
[0011]（二）技术方案
[0012]本技术通过如下技术方案实现：本技术提出了一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构，包括一可旋转的转轴和一固定在所述转轴顶端的旋转平台，旋转平台顶端贴合设有晶圆，晶圆顶端设有胶层；
[0013]所述晶圆外围外侧方设有除胶机构；
[0014]除胶机构包括抽管，抽管的一管端设有管口且其朝向晶圆顶端外围，抽管内部设有喷头且其入液端固接有入液管，喷头的喷出端朝向上述胶层外围，所述入液管固定贯穿抽管的内外两侧，所述晶圆和胶层的外围部件伸入管口内侧当中。
[0015]进一步的，所述抽管的另一管端连接固设有第一抽吸装置，第一抽吸装置可为第
一真空泵。
[0016]进一步的，所述抽管与旋转平台或晶圆的夹角为90度~180度。
[0017]进一步的，所述抽管内部设有固定座，固定座用于连接喷头。
[0018]进一步的，所述胶层为光刻胶层。
[0019] （三）有益效果
[0020]本技术相对于现有技术，具有以下有益效果：
[0021]通过在晶圆外围的外侧方设置除胶机构，由入液管进行连接外部的抽入去边溶剂的设备，并在喷头处喷出于晶圆顶端的胶层外围处，以此进行去除胶层外围不均匀部分；在此过程当中，当去边溶剂发生回溅、飞溅时，即可由抽管外侧连接的第一抽吸装置，在抽管内产生对管口的吸力，即可将回溅、飞溅的液珠进行抽取而极大减小落入到晶圆上胶有效区域可能性的有益效果。
附图说明
[0022]通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
[0023]图1为本技术的结构示意图；
[0024]图2为本技术的局部结构A示意图；
[0025]图3为本技术的原对比结构示意图；
[0026]图中：转轴
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1、旋转平台
‑
2、晶圆
‑
3、除胶机构
‑
4、抽管
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41、管口
‑
42、喷头
‑
43、入液管
‑
44。
具体实施方式
[0027]实施例1：
[0028]请参阅图1与图2，本技术提供一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构：包括，一可旋转的的转轴1，呈竖向状；
[0029]一固定在所述转轴1顶端的旋转平台2；
[0030]所述转轴1旋转时带动所述旋转平台2转动；
[0031]上述转轴1为旋转匀胶机的旋转轴，转轴1外侧连接有旋转匀胶机的旋转输出端，转轴1内带有真空吸附的孔道，及其外侧与孔道连通的通孔，旋转匀胶机进行电连接外部的控制器；
[0032]旋转平台2顶端贴合设有晶圆3，晶圆3顶端设有胶层；
[0033]旋转平台2带真空吸孔，用于吸附贴合的晶圆3固定，旋转平台2的真空吸孔与旋转匀胶机的转轴1真空吸附通孔、孔道相连接；
[0034]转轴1的真空吸附通孔进行连接外部的第二抽吸装置，抽吸装置可为第二真空泵，第二真空泵进行电连接外部的控制器。
[0035]其中，所述胶层为光刻胶层。
[0036]请参阅图1与图2，所述晶圆3外围外侧方设有除胶机构4；
[0037]除胶机构4包括抽管41；
[0038]抽管41的一管端设有管口42且其朝向晶圆3顶端外围，用于喷头43产生的喷液柱
排出；
[0039]抽管41内部设有喷头43且其入液端固接有入液管44，其中，入液管44进行连接外部的抽入去边溶剂的设备且其连接外部的控制器；
[0040]喷头43的喷出端朝向上述胶层外围，保证喷液柱排出至胶层外围；
[0041]所述入液管44固定贯穿抽管41的内外两侧，贯穿位置可采用粘胶或垫层填料，提供入液管44的固定；
[0042]所述晶圆3和胶层的外围部件伸入管口42内侧当中，管口42靠近胶层顶端设置，以此提供在产生回溅、飞溅的液珠时，减小与胶层之间的空间范围，降低掉落可能性。
[0043]其中，所述抽管41的另一管端连接固设有第一抽吸装置，第一抽吸装置可为第一真空泵，第一真空泵进行电连接外部的控制器。
[0044]其中，所述抽管41与旋转平台2或晶圆3的夹角为90度~180度，产生回溅、飞溅的液珠时，减小掉落至晶圆3上胶有效区域的可能性。
[0045]其中，所述抽管41内部设有固定座，固定座用于连接喷头43；
[0046]固定座可为固定不动的支撑部件（如：支撑板、支撑杆等），此时，入液管44可为软管或硬管；
[0047]实施例2：其与实施例1的区别在于；
[0048]所述固定座可为动力驱动部件（如：电机、推杆机构（如：气缸、电动推杆等等），以其输出轴固接喷头43，即可进行调整使用位置，此时，入液管44为软管。
[0049]本专利所述的匀胶机，旋转涂覆技术所使用的设备是匀胶机。匀胶机有很多种称谓，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆涂胶用EBR工艺喷头改良结构，包括一可旋转的转轴（1）和一固定在所述转轴（1）顶端的旋转平台（2），旋转平台（2）顶端贴合设有晶圆（3），晶圆（3）顶端设有胶层；其特征在于：所述晶圆（3）外围外侧方设有除胶机构（4）；除胶机构（4）包括抽管（41），抽管（41）的一管端设有管口（42）且其朝向晶圆（3）顶端外围，抽管（41）内部设有喷头（43）且其入液端固接有入液管（44），喷头（43）的喷出端朝向上述胶层外围，所述入液管（44）固定贯穿抽管（41）的内外两侧，所述晶圆（3）和胶层的外围部件伸入管口（42）内侧当中。...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨涛，
申请(专利权)人：福建安芯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：