基板保持件和基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板保持件和基板处理装置。提供一种能够抑制基板粘着于舟皿的技术。本公开的一技术方案的基板保持件具备：第1舟皿，其将基板保持为搁板状；以及第2舟皿，其设为与所述第1舟皿同轴地相对于所述第1舟皿相对地升降，并将基板保持为搁板状，所述第1舟皿具有：第1底板和第1顶板，它们上下相对地设置；以及第1支柱，其连接所述第1底板和所述第1顶板，该第1支柱包含载置基板的第1载置面，所述第2舟皿具有：第2底板和第2顶板，它们上下相对地设置；以及第2支柱，其连接所述第2底板和所述第2顶板，该第2支柱包含载置基板的第2载置面，所述第2顶板以在俯视时与所述第1顶板重叠的方式配置。置。置。

【技术实现步骤摘要】
基板保持件和基板处理装置


[0001]本公开涉及基板保持件和基板处理装置。

技术介绍

[0002]公知有一种在处理室的内部对堆叠有多个基板的舟皿进行收纳并对多个基板进行成膜处理的装置(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载有一种具有能够独立地在上下方向上移动的内舟皿和外舟皿的双重构造的舟皿。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2018
‑
67582号公报

技术实现思路

[0006]专利技术要解决的问题
[0007]本公开提供一种能够抑制基板粘着于舟皿的技术。
[0008]用于解决问题的方案
[0009]本公开的一技术方案的基板保持件具备：第1舟皿，其将基板保持为搁板状；以及第2舟皿，其设为与所述第1舟皿同轴地相对于所述第1舟皿相对地升降，并将基板保持为搁板状，所述第1舟皿具有：第1底板和第1顶板，它们上下相对地设置；以及第1支柱，其连接所述第1底板和所述第1顶板，该第1支柱包含载置基板的第1载置面，所述第2舟皿具有：第2底板和第2顶板，它们上下相对地设置；以及第2支柱，其连接所述第2底板和所述第2顶板，该第2支柱包含载置基板的第2载置面，所述第2顶板以在俯视时与所述第1顶板重叠的方式配置。
[0010]专利技术的效果
[0011]根据本公开，能够抑制基板粘着于舟皿。
附图说明
[0012]图1是表示实施方式的基板处理装置的一个例子的剖视图。
[0013]图2是表示基板保持件的一个例子的立体图。
[0014]图3是表示基板保持件的一个例子的立体图。
[0015]图4是表示基板保持件的一个例子的立体图。
[0016]图5是表示基板保持件的一个例子的侧视图。
[0017]图6是表示从上方观察图3的基板保持件的图。
[0018]图7是表示从上方观察图4的基板保持件的图。
[0019]图8是表示第1舟皿与第2舟皿之间的位置关系的剖视图。
[0020]图9是表示第1舟皿与第2舟皿之间的位置关系的立体图。
[0021]图10是表示由第1舟皿保持着基板的状态的基板保持件的侧视图。
[0022]图11是表示由第2舟皿保持着基板的状态的基板保持件的侧视图。
具体实施方式
[0023]以下，参照附图，对本公开的非限定性的例示的实施方式进行说明。在所有附图中，对相同或对应的构件或部件标注相同或对应的附图标记，并省略重复的说明。
[0024]〔基板的粘着〕
[0025]在将基板载置于在舟皿设置的爪并将载置有基板的状态的舟皿收纳于处理容器内而对基板实施成膜处理时，存在基板粘着于爪的情况。特别是，当在基板较厚地形成多晶硅膜时，基板容易粘着于爪。
[0026]作为防止基板粘着于爪的对策的一个例子，存在如下这样的技术：在爪的表面形成微细的凹凸，而减少爪与基板之间的接触面积。然而，当在基板形成的膜的膜厚较厚时，即使应用上述的技术，也存在基板粘着于爪的情况。
[0027]本公开提供如下这样的技术：通过使用具备相对地升降的第1舟皿和第2舟皿并能够在第1舟皿与第2舟皿之间进行基板的交接的基板保持件，从而能够抑制基板粘着于舟皿。以下详细地进行说明。
[0028]〔基板处理装置〕
[0029]参照图1，说明实施方式的基板处理装置的一个例子。实施方式的基板处理装置是一次对多个基板进行处理的批量式的装置。
[0030]基板处理装置1具有处理容器10、气体供给部30、排气部40、加热部50以及控制部80。
[0031]处理容器10能够对内部进行减压。处理容器10收纳基板W。基板W例如是半导体晶圆。处理容器10包含内管11和外管12。内管11具有下端开放的有顶的大致圆筒状。外管12具有下端开放且覆盖内管11的外侧的有顶的大致圆筒状。内管11和外管12由石英等耐热材料形成，呈同轴状地配置而成为双重管构造。
[0032]内管11的顶部例如成为平坦。在内管11的一侧沿着其长度方向(上下方向)形成有收纳气体喷嘴的收纳部13。收纳部13是使内管11的侧壁的局部朝向外侧突出而形成的凸部14内的区域。
[0033]在内管11的与收纳部13相对的相反侧的侧壁沿着其长度方向(上下方向)形成有矩形状的开口15。
[0034]开口15是以能够对内管11内的气体进行排气的方式形成的气体排气口。开口15的长度与基板保持件100的长度相同，或者是长于基板保持件100的长度地向上下方向分别延伸的长度。
[0035]处理容器10的下端利用例如由不锈钢形成的大致圆筒状的歧管17支承。在歧管17的上端形成有凸缘18，在凸缘18上设置外管12的下端而进行支承。使O形圈等密封构件19介于凸缘18与外管12的下端之间，而将外管12内设为气密状态。
[0036]在歧管17的上部的内壁设有大致圆环状的支承部20。支承部20用于设置内管11的下端并进行支承。在歧管17的下端的开口隔着O形圈等密封构件22气密地安装有盖21。盖21具有大致圆板状，气密地封堵处理容器10的下端的开口、即歧管17的开口。盖21例如由不锈钢形成。
[0037]在盖21的中央部借助磁性流体密封件等密封构件23贯穿地设有旋转轴24，该旋转轴24将基板保持件100支承为能够旋转。旋转轴24的下部旋转自如地支承于由舟皿升降机构成的升降机构25的臂25a。
[0038]在旋转轴24的上端设有外侧支承体26和内侧支承体27。外侧支承体26具有中空的大致圆筒状。外侧支承体26支承第1舟皿110。内侧支承体27具有实心的大致圆柱状，贯穿于外侧支承体26内。内侧支承体27支承第2舟皿120。
[0039]外侧支承体26和内侧支承体27接受旋转轴24的旋转而同步地旋转，其结果，第1舟皿110和第2舟皿120同步地旋转。另外，盖21、旋转轴24、外侧支承体26、内侧支承体27、第1舟皿110以及第2舟皿120接受升降机构25的升降而一体地上下移动，其结果，第1舟皿110和第2舟皿120相对于处理容器10内插入、拔出。
[0040]内侧支承体27构成为相对于外侧支承体26相对地升降。由此，第2舟皿120相对于第1舟皿110相对地升降。
[0041]第1舟皿110和第2舟皿120构成将多个(例如50张～150张)基板W保持为搁板状的基板保持件100。此外，基板保持件100的详细内容随后叙述。
[0042]在盖21上设有保温台28。保温台28防止基板保持件100因与盖21侧之间的传热而冷却，对基板保持件100进行保温。例如，保温台28具有如下这样的结构：在设于盖21上的多个支柱安装有多个石英板，该多个石英板沿上下方向空开间隔地配置为大致水平。
[0043]气体供给部30包含气体喷嘴31。气体喷嘴31例如由石英形成。气体喷嘴31在内管11内沿着该内管11的长度方向设置，其基端呈L字状弯折并被支承为贯穿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板保持件，其中，该基板保持件具备：第1舟皿，其将基板保持为搁板状；以及第2舟皿，其设为与所述第1舟皿同轴地相对于所述第1舟皿相对地升降，并将基板保持为搁板状，所述第1舟皿具有：第1底板和第1顶板，它们上下相对地设置；以及第1支柱，其连接所述第1底板和所述第1顶板，该第1支柱包含载置基板的第1载置面，所述第2舟皿具有：第2底板和第2顶板，它们上下相对地设置；以及第2支柱，其连接所述第2底板和所述第2顶板，该第2支柱包含载置基板的第2载置面，所述第2顶板以在俯视时与所述第1顶板重叠的方式配置。2.根据权利要求1所述的基板保持件，其中，所述第2舟皿通过使所述第2载置面相对于所述第1载置面升降，从而在与所述第1舟皿之间交接基板。3.根据权利要求1或2所述的基板保持件，其中，所述第1顶板具有大致圆环板状或大致圆板状，所述第2顶板具有与所述第1顶板相同的外径的大致圆环板状或大致圆板状。4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板保持件，其中，所述第1支柱的中心点设于同一圆周上，所述第2支柱的中心点设于同一圆周上。5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板保持件，其中，所述第2支柱短于所述第1支柱。6.根据权利要求1～5中...

【专利技术属性】
技术研发人员：岛田光一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：