一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构制造技术

本实用新型专利技术属于纳米压印领域，具体涉及一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，包括上真空吸盘、上硅胶层、玻璃层、UV固化胶层、下硅胶层、载板和下真空吸盘；上真空吸盘上附有上硅胶层，上硅胶层上附有玻璃层，玻璃层上附有UV固化胶层；下真空吸盘上附有载板，载板上附有下硅胶层。对薄型玻璃采用揭开式手法，降低离型脱模力，提高产品成功率，当揭开时，软质材料因为有弹性变形，会为UV固化胶成品提供压缩与拉伸空间，揭开产品一端后，再慢慢向另一端揭开，直至产品完好离型。直至产品完好离型。直至产品完好离型。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构


[0001]本技术属于纳米压印领域，具体涉及一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构。

技术介绍

[0002]在纳米压印中，透过光敏胶或UV固化胶水等，在硅片或玻璃等基材上，转印出微结构图案，经过固化后，利用设备或人工，将基材脱离，获得微结构图案，通常基材保有一定厚度(500～700um)，在脱离时可抵抗剪切力量，使其完整分离，在光学设计要求下，如果基材 (通常为玻璃)在80～200um范围内，则离型过程中十分容易造成基材破损。

技术实现思路

[0003]本技术提出一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，以解决基底过薄导致的离型过程中的基材损坏。
[0004]为达上述目的，本技术提出技术方案如下：
[0005]一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，包括上真空吸盘、上硅胶层、玻璃层、下真空吸盘、载板和下硅胶层；
[0006]上硅胶层吸附于上真空吸盘底部，上硅胶层下附有玻璃层；
[0007]下真空吸盘上附有载板，载板上附有下硅胶层；所述下硅胶层位于所述玻璃层下方；
[0008]所述上硅胶层由25摄氏度，压强为一个大气压条件下，拉伸强度为5.0MPa、粘度为 18000Pas的硅胶制成。
[0009]优选的，玻璃层厚度大于80微米，小于200微米。
[0010]优选的，上硅胶层厚度大于10毫米，小于20毫米。
[0011]优选的，所述玻璃层下部还设置有UV固化胶层；所述UV固化胶层正对所述下硅胶层设置。/>[0012]优选的，所述上硅胶层真空吸附于上真空吸盘底部。
[0013]优选的，所述玻璃层真空吸附于上硅胶层底部。
[0014]优选的，所述下硅胶层真空吸附于所述载板顶部。
[0015]优选的，所述下硅胶层顶部设有压印图案。
[0016]本技术的有益之处在于：
[0017]软质硅胶材料有弹性变形，并提供压缩与拉伸空间，使产品一端先行脱离后，慢慢向另一端揭开，直至产品完全离型，确保薄玻璃基底之产品，完好离型。
附图说明
[0018]构成本技术的一部分的说明书附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限
定。在附
[0019]图中：
[0020]图1为一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构示意图；
[0021]图2为传统压印结构示意图。
[0022]图3为用传统压印结构处理薄玻璃致使玻璃破裂地情况示意图。
[0023]图中，1为上真空吸盘，2为上硅胶层，3为玻璃层，4为UV固化胶层，5为下真空吸盘， 6为载板，7为下硅胶层。
具体实施方式
[0024]下面将参考附图并结合实施例来详细说明本技术。需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0025]以下详细说明均是示例性的说明，旨在对本技术提供进一步的详细说明。除非另有指明，本技术所采用的所有技术术语与本技术所属领域的一般技术人员的通常理解的含义相同。本技术所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而并非意图限制根据本技术的示例性实施方式。
[0026]实施例1：
[0027]一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，如图3所示，包括上真空吸盘1、上硅胶层2、玻璃层3、UV固化胶层4、下硅胶层7、载板6和下真空吸盘5；上真空吸盘1上附有上硅胶层2，上硅胶层2上附有玻璃层3，玻璃层3上附有UV固化胶层4；下真空吸盘5上附有载板6，载板6上附有下硅胶层7。
[0028]在现有技术基础上，于上真空吸盘1与产品之间增加上硅胶层2，并后再利用真空吸附玻璃层3和UV固化胶层4；这种情况下，玻璃层3的厚度要大于80微米，小于200微米。
[0029]上硅胶层2如果太薄则弹性体变形量太少，上硅胶层2厚度大于10毫米且小于20毫米，选取材料为25摄氏度，压强为一个大气压条件下，拉伸强度为5.0MPa、粘度为18000Pas的硅胶。
[0030]通过金属加工或者离子加工硅胶，加工后的硅胶真空吸附于载板上，形成下硅胶层7；下硅胶层7选取材料为25摄氏度，压强为一个大气压条件下，拉伸强度为7.0MPa、粘度为 3500Pas的硅胶。
[0031]薄型玻璃真空吸附于上硅胶层上，形成玻璃层3，在玻璃层3上涂上一层UV固化胶，形成UV固化胶层。
[0032]将硅胶层与UV固化胶层接触，确定硅胶层的图案转印成功。
[0033]将上真空吸盘1、上硅胶层2、玻璃层3和UV固化胶层4整体从右向左揭下来，对薄型玻璃采用揭开式手法，降低离型脱模力，提高产品成功率。
[0034]当揭开时，因软质材料可以进行弹性变形，会为UV固化胶层4提供压缩与拉伸空间，使产品右端先行脱离后，慢慢向左方揭开，直至产品完全离型。
[0035]得到制成的玻璃层3以及玻璃层3上附有的UV固化胶层4作为产品。
[0036]由技术常识可知，本技术可以通过其它的不脱离其精神实质或必要特征的实施方案来实现。因此，上述公开的实施方案，就各方面而言，都只是举例说明，并不是仅有的。所有在本技术范围内或在等同于本技术的范围内的改变均被本技术包
含。
[0037]最后应当说明的是：以上实施例仅用以说明本技术的技术方案而非对其限制，尽管参照上述实施例对本技术进行了详细的说明，所属领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本技术的具体实施方式进行修改或者等同替换，而未脱离本技术精神和范围的任何修改或者等同替换，其均应涵盖在本技术的权利要求保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，其特征在于，包括上真空吸盘(1)、上硅胶层(2)、玻璃层(3)、下真空吸盘(5)、载板(6)和下硅胶层(7)；上硅胶层(2)吸附于上真空吸盘(1)底部，上硅胶层(2)下附有玻璃层(3)；下真空吸盘(5)上附有载板(6)，载板(6)上附有下硅胶层(7)；所述下硅胶层(7)位于所述玻璃层(3)下方；所述上硅胶层(2)由25摄氏度，压强为一个大气压条件下，拉伸强度为5.0MPa、粘度为18000Pas的硅胶制成。2.如权利要求1所述的一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，其特征在于，玻璃层(3)厚度大于80微米，小于200微米。3.如权利要求1所述的一种适用于薄型基底的揭开式纳米压印结构，其特征在于，上硅胶层(2)厚度大于10毫米...

【专利技术属性】
技术研发人员：张建荣，李伟龙，冯晓甜，闫祥龙，
申请(专利权)人：华天慧创科技西安有限公司，
类型：新型
国别省市：