显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置制造方法及图纸

本公开提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置，属于显示技术领域。该显示基板包括：阵列基板、连接层和发光功能层，所述连接层在所述阵列基板和所述发光功能层之间；所述连接层中设有多个过孔，所述发光功能层包括多个发光单元，所述发光单元与至少一个所述过孔中的导电结构电连接，且所述过孔在所述连接层的承载面上的正投影位于对应的所述发光单元的发光区域在所述承载面的正投影外。本公开能避免过孔影响阳极层的厚度，保证阳极层的反射效果，提升发光功能层的发光效果。提升发光功能层的发光效果。提升发光功能层的发光效果。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置


[0001]本公开涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

技术介绍

[0002]显示基板通常包括依次层叠的阵列基板、连接层和发光功能层。连接层中设置有多个过孔，过孔连接在阵列基板和发光功能层之间。每个过孔与发光功能层中的一个发光单元相连。

技术实现思路

[0003]本公开实施例提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置，能避免过孔影响阳极层的厚度，保证阳极层的反射效果，提升发光功能层的发光效果。所述技术方案如下：
[0004]本公开实施例提供了一种显示基板，所述显示基板包括：阵列基板、连接层和发光功能层，所述连接层在所述阵列基板和所述发光功能层之间；所述连接层中设有多个过孔，所述发光功能层包括多个发光单元，所述发光单元与至少一个所述过孔中的导电结构电连接，且所述过孔在所述连接层的承载面上的正投影位于对应的所述发光单元的发光区域在所述承载面的正投影外。
[0005]在本公开实施例的一种实现方式中，所述发光功能层还包括像素定义层，所述像素定义层包括多个间隔分布的开口，所述开口与所述发光单元一一对应，所述发光单元位于对应的所述开口内；所述开口用于限定对应的所述发光单元的所述发光区域。
[0006]在本公开实施例的另一种实现方式中，多个所述发光单元沿第一方向和第二方向阵列排布，所述第一方向和所述第二方向相交；多个所述发光单元包括沿所述第二方向依次交替排布的多个第一发光单元组和多个第二发光单元组，所述第一发光单元组和所述第二发光单元组均包括沿所述第一方向间隔排布的多个所述发光单元；所述第一发光单元组对应的多个所述过孔位于所述第一发光单元组的同一侧，所述第二发光单元组对应的多个所述过孔位于所述第二发光单元组的同一侧。
[0007]在本公开实施例的另一种实现方式中，相邻的所述第一发光单元组和所述第二发光单元组中；所述第一发光单元组对应的所述过孔和所述第二发光单元组对应的所述过孔，位于所述第一发光单元组或所述第二发光单元组的两侧。
[0008]在本公开实施例的另一种实现方式中，相邻的所述第一发光单元组和所述第二发光单元组中；所述第一发光单元组对应的所述过孔和所述第二发光单元组对应的所述过孔，位于所述第一发光单元组和所述第二发光单元组之间。
[0009]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述发光单元包括依次层叠的阳极层和发光层，所述阳极层位于所述承载面，所述像素定义层位于所述承载面和所述阳极层上，且所述像素定义层的所述开口露出所述阳极层的部分表面，所述发光层位于所述开口内；所述
过孔与所述阳极层相连，且所述过孔在所述承载面的正投影位于所述像素定义层在所述承载面的正投影内。
[0010]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述发光单元还包括电流扩展层，所述电流扩展层位于所述阳极层和所述发光层之间。
[0011]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述像素定义层位于所述阳极层上的部分从所述阳极层的边缘至所述阳极层的中部方向上的最大长度不小于0.2μm。
[0012]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述像素定义层中具有隔离槽，所述隔离槽将所述像素定义层分隔为多个像素区，每个所述像素区内具有一个所述发光单元。
[0013]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述隔离槽至少包括相连的第一部分和第二部分，所述第一部分和所述第二部分沿远离承载面方向依次布置，且所述第一部分在与所述隔离槽相邻的两个所述发光单元的排列方向上的尺寸，不小于所述第二部分在与所述隔离槽相邻的两个所述发光单元的排列方向上的尺寸。
[0014]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述隔离槽的槽深不小于所述发光层的厚度。
[0015]在本公开实施例的另一种实现方式中，同一所述像素区中，所述过孔位于所述隔离槽与所述发光区域之间。
[0016]在本公开实施例的另一种实现方式中，同一所述像素区中，所述过孔的几何中心至所述发光区域的最小距离，小于所述过孔的几何中心至所述隔离槽的最小距离。
[0017]在本公开实施例的另一种实现方式中，在所述第二方向上相邻的两个所述像素区中，两个所述过孔的几何中心的距离大于两个所述发光区域的间距。
[0018]在本公开实施例的另一种实现方式中，在所述第二方向上相邻的两个所述像素区中，两个所述过孔的几何中心的距离小于两个所述发光区域的几何中心的距离。
[0019]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述发光功能层的各膜层中与多个所述过孔相对的区域，突出于所述发光功能层的各膜层的远离所述承载面的表面，或者凹陷于所述发光功能层的各膜层的远离所述承载面的表面。
[0020]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述过孔中的导电结构为钨结构。
[0021]在本公开实施例的另一种实现方式中，所述显示基板还包括彩膜层，所述发光单元为白光像素单元，所述彩膜层位于所述发光功能层上。
[0022]本公开实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括如前文所述的显示基板、触控层和封装层，所述显示基板、所述触控层和所述封装层依次层叠，
[0023]本公开实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括如前文所述的显示面板和电源，所述电源与所述显示面板电连接，
[0024]本公开实施例提供了一种显示基板的制备方法，所述制备方法包括：制备阵列基板；在所述阵列基板上形成连接层，所述连接层中设有多个过孔；在所述连接层上形成发光功能层，所述发光功能层包括多个发光单元，所述发光单元与至少一个所述过孔中的导电结构电连接，且所述过孔在所述连接层的承载面上的正投影位于对应的所述发光单元的发光区域在所述承载面的正投影外。
[0025]本公开实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：
[0026]本公开实施例提供的显示基板包括阵列基板、连接层和发光功能层，连接层上设
有过孔，阵列基板通过过孔与发光功能层连接，这样通过阵列基板就可以控制发光功能层发光。发光功能层包括多个发光单元，发光单元的发光区域是用于发光的部分，将过孔设置在发光区域之外，使过孔不与发光区域相对。这样即使过孔内的导电结构的厚度加工不满足要求，也不会影响发光区域中阳极层的厚度，保证阳极层的反射效果，从而提升发光功能层的发光效果。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1是本公开实施例提供的一种显示基板的膜层结构示意图；
[0029]图2是本公开实施例提供的一种显示基板的平面示意图；
[0030]图3是本公开实施例提供的另一种显示基板的膜层结构示意图；
[0031]图4是本公开实施例提供的一种显示基板的平面示意图；...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：阵列基板(11)、连接层(12)和发光功能层(20)，所述连接层(12)在所述阵列基板(11)和所述发光功能层(20)之间；所述连接层(12)中设有多个过孔(120)，所述发光功能层(20)包括多个发光单元(22)，所述发光单元(22)与至少一个所述过孔(120)中的导电结构电连接，且所述过孔(120)在所述连接层(12)的承载面上的正投影位于对应的所述发光单元(22)的发光区域(A1)在所述承载面的正投影外。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光功能层(20)还包括像素定义层(21)，所述像素定义层(21)包括多个间隔分布的开口(210)，所述开口(210)与所述发光单元(22)一一对应，所述发光单元(22)位于对应的所述开口(210)内；所述开口(210)用于限定对应的所述发光单元(22)的所述发光区域(A1)。3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，多个所述发光单元(22)沿第一方向和第二方向阵列排布，所述第一方向和所述第二方向相交；多个所述发光单元(22)包括沿所述第二方向依次交替排布的多个第一发光单元组和多个第二发光单元组，所述第一发光单元组和所述第二发光单元组均包括沿所述第一方向间隔排布的多个所述发光单元(22)；所述第一发光单元组对应的多个所述过孔(120)位于所述第一发光单元组的同一侧，所述第二发光单元组对应的多个所述过孔(120)位于所述第二发光单元组的同一侧。4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，相邻的所述第一发光单元组和所述第二发光单元组中；所述第一发光单元组对应的所述过孔(120)和所述第二发光单元组对应的所述过孔(120)，位于所述第一发光单元组或所述第二发光单元组的两侧。5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，相邻的所述第一发光单元组和所述第二发光单元组中；所述第一发光单元组对应的所述过孔(120)和所述第二发光单元组对应的所述过孔(120)，位于所述第一发光单元组和所述第二发光单元组之间。6.根据权利要求3至5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元(22)包括依次层叠的阳极层(221)和发光层(222)，所述阳极层(221)位于所述承载面，所述像素定义层(21)位于所述承载面和所述阳极层(221)上，且所述像素定义层(21)的所述开口(210)露出所述阳极层(221)的部分表面，所述发光层(222)位于所述开口(210)内；所述过孔(120)与所述阳极层(221)相连，且所述过孔(120)在所述承载面的正投影位于所述像素定义层(21)在所述承载面的正投影内。7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元(22)还包括电流扩展层(223)，所述电流扩展层(223)位于所述阳极层(221)和所述发光层(222)之间。8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述像素定义层(21)位于所述阳极层上的部分从所述阳极层(221)的边缘至所述阳极层(221)的中部方向上的最大长度不小于0.2μm。9.根据权利要求6所述的显示...

【专利技术属性】
技术研发人员：李云龙，卢鹏程，刘伟，白枭，
申请(专利权)人：云南创视界光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：