一种精密调节气体分布的气管机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种精密调节气体分布的气管机构，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上。本实用新型专利技术的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。膜的质量。膜的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种精密调节气体分布的气管机构


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体为一种精密调节气体分布的气管机构。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。
[0003]现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉的内部，造成真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在偏差，使产品镀膜过程中易存在色差，且工作气体与反应气体在输送的过程中难以精准把控输送气体的量，不便于产品的真空镀膜操作。
[0004]因此亟需一种精密调节气体分布的气管机构来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种精密调节气体分布的气管机构，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉内部的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上，各个所述出气孔与真空镀膜炉的内部相通设置，所述总气管上安装有多个用于真空镀膜过程工作气体及反应气体输送的分气管，所述分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，各个所述分气管的另一端通过安装机构连接有输送管。
[0007]各个所述分气管上安装有流量控制阀。
[0008]所述安装机构包括固定在分气管上的操作管，所述操作管上开设有多个滑动槽，各个所述滑动槽上滑动连接有滑动板，各个所述滑动板位于操作管内部的一端固定有弧形挤压板，所述操作管上设置有用于各个滑动板驱动的驱动机构，所述操作管内部设置有用于分气管与输送管之间气体输送过程密封的密封机构。
[0009]各个所述滑动槽为方形槽，各个所述滑动板分别与各个滑动槽相互匹配设置。
[0010]各个所述滑动槽环形阵列设置在操作管上。
[0011]所述密封机构包括滑动连接在分气管一端的滑动管，所述滑动管的一端位于操作管的内部并固定有环形板，所述滑动管的侧壁上套设有弹簧，所述弹簧的两端分别与操作管的内壁及环形板相连接。
[0012]所述驱动机构包括转动连接在操作管一端的驱动环，所述驱动环靠向各个滑动板的一侧设置有螺旋条，所述螺旋条上滑动连接有多个传动板，各个所述传动板分别与各个滑动板相固定。
[0013]所述驱动环上固定有驱动销，所述驱动销上设置有防滑凸起。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0015]1、本技术的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。
[0016]2、本技术的精密调节气体分布的气管机构，在将分气管与输送管安装的过程中，将驱动环进行转动，带动各个弧形挤压板与输送管位于操作管内部的侧壁相抵，将输送管限位安装在操作管上，完成输送管与分气管之间的安装，整个安装过程操作简单、实施便捷，便于分气管与外部输送管的安装固定。
[0017]3、本技术的精密调节气体分布的气管机构，将输送管放置在操作管内部的过程中，输送管的一端与环形板相抵，推动滑动管受力进行滑动，在滑动管滑动的过程中，带动弹簧受力变形产生弹力，通过弹簧的弹力，推动环形板紧密的与输送管的一端相抵，提高了环形板与输送管之间的密封性，降低气体输送过程发生泄漏的几率，便于气体的输送操作。
附图说明
[0018]图1为本技术的整体外形结构示意图；
[0019]图2为本技术的总气管内部结构示意图；
[0020]图3为本技术的安装机构结构示意图；
[0021]图4为本技术的安装机构及密封机构内部结构示意图；
[0022]图5为图2中A处的放大图；
[0023]图6为图3中B处的放大图；
[0024]图7为图4中C处的放大图。
[0025]图中：1、总气管；2、出气孔；3、分气管；4、流量控制阀；5、输送管；601、操作管；602、滑动槽；603、滑动板；604、弧形挤压板；701、驱动环；702、螺旋条；703、传动板；704、驱动销；801、滑动管；802、环形板；803、弹簧。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]请参阅图1
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7，本技术提供的一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管1，总气管1上开设有多个出气孔2，各个出气孔2等距排列设置在总气管1上，各个出气孔2与真空镀膜炉的内部相通设置，总气管1上安装有多个用于真空镀膜过程工作气体及反应气体输送的分气管3，分气管3的一端位于相邻的两个出气孔2之间，各个分气管3的另一端通过安装机构连接有输送管5，可以使进入真空镀膜炉内部的气体更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降
低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。
[0028]各个分气管3上安装有流量控制阀4，通过流量控制阀4便于精准的控制工作气体与反应气体输送的量。
[0029]安装机构包括固定在分气管3上的操作管601，操作管601上开设有多个滑动槽602，各个滑动槽602上滑动连接有滑动板603，各个滑动板603位于操作管601内部的一端固定有弧形挤压板604，操作管601上设置有用于各个滑动板603驱动的驱动机构，操作管601内部设置有用于分气管3与输送管5之间气体输送过程密封的密封机构，整个安装过程操作简单、实施便捷，便于分气管3与外部输送管5的安装固定。
[0030]各个滑动槽602为方形槽，各个滑动板603分别与各个滑动槽602相互匹配设置，通过方形的滑动槽602，对各个滑动板603的运动进行导向。
[0031]各个滑动槽602环形阵列设置在操作管601上，通过环形阵列设置的滑动槽602，便于各个滑动板603一端的弧形挤压板604更加均匀的与输送管5相抵。
[0032]密封机构包括滑动连接在分气管3一端的滑动管801，滑动管801的一端位于操作管601的内部并固定有环形板802，滑动管801的侧壁上套设有弹簧803，弹簧803本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管(1)，其特征在于：所述总气管(1)上开设有多个出气孔(2)，各个所述出气孔(2)等距排列设置在总气管(1)上，各个所述出气孔(2)与真空镀膜炉的内部相通设置，所述总气管(1)上安装有多个用于真空镀膜过程工作气体及反应气体输送的分气管(3)，所述分气管(3)的一端位于相邻的两个出气孔(2)之间，各个所述分气管(3)的另一端通过安装机构连接有输送管(5)。2.根据权利要求1所述的一种精密调节气体分布的气管机构，其特征在于：各个所述分气管(3)上安装有流量控制阀(4)。3.根据权利要求1所述的一种精密调节气体分布的气管机构，其特征在于：所述安装机构包括固定在分气管(3)上的操作管(601)，所述操作管(601)上开设有多个滑动槽(602)，各个所述滑动槽(602)上滑动连接有滑动板(603)，各个所述滑动板(603)位于操作管(601)内部的一端固定有弧形挤压板(604)，所述操作管(601)上设置有用于各个滑动板(603)驱动的驱动机构，所述操作管(601)内部设置有用于分气管(3)与输送管(5)之间气体输送过程密封的密封机构。4.根据权利要求3所述的一种精密调节气体分布的气管机...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢纯玲，冯伟，吴海平，杜晓颖，杜国才，
申请(专利权)人：惠州市常兴荣科技有限公司，
类型：新型
国别省市：