一种导流组件及旋转镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种导流组件，应用于旋转镀膜设备，导流组件包括导流筒，导流筒的侧壁上开设有多个流通孔，导流筒包括轴向相对设置的第一端和第二端，第一端连通于动力装置，以使旋转镀膜设备的药液或特气流经第一端，从第一端到第二端，多个流通孔的孔径逐渐增大。本实用新型专利技术还提供了旋转镀膜设备，包括反应室、旋转平台以及上述的导流组件，导流组件和旋转平台均设置在反应室内，旋转平台间隔设置在导流组件的下方，反应室的顶面上开设有第一连通口，且第一端连通于第一连通口，反应室的侧壁上开设有第二连通口。该旋转镀膜设备能够提高镀膜的均匀度，从而提高镀膜质量。而提高镀膜质量。而提高镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种导流组件及旋转镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜
，尤其涉及一种导流组件及旋转镀膜设备。

技术介绍

[0002]现有的旋转镀膜设备是通过将药液激发为等离子体，等离子体流动至待镀膜工件，且穿过待镀膜工件所在区域，以在待镀膜工件上形成薄膜，所以药液的流动特性直接影响了薄膜的均匀度。旋转镀膜设备的反应室采用圆柱形反应室时，药液会从流入口流至抽吸口，流入口和抽吸口的设置位置也会影响反应室内的流场分布。现有的旋转镀膜设备往往药液的流场分布不均匀，距离流入口或抽吸口近处的药液流速高，距离流入口或抽吸口远处的药液流速低，致使镀膜厚度的均匀性较差，镀膜质量不高。
[0003]因此，亟需一种导流组件及旋转镀膜设备，以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的一个目的在于提供一种导流组件，应用于旋转镀膜设备中时，能够提高镀膜的均匀度，提高镀膜质量。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种导流组件，应用于旋转镀膜设备，所述导流组件包括导流筒，所述导流筒的侧壁上开设有多个流通孔，所述导流筒包括轴向相对设置的第一端和第二端，所述第一端连通于动力装置，以使所述旋转镀膜设备的药液或特气流经所述第一端，从所述第一端到所述第二端，多个所述流通孔的孔径逐渐增大。
[0007]作为一种导流组件的优选方案，所述导流组件还包括装配环，所述装配环套设在所述导流筒的外部，且所述装配环位于所述第一端，所述装配环上开设有连接孔，所述连接孔的轴向平行于所述导流筒的轴向，用于将所述导流筒连接于所述旋转镀膜设备的反应室。
[0008]作为一种导流组件的优选方案，所述导流组件还包括密封圈，所述装配环的连接面与所述第一端的端口平齐，所述连接面上环设有凹槽，所述密封圈部分设置在所述凹槽内。
[0009]作为一种导流组件的优选方案，所述导流组件还包括第一套管，所述第一套管同轴插设在所述导流筒内，且所述第一套管包括轴向相对设置的第三端和第四端，所述第三端与所述第一端平齐，所述第四端位于所述导流组件内。
[0010]作为一种导流组件的优选方案，所述导流组件还包括连接环，所述连接环设置在所述第一端处，所述连接环的外侧连接于所述导流筒的内壁，所述连接环的内侧连接于所述第一套管的外壁，所述连接环上开设有通流孔。
[0011]作为一种导流组件的优选方案，所述导流筒的横截面为圆形或多边形，所述流通孔为圆形或多边形。
[0012]作为一种导流组件的优选方案，所述导流组件还包括第二套管，所述第二套管同
轴套设在所述导流筒的外侧，且所述第二套管包括自身轴向的第五端和第六端，所述第五端与所述第一端平齐，所述第二套管的长度小于所述导流筒的长度。
[0013]本技术的另一个目的在于提供一种旋转镀膜设备，能够提高镀膜的均匀度，从而提高镀膜质量。
[0014]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0015]一种旋转镀膜设备，包括反应室、旋转平台以及上述的导流组件，所述导流组件和所述旋转平台均设置在所述反应室内，所述旋转平台间隔设置在所述导流组件的下方，所述反应室的顶面上开设有第一连通口，且第一端连通于所述第一连通口，所述反应室的侧壁上开设有第二连通口。
[0016]作为一种旋转镀膜设备的优选方案，还包括设置在所述反应室内的水平电极组件，所述水平电极组件包括同轴设置的多个环状的阳极板和阴极板，多个所述阳极板和多个所述阴极板沿竖直方向交替间隔设置。
[0017]作为一种旋转镀膜设备的优选方案，还包括设置在所述反应室内的阳极筒，所述阳极筒与所述导流组件同轴设置，且设置在所述导流组件的外侧，所述反应室的侧壁为阴极筒。
[0018]本技术的有益效果：
[0019]本技术提供了一种导流组件，应用于旋转镀膜设备，导流组件包括导流筒，导流筒的侧壁上开设有多个流通孔，导流筒包括轴向相对设置的第一端和第二端，第一端连通于动力装置，以使旋转镀膜设备的药液或特气流经第一端，从第一端到第二端，多个流通孔的孔径逐渐增大。可知的是，靠近第一端的流通孔处的流体所受的作用力较大，流通孔越远离第一端，其周围的流体所受的作用力越小，将多个流通孔设置为孔径沿导流筒的轴向逐渐增大，且越远离第一端的流通孔的孔径越大，即可增大靠近第一端的流通孔的压损，降低此处的流体流量，且增大远离第一端处的流通孔内的流体流量，使得导流筒外侧沿导流筒轴向的各处的流体流量和压力的均匀度得到改善，从而使得待镀膜工件的镀膜厚度的均匀度得到改善。
[0020]本技术还提供了旋转镀膜设备，包括反应室、旋转平台以及上述的导流组件，导流组件和旋转平台均设置在反应室内，旋转平台间隔设置在导流组件的下方，反应室的顶面上开设有第一连通口，且第一端连通于第一连通口，反应室的侧壁上开设有第二连通口。该旋转镀膜设备能够提高镀膜的均匀度，从而提高镀膜质量。
附图说明
[0021]图1是本技术实施例所提供的导流组件的结构示意图；
[0022]图2是本技术实施例所提供的导流组件的剖视图；
[0023]图3是本技术实施例所提供的旋转镀膜设备的部分结构的内部示意图(不包含待镀膜工件)；
[0024]图4是本技术实施例所提供的旋转镀膜设备的部分结构的内部示意图(包含待镀膜工件)；
[0025]图5是本技术实施例所提供的旋转镀膜设备的内部示意图(包含水平电极组件)；
[0026]图6是本技术实施例所提供的旋转镀膜设备的内部示意图(包含竖直电极组件)。
[0027]图中：
[0028]1、导流组件；11、导流筒；111、流通孔；112、动力口；12、装配环；121、连接孔；122、连接面；13、密封圈；14、第一套管；15、连接环；151、通流孔；
[0029]2、反应室；21、第一连通口；22、第二连通口；
[0030]3、旋转平台；
[0031]4、阳极板；5、阴极板；6、阳极筒；7、待镀膜工件；8、工件支撑板；9、阴极筒。
具体实施方式
[0032]下面结合附图和实施方式进一步说明本技术的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部。
[0033]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0034]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种导流组件，其特征在于，应用于旋转镀膜设备，所述导流组件(1)包括导流筒(11)，所述导流筒(11)的侧壁上开设有多个流通孔(111)，所述导流筒(11)包括轴向相对设置的第一端和第二端，所述第一端连通于动力装置，以使所述旋转镀膜设备的药液或特气流经所述第一端，从所述第一端到所述第二端，多个所述流通孔(111)的孔径逐渐增大。2.根据权利要求1所述的导流组件，其特征在于，所述导流组件(1)还包括装配环(12)，所述装配环(12)套设在所述导流筒(11)的外部，且所述装配环(12)位于所述第一端，所述装配环(12)上开设有连接孔(121)，所述连接孔(121)的轴向平行于所述导流筒(11)的轴向，用于将所述导流筒(11)连接于所述旋转镀膜设备的反应室(2)。3.根据权利要求2所述的导流组件，其特征在于，所述导流组件(1)还包括密封圈(13)，所述装配环(12)的连接面(122)与所述第一端的端口平齐，所述连接面(122)上环设有凹槽，所述密封圈(13)部分设置在所述凹槽内。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的导流组件，其特征在于，所述导流组件(1)还包括第一套管(14)，所述第一套管(14)同轴插设在所述导流筒(11)内，且所述第一套管(14)包括轴向相对设置的第三端和第四端，所述第三端与所述第一端平齐，所述第四端位于所述导流组件(1)内。5.根据权利要求4所述的导流组件，其特征在于，所述导流组件(1)还包括连接环(15)，所述连接环(15)设置在所述第一端处，所述连接环(15)的外侧连接于所述导流筒(11)的内壁...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓必龙，张向东，郑利勇，
申请(专利权)人：龙鳞深圳新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：