一种微纳结构的拼版结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种微纳结构的拼版结构，包括微纳结构模板(1)、抗粘剂层(2)、紫外固化胶水层(3)和待拼版的若干透明基底(4)；所述微纳结构模板(1)的表面均匀覆盖有抗粘剂层(2)，所述紫外固化胶水层(3)涂覆于所述抗粘剂层(2)的上方，需要拼版的透明基底(4)压印于所述紫外固化胶水层(3)并与之粘合。本实用新型专利技术的拼版结构可以完美复制微纳结构模板的线宽与深度，对胶水的收缩率、分离条件、固化时间无要求，从而有效保证各复制单元的一致性。从而有效保证各复制单元的一致性。从而有效保证各复制单元的一致性。

【技术实现步骤摘要】
一种微纳结构的拼版结构


[0001]本专利技术涉及纳米压印、UV拼版领域，具体涉及一种微纳结构的拼版结构。

技术介绍

[0002]微纳加工技术不断进步，制版技术日益成熟，目前可以用激光直写、步进投影光刻、电子束在熔石英、硅基底等材料上制作微纳结构。投影光刻国内大部分是6寸线，线宽精度做到500nm的设备较少，且生产周期较长，刻蚀一致性无法保证。激光直写、电子束，精度高，但加工速度慢，加工费用高昂。
[0003]目前的拼版技术主要有UV紫外固化拼版、热压拼版两种方式，热压拼版是将晶圆模板通过复制成镍板，通过电铸技术镀成金属镍板，(如果直接用晶圆进行电铸，微纳结构能精确复制，但因微纳结构与电铸板结合紧密，会造成晶圆模板损毁，一般通过软模版复制晶圆结构再进行电铸，复制步骤越多，则线宽与深度的损失越大。)且热压拼版是通过高温高压，使拼版基底达到玻璃化温度软化，将镍板上的微纳结构复制到基底上，此方式主要缺点是：1、加热不均匀导致微结构复制缺陷，2、拼版模版容易损伤，3、拨模分离时基底材料的回弹造成微结构复制差异。
[0004]UV紫外固化拼版目前主要用在防伪商标领域，以紫外固化胶水作为压印材料，利用紫外固化胶水的粘接力粘接在聚酯材料上(PET/PC/PVC等)。具体为，将晶圆或镍板上的微纳结构通过收缩率较大的紫外压印胶水复制到软模版上，选收缩率大的胶水目的是通过改变线宽与深度，从而使模板的微结构与固化后的微结构之间产生间隙，减少摩擦使得模板与复制版可以分离。胶水必须选择胶水在胶水复制板上能够分离的胶水。再将待拼版基底固定在工作平台上，点紫外固化胶，将软膜板贴合，上方放置曝光菲林，辊压排出气泡，最后曝光固化。此方式的缺点是：1、胶水必须收缩率大且必须胶水固化后与胶水不粘，胶水必须曝光固化时间短。2、微结构复制后的线宽与深度改变太多。3、胶水因未控制点胶量，在未固化是会渗透到已拼接好的单元，对已拼接好的微结构有腐蚀影响，且必须通过有机溶剂进行清洗，再次影响微纳结构。4、拼版单元的一致性不好，每次拼版的线宽与深度均不同。此UV固化拼版技术只能用于对微纳结构线宽与深度基本无要求的拼版需求中。

技术实现思路

[0005]针对现有技术的不足，本技术旨在提供一种微纳结构的拼版结构。
[0006]为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0007]一种微纳结构的拼版结构，包括微纳结构模板、抗粘剂层、紫外固化胶水层和待拼版的若干透明基底；所述微纳结构模板的表面均匀覆盖有抗粘剂层，所述紫外固化胶水层涂覆于所述抗粘剂层的上方，需要拼版的透明基底压印于所述紫外固化胶水层并与之粘合。
[0008]进一步地，所述透明基底不与微纳结构模板接触的一面刻有定位标记。
[0009]进一步地，所述紫外固化胶水层通过丝网涂覆。
[0010]进一步地，所述透明基底采用透明聚酯纤维基底。
[0011]进一步地，所述抗粘剂层采用含氟材料。
[0012]本专利技术的有益效果在于：本技术的拼版结构可以完美复制微纳结构模板的线宽与深度，对胶水的收缩率、分离条件、固化时间无要求，从而有效保证各复制单元的一致性。
附图说明
[0013]图1为本技术实施例中拼版结构的截面示意图。
具体实施方式
[0014]以下将结合附图对本技术作进一步的描述，需要说明的是，本实施例以本技术方案为前提，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本技术的保护范围并不限于本实施例。
[0015]本实施例提供一种微纳结构的拼版结构，如图1所示，包括微纳结构模板1、抗粘剂层2、紫外固化胶水层3和待拼版的若干透明基底4；所述微纳结构模板1的表面均匀覆盖有抗粘剂层2，所述紫外固化胶水层3涂覆于所述抗粘剂层2的上方，需要拼版的透明基底4压印于所述紫外固化胶水层3并与之粘合。
[0016]需要说明的是，通过在紫外固化胶水层3和微纳结构模板1之间设置抗粘剂层2，可以改变微纳结构模板1表面的粘接力，即便采用收缩率极小的紫外固化胶水也可以轻易与微纳结构模板1进行分离，从而可以降低对紫外固化胶水的选用范围和固化时间的要求。
[0017]在本实施例中，所述透明基底4不与微纳结构模板1接触的一面刻有定位标记。定位标记方便透明基底和微纳结构模板对位。
[0018]在本实施例中，所述紫外固化胶水层3通过丝网涂覆。采用丝网涂覆紫外固化胶水层，可以通过控制丝网的目数有效控制点胶量和点胶位置，从而有效控制边缘溢胶，以及控制最小拼版间距。
[0019]在本实施例中，所述透明基底4采用透明聚酯纤维基底。
[0020]在本实施例中，所述抗粘剂层2采用含氟材料。
[0021]需要说明的是，上述拼版结构的制作过程为：
[0022]将光刻刻蚀制备好的微纳结构模板，通过真空蒸镀设备将含氟材料(抗粘剂)均匀分布在微纳结构表面。
[0023]将镀好抗粘剂层的微纳结构模板固定在工作平台，将丝网与待压印的微纳结构模板对齐，然后涂覆紫外固化胶水。丝网的目数根据微纳结构尺寸大小确定，5mm＊5mm尺寸的丝网目数在1000目左右。
[0024]待拼版的透明基底为透明聚酯纤维基底，所述透明基底不与微纳结构模板接触的一面刻有定位标记，以方便对位。将透明基底放置在已涂覆好紫外固化胶水层的微纳结构模板上方。
[0025]用辊压装置对已拼版的透明基底进行辊压操作去除气泡，辊压起点应从已拼版区域朝未拼版区域的方向运动，其作用是虽然已通过丝网涂覆控制点胶量，但是辊压力会使辊压方向会有些许溢胶，从已拼版区域朝未拼版区域的方向辊压，可以避免影响已拼版的
区域。
[0026]利用LED面光源对辊压完成后的透明基底进行照射，固化紫外固化胶水层。紫外固化胶水是由树脂与光引发剂等组成，本实施例中，由于微纳结构模板进行过抗粘层涂覆处理，因此对紫外固化胶水的分辨率、收缩率没有要求，分辨率是指能复制微纳结构模板的最小线宽，收缩率则是胶水固化后整体结构的收缩比例，收缩比例越大脱模更容易，但是微结构的线宽、深度改变越大。
[0027]对于本领域的技术人员来说，可以根据以上的技术方案和构思，给出各种相应的改变和变形，而所有的这些改变和变形，都应该包括在本技术权利要求的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微纳结构的拼版结构，其特征在于，包括微纳结构模板(1)、抗粘剂层(2)、紫外固化胶水层(3)和待拼版的若干透明基底(4)；所述微纳结构模板(1)的表面均匀覆盖有抗粘剂层(2)，所述紫外固化胶水层(3)涂覆于所述抗粘剂层(2)的上方，需要拼版的透明基底(4)压印于所述紫外固化胶水层(3)并与之粘合。2.根据权利要求1所述的微纳结构的拼版结构，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓武，
申请(专利权)人：江西衍光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：