【技术实现步骤摘要】
衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法
[0001]本专利技术涉及一种衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。
技术介绍
[0002]为了对液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence：电致发光)显示装置等所使用的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、光磁盘用衬底、光掩模用衬底、陶瓷衬底或太阳能电池用衬底等各种衬底进行各种处理，而使用衬底处理装置。为了洗净衬底，而使用衬底洗净装置。
[0003]例如，日本专利第5904169号公报所记载的衬底洗净装置具备：2个吸附焊盘，保持晶圆的背面周缘部；旋转卡盘，保持晶圆的背面中央部；及刷子，洗净晶圆的背面。2个吸附焊盘保持晶圆且横向移动。在所述状态下，由刷子洗净晶圆的背面中央部。之后，旋转卡盘从吸附焊盘接收晶圆，旋转卡盘保持晶圆的背面中央部且绕铅直方向的轴(旋转轴)旋转。在所述状态下，由刷子洗净晶圆的背面周缘部。
技术实现思路
[0004]在所述衬底洗净装置中，从吸附焊盘对旋转卡盘传递晶圆时如果晶圆未准确对位，那么在晶圆的中心从旋转轴偏离的状态下晶圆由旋转卡盘吸附保持。在所述情况下，旋转卡盘旋转时衬底在偏心的状态下旋转。由此，在旋转的衬底周边的气流产生紊乱。另外，刷子相对于晶圆的背面周缘部的接触状态根据晶圆的旋转角度变动。在所述情况下，难以均一地洗净晶圆的背面周缘部。因此，在旋转卡盘上载置晶圆时，谋求以较高的精度对旋转卡盘定位晶圆。>[0005]本专利技术的目的在于提供一种能够以较高的精度在预先确定的位置准确定位衬底的衬底对位装置、衬底处理装置、衬底对位方法及衬底处理方法。
[0006](1)依照本专利技术的一方面的衬底对位装置是一种进行衬底的对位的衬底对位装置，其具备：第1及第2支撑部件，以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部；第1按压部件，以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底在第1及第2支撑部件上移动；及第1按压驱动部，驱动第1按压部件；且第1支撑部件包含限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动的移动限制部。
[0007]在所述衬底对位装置中，由第1及第2支撑部件从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部。在所述状态下，第1按压部件在第1方向按压衬底。由此，衬底在第1及第2支撑部件上在第1方向移动。这时，利用移动限制部限制衬底的移动，以避免超过规定位置。
[0008]结果，通过根据衬底的尺寸适当确定规定位置，能够以较高的精度使第1及第2支撑部件上所支撑的衬底准确定位于预先确定的位置。
[0009](2)第1支撑部件也可具有能够支撑衬底的外周端部且向第2支撑部件斜下方延伸
的第1倾斜支撑面，第2支撑部件具有能够支撑衬底的外周端部且向第1支撑部件斜下方延伸的第2倾斜支撑面。
[0010]在所述情况下，在第1及第2支撑部件上支撑衬底时，能够减少第1及第2支撑部件与衬底的接触面积。因此，减少污染物质的转印等，并减少衬底的洁净度的降低。
[0011](3)第1及第2支撑部件的每一个也可构成为能够在与第1方向平行的方向移动，衬底对位装置还具备：第1支撑驱动部，驱动第1支撑部件；及第2支撑驱动部，驱动第2支撑部件。
[0012]在所述情况下，通过适当调整第1支撑部件与第2支撑部件之间的距离，能够使由第1及第2支撑部件支撑的衬底顺利移动到第1及第2支撑部件的下方位置。另外，因为根据衬底的尺寸调整第1及第2支撑部件的间隔，所以扩大能够对位的衬底的尺寸的范围。
[0013](4)衬底对位装置也可还具备：第2按压部件，以俯视下与第2支撑部件对向的方式配置，在衬底由第1及第2支撑部件支撑且衬底的一部分由第1按压部件按压的状态下，在与第1方向相反的第2方向按压所述衬底的外周端部的其它部分；及第2按压驱动部，驱动第2按压部件。
[0014]在所述情况下，因为衬底牢固固定于第1按压部件与第2按压部件之间，所以能够对固定的衬底适当进行特定的处理。
[0015](5)第1及第2按压部件的每一个也可构成为能够在第1方向及第2方向移动。在所述情况下，通过适当调整第1按压部件与第2按压部件之间的距离，能够容易切换牢固固定衬底的状态、与不牢固固定衬底的状态。另外，能够根据衬底的尺寸调整第1及第2按压部件的间隔。因此，扩大能够固定在第1按压部件与第2按压部件之间的衬底的尺寸的范围。
[0016](6)第2按压驱动部也可以在第2按压部件在第2方向按压衬底的其它部分之后，第1按压部件从衬底的一部分分开之前从其它部分分开的方式驱动第2按压部件。
[0017]在所述情况下，通过第2按压部件从衬底的其它部分分开，对衬底只作用来自第1按压部件的按压力。由此，衬底在第1方向移动。在所述状态下，由移动限制部限制衬底的移动，以避免超过规定位置。因此，即使由第1及第2按压部件固定衬底之后，也能够以较高的精度将衬底准确且容易地定位于预先确定的位置。
[0018](7)第1按压部件也可包含：第1抵接面，与衬底的一部分接触；及第1上端突出部，从第1抵接面的上端向第1方向突出；且第2按压部件包含：第2抵接面，与衬底的其它部分接触；及第2上端突出部，从第2抵接面的上端向第2方向突出。
[0019]在衬底的一部分及其它部分由第1及第2按压部件同时按压的情况下，衬底有可能变形。即使在这种情况下，衬底的一部分也被保持于第2支撑部件与第1按压部件的第1上端突出部之间。另外，衬底的其它部分被保持于第1支撑部件与第2按压部件的第2上端突出部之间。因此，抑制衬底从第1及第2按压部件之间脱离。
[0020](8)依照本专利技术的另一方面的衬底处理装置具备所述衬底对位装置。由此，能够适当处理衬底。
[0021](9)依照本专利技术的又一方面的衬底对位方法是一种进行衬底的对位的衬底对位方法，其包含以下步骤：通过在以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置的第1及第2支撑部件上载置衬底，而使用第1及第2支撑部件分别从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部；在衬底由第1及第2支撑部件支撑的状态下，利用以俯视下与第1支撑部件对向的方式配置
的第1按压部件，在从第2支撑部件朝向第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使衬底在第1及第2支撑部件上移动；及在衬底在第1及第2支撑部件上移动时，由设置于第1支撑部件的移动限制部限制衬底超过预先确定的规定位置向第1方向移动。
[0022]在所述衬底对位方法中，由第1及第2支撑部件从衬底的下方位置支撑衬底的外周端部。在所述状态下，第1按压部件在第1方向按压衬底。由此，衬底在第1及第2支撑部件上在第1方向移动。这时，由移动限制部限制衬底的移动，以避免超过规定位置。
[0023]结果，通过根据衬底的尺寸适当确定规定位置，而本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种衬底对位装置，其是进行衬底的对位的衬底对位装置，且具备：第1及第2支撑部件，以俯视下相互对向的方式且分开的方式配置，分别从所述衬底的下方位置支撑所述衬底的外周端部；第1按压部件，以俯视下与所述第1支撑部件对向的方式配置，在所述衬底由所述第1及第2支撑部件支撑的状态下，在从所述第2支撑部件朝向所述第1支撑部件的第1方向按压所述衬底的外周端部的一部分，由此使所述衬底在所述第1及第2支撑部件上移动；及第1按压驱动部，驱动所述第1按压部件；且所述第1支撑部件包含限制所述衬底超过预先确定的规定位置向所述第1方向移动的移动限制部。2.根据权利要求1所述的衬底对位装置，其中所述第1支撑部件具有能够支撑所述衬底的外周端部且向所述第2支撑部件斜下方延伸的第1倾斜支撑面，所述第2支撑部件具有能够支撑所述衬底的外周端部且向所述第1支撑部件斜下方延伸的第2倾斜支撑面。3.根据权利要求1或2所述的衬底对位装置，其中所述第1及第2支撑部件的每一个构成为能够在与所述第1方向平行的方向移动，所述衬底对位装置还具备：第1支撑驱动部，驱动所述第1支撑部件；及第2支撑驱动部，驱动所述第2支撑部件。4.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的衬底对位装置，其还具备：第2按压部件，以俯视下与所述第2支撑部件对向的方式配置，在所述衬底由所述第1及第2支撑部件支撑且所述衬底的所述一部分由所述第1按压部件按压的状态下，在与所述第1方向相反的第2方向按压所述衬底的外周端部的其它部分；及第2按压驱动部，驱动所述第2按压部件。5.根据权利要求4所述的衬底对位装置，其中所述第1及第2按压部件的每一个构成为能够在所述第1方向及所述第2方向移动。6.根据权利要求5所述的衬底对位装置，其中所述第2按压驱动部以在所述第2按压部件在所述第2方向按压所述衬底的所述其它部分之后，所述第1按压部件从所述衬底的所述一部分分开之前从所述其它部分分开的方式驱动所述第2按压部件。7.根据权利要求4到6中任一权利要求所述的衬底对位装置，其中所述第1按压部件包含：第1抵接面...
【专利技术属性】
技术研发人员：冲田展彬，筱原智之，石井淳一，中村一树，筱原敬，髙桥拓马，冈田吉文，加藤洋，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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