一种雾化装置制造方法及图纸

技术编号:36302500 阅读:18 留言:0更新日期:2023-01-13 10:19
本申请实施例公开了一种雾化装置,涉及雾化技术领域,解决了相关技术中OID方案识别率低、准确率低等问题。该雾化装置包括装置本体、雾化组件,雾化组件安装于装置本体,雾化装置具有容纳腔,容纳腔用于容纳气溶胶生成基质,雾化装置还包括采集器和透光件,采集器和透光件安装于装置本体;其中,透光件位于雾化组件轴向的一端,且透光件位于容纳腔与采集器之间表面。本申请的雾化装置用于雾化气溶胶生成基质。质。质。

【技术实现步骤摘要】
一种雾化装置


[0001]本申请实施例涉及雾化领域,尤其涉及一种雾化装置。

技术介绍

[0002]雾化装置是用于加热、烘烤气溶胶生成基质以产生气溶胶供用户使用的装置。
[0003]不同的气溶胶生成基质因其成分、制作工艺等的不同,其最佳雾化模式有所不同。雾化模式包括雾化的时间、温度以及时间及温度的变化关系等。现有技术中有这样的方案:对气溶胶生成基质进行识别,再根据识别的气溶胶生成基质特性匹配合适的雾化模式。雾化介质的识别有不同方式,其中一种识别方式为光学辨识码(OID,Optical Identification)。
[0004]在进行产品开发的过程中,专利技术人发现,在雾化装置工作一段时间后,雾化产生的冷凝液、气溶胶等会导致OID光路产生模糊、异物而导致OID方案识别率低、准确率低等问题,影响用户的使用体验。

技术实现思路

[0005]为解决上述问题,本技术实施例提供一种雾化装置。该雾化装置能有效降低冷凝液、气溶胶等对OID光路的影响,提高OID识别率以及准确率。
[0006]本申请实施例提供一种雾化装置,包括装置本体、雾化组件,雾化组件安装于装置本体,雾化装置具有容纳腔,容纳腔用于容纳气溶胶生成基质,雾化装置还包括采集器和透光件,采集器和透光件安装于装置本体;其中,透光件位于雾化组件轴向的一端,且透光件位于容纳腔与采集器之间。
[0007]本申请实施例提供的雾化装置,包括装置本体和雾化组件,雾化组件安装在装置本体上,雾化组件可以雾化气溶胶生成基质,气溶胶生成基质容纳于雾化装置的容纳腔中,在此基础上,雾化装置还包括采集器和透光件,采集器和透光件均安装于装置本体;其中,透光件位于雾化组件轴向的一端,且透光件位于容纳腔与采集器之间,也即透光件位于容纳腔中的气溶胶生成基质和采集器之间,由于气溶胶难以渗透入透光件,透光件内的光线传播则不易被气溶胶影响,该光路受气溶胶的影响因此减小,能有效降低冷凝液、气溶胶等对OID 光路的影响,有利于采集器获得清晰准确的气溶胶生成基质的特征信息,从而提升了OID识别率和准确率。
[0008]在本申请的一种可能的实现方式中,雾化组件包括形成容纳腔的内壁,透光件包括第一表面,第一表面位于内壁所在结构面的延长面上。如此设置,透光件的第一表面成为容纳腔内壁的一部分,更加的贴近容纳空间内的气溶胶生成基质,减小透光件和气溶胶生成基质之间的间隙,使得气溶胶难以进入该间隙,以降低气溶胶对OID识别的影响。
[0009]在本申请的一种可能的实现方式中,雾化组件包括形成容纳腔的内壁,透光件包括第一表面,第一表面与内壁所在结构面的延长面平行。如此设置,透光件的第一表面相对容纳腔的内壁凸出,更加的贴近容纳空间内的气溶胶生成基质,减小透光件和气溶胶生成
基质之间的间隙,使得气溶胶难以进入该间隙,以降低气溶胶对OID识别的影响。
[0010]在本申请的一种可能的实现方式中,还包括发光器,发光器发出的光线至少部分在容纳腔与采集器之间。如此设置,当环境光线不足时,发光器发出的光线照射至气溶胶生成基质,并经气溶胶生成基质反射至采集器,从而将气溶胶生成基质的特征信息传递至采集器,提升采集器在环境光较弱情况下的识别率和准确率,拓宽了雾化装置的应用场景。
[0011]在本申请的一种可能的实现方式中,透光件还包括朝向采集器的第二作用面,第二表面为平面,第二表面包括靠近采集器的第一部分和靠近发光器的第二部分,第二表面相对第一表面倾斜设置,且第一部分和第一表面的间距大于第二部分和第一表面的间距。如此设置,当发光器发出的光线在采集器视场范围外的第二表面上反射时,反射光线可能经过采集器,但由于反射点在视场外因此不会影响采集器,而当光线在采集器视场范围内的第二表面上反射时,反射光线则不经过采集器,因而降低了第二表面反射光线对采集器的影响。
[0012]在本申请的一种可能的实现方式中,透光件还包括朝向采集器的第二表面,第二表面为圆弧面,且第二表面内凹设置于透光件,第二表面的中心和采集器平齐设置。如此设置,发光器发出的光线在第二表面上反射时,反射法线经过采集器,反射光线和入射光线关于反射法线对称,即反射光线将会和采集器错位,因此,可以降低第二表面的反射光线对采集器的干扰。
[0013]在本申请的一种可能的实现方式中,装置本体还包括密封腔,至少部分透光件的表面形成密封腔的部分腔壁,采集器和发光器均位于密封腔内。如此设置,密封腔对气溶胶进行阻隔,阻止气溶胶进入透光件和采集器之间,使得透光件和采集器之间的光路受气溶胶影响较小,进一步提升采集器的识别率和准确率。
[0014]在本申请的一种可能的实现方式中,密封腔和容纳腔分设于透光件的相对两侧,密封腔的径向尺寸沿远离容纳腔方向逐步缩小,密封腔沿远离容纳腔方向呈阶梯状延伸。如此设置,密封腔设有采集器的一端尺寸较小,发光器在密封腔的腔壁上的反射光线也将远离采集器,减少了对采集器的光线干扰,阶梯状设置则增使得反射法线远离采集器,进而使得发射光线有更大的概率被反射至远离采集器方向,进一步降低腔壁反射光线对采集器的干扰。
[0015]在本申请的一种可能的实现方式中,透光件的第一表面的尺寸满足:
[0016]L≥2*X;
[0017]式中,L为第一表面沿雾化组件径向的尺寸;X为气溶胶生成基质上单个有效识别标志沿雾化组件径向的尺寸,其中,有效识别标志用于被采集器采集。如此设置,第一表面的宽度,也即采集器在第一表面处的视窗宽度至少为两个有效识别标志的宽度,因此,即使有效识别标志未与采集器对正,采集器也能采集到至少一个有效识别标志,以获取到气溶胶生成基质的特征信息,降低了气溶胶生成基质放入容纳腔时有效识别标志的朝向对采集器识别效果的影响。
附图说明
[0018]图1为本申请实施例提供的雾化装置的剖切视图;
[0019]图2为本申请实施例提供的雾化装置中透光件和雾化组件的位置示意图;
[0020]图3为本申请实施例提供的雾化装置中透光件和容纳腔的位置示意图;
[0021]图4为本申请实施例提供的雾化装置中第一表面位于内壁所在结构面的延长面上的示意图;
[0022]图5为本申请实施例提供的雾化装置中第一表面与内壁所在结构面平行的示意图;
[0023]图6为本申请实施例提供的雾化装置中透光件和气溶胶生成基质的位置示意图;
[0024]图7为本申请实施例提供的气溶胶生成基质中标志区的结构示意图;
[0025]图8为本申请实施例提供的雾化装置中辅助光线经第二作用面反射产生高亮光斑的示意图;
[0026]图9为本申请实施例提供的雾化装置中辅助光线经第一作用面反射产生高亮光斑的示意图;
[0027]图10为本申请实施例提供的雾化装置中第二作用面为圆弧面时辅助光线经第二表面反射时的光路示意图;
[0028]图11为本申请实施例提供的雾化装置中第二作用面为圆弧面时辅助光线经第一表面反射时的光路示意图;
[0029]图12为本申请实施本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种雾化装置,包括装置本体、雾化组件,所述雾化组件安装于所述装置本体,所述雾化装置具有容纳腔,所述容纳腔用于容纳气溶胶生成基质,其特征在于,所述雾化装置还包括:采集器和透光件,所述采集器和透光件安装于所述装置本体;其中,所述透光件位于所述雾化组件轴向的一端,且所述透光件位于所述容纳腔与所述采集器之间。2.根据权利要求1所述的雾化装置,其特征在于,所述雾化组件包括形成容纳腔的内壁,所述透光件包括第一表面,所述第一表面位于所述内壁所在结构面的延长面上。3.根据权利要求1所述的雾化装置,其特征在于,所述雾化组件包括形成容纳腔的内壁,所述透光件包括第一表面,所述第一表面与所述内壁所在结构面的延长面平行。4.根据权利要求2或3所述的雾化装置,其特征在于,还包括发光器,所述发光器发出的光线至少部分在所述容纳腔与所述采集器之间。5.根据权利要求4所述的雾化装置,其特征在于,所述透光件还包括朝向所述采集器的第二表面,所述第二表面为平面,所述第二表面包括靠近所述采集器的第一部分和靠近所述发光器的第二部分,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:严若飞沈丕发明志南曾昭焕
申请(专利权)人:深圳麦克韦尔科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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