一种自给式晶硅烧胶炉制造技术

技术编号:36287447 阅读:31 留言:0更新日期:2023-01-13 09:59
本发明专利技术涉及晶硅废片回收处理设备机领域,尤其涉及一种自给式晶硅烧胶炉,包括加热炉、设置在加热炉进料端的给料设备以及与加热炉连接的除尘设备,将晶硅废片投放至加热内,通过加热使晶硅废片表面附着的参胶融化后与晶硅分离,通过在加热炉的两端增设除尘罩,利用除尘罩在进料端和出料端对其作业中的废气进行收集后输送至除尘器中进行处理后再排放,以此来减小作业过程中对环境的污染。此来减小作业过程中对环境的污染。此来减小作业过程中对环境的污染。

【技术实现步骤摘要】
一种自给式晶硅烧胶炉


[0001]本专利技术涉及晶硅废片回收处理设备机领域,尤其涉及一种用于处理晶硅废片上残留胶板的烧胶炉。

技术介绍

[0002]晶体硅,又称晶硅,是最主要的光伏材料,性质为带有金属光泽的灰黑色固体、熔点高(1410)、硬度大、有脆性、常温下化学性质不活泼。其市场占有率在90%以上,而且在今后相当长的一段时期也依然是太阳能电池的主流材料;
[0003]在制作太阳能电池时会有大量的表胶料或者受损的晶硅废片产生,而这些晶硅废片在回收处理时需要将粘附在其表面的搅拌进行去除,现有除胶方式为利用晶硅熔点高的性质对晶硅废片进行加热,使得附着在其表面的胶板融化后与晶硅废片表面的胶板融化,现有的加热设备一般为现有的加热炉,通过改变其加热温度后来直接对晶硅废片进行回收作业,而晶硅废片表面的搅拌在受热融化时会产生飞尘和有还气体,常用的加热炉无法对其进行回收处理,这样会导致在加热过程中对环境造成二次污染,且还会对操作人员的身体造成危害,且在向加热炉进行物料投放时大多使用提升机进行直接投放,连续性的作业会导致加热设备的进料端无法闭合,会加剧废气的泄露。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于克服现有技术中的不足,提供一种能够进行连续性下料且能避免废弃泄露后污染环境的自给式晶硅烧胶炉。
[0005]本专利技术是通过以下技术方案实现的:一种自给式晶硅烧胶炉,包括加热炉、设置在加热炉进料端的给料设备以及与加热炉连接的除尘设备;
[0006]所述加热炉包括支架,所述支架的上方设置有防护壳体,所述防护壳体内设置有滚筒,所述支架的一端设置有用于驱动滚筒转动的电机;
[0007]所述给料设备包括输送带,所述支架的一端设置有与滚筒连接的下料斗;
[0008]所述除尘设备包括设置在加热炉一侧的除尘器,所述加热炉的两端设置有除尘罩,两个除尘罩通过管道连接,所述管道上设置有与除尘器连接的送风管。
[0009]进一步地,所述除尘器包括密封壳体,所述密封壳体的上方设置有出风管,所述密封壳体的侧壁上设置有用于连接送风管的进风口,所述密封壳体内设置有过滤组件,所述密封壳体的底部设置有排渣仓。
[0010]进一步地,所述过滤组件包括多个沿着密封壳体的高度方向分布的过滤网板,每个过滤网板均与密封壳体的内侧壁可拆卸式连接。
[0011]进一步地,所述密封壳体的一侧设置有检修门,所述过滤网板朝向检修门的一侧设置有插接板,所述检修门的内侧壁上设置有与插接板配合使用避位槽。
[0012]进一步地,所述排渣仓的上部设置有密封隔板,所述密封隔板的下表面设置有振动器。
[0013]进一步地,所述密封隔板的中部设置有弧顶,所述弧顶位于进风口的下方,所述密封隔板的四周与排渣仓的内侧壁之间设置有下料间隙。
[0014]进一步地,所述下料斗的下方设置有与支架连接的安装座,所述安装座的上表面设置有用于安装下料斗的弹簧座,所述下料斗的下表面设置有振动电机,所述下料斗的侧壁上设置有延伸至滚筒内的导料板。
[0015]进一步地,所述防护壳体的内侧壁上设置有保温层,所述保温层的内设置有加热板。
[0016]进一步地,所述支架的中部设置有用于固定防护壳体的支撑板,所述支撑板的一端与安装支架铰接,另一端与支架之间设置有升降杆。
[0017]进一步地,所述支架上设置有位于支撑板两侧的限位托辊,每个限位托辊的下方均设置有与支架连接的调节座。
[0018]本专利技术的有益效果在于:该自给式晶硅烧胶炉,包括加热炉、设置在加热炉进料端的给料设备以及与加热炉连接的除尘设备,将晶硅废片投放至加热内,通过加热使晶硅废片表面附着的参胶融化后与晶硅分离,通过在加热炉的两端增设除尘罩,利用除尘罩在进料端和出料端对其作业中的废气进行收集后输送至除尘器中进行处理后再排放,以此来减小作业过程中对环境的污染。
附图说明
[0019]图1为本专利技术的主视图;
[0020]图2为本专利技术的侧视图;
[0021]图3为本专利技术中密封壳体的结构示意图;
[0022]图4为本专利技术中加热炉的结构示意图;
[0023]图5为本专利技术中密封隔板的结构示意图;
[0024]图6为本专利技术中密封隔板与排渣仓上部的连接结构示意图;
[0025]图7为本专利技术中检修门与过滤网板的机构示意图;
[0026]图8为本专利技术中检修门的结构示意图。
[0027]其中:1

加热炉;2

防护壳体;3

滚筒;4

电机;5

输送带;6

下料斗;7

除尘罩;8

管道;9

送风管;10

密封壳体;11

出风管;12

进风口;13

排渣仓;14

过滤网板;15

检修门;16

插接板;17

避位槽;18

弧形压板;19

导向柱;20

密封胶垫;21

密封隔板;22

振动器;23

弧顶;24

下料间隙;25

安装座;26

弹簧座;27

振动电机;28

导料板;29

保温层;30

加热板;31

支撑板;32

升降杆;33

限位托辊;34

调节座。
具体实施方式
[0028]在本专利技术的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0029]下面将结合专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整
地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0030]实施例1
[0031]如图1

8所示,一种自给式晶硅烧胶炉,包括加热炉1、设置在加热炉1进料端的给料设备以及与加热炉1连接的除尘设备,将晶硅废片投放至加热内,通过加热使晶硅废片表面附着的参胶融化后与晶硅分离;
[0032]加热炉1包括支架,支架的上方固定安装有防护壳体2,防护壳本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自给式晶硅烧胶炉,其特征在于:包括加热炉、设置在加热炉进料端的给料设备以及与加热炉连接的除尘设备;所述加热炉包括支架,所述支架的上方设置有防护壳体,所述防护壳体内设置有滚筒,所述支架的一端设置有用于驱动滚筒转动的电机;所述给料设备包括输送带,所述支架的一端设置有与滚筒连接的下料斗;所述除尘设备包括设置在加热炉一侧的除尘器,所述加热炉的两端设置有除尘罩,两个除尘罩通过管道连接,所述管道上设置有与除尘器连接的送风管。2.根据权利要求1所述的一种自给式晶硅烧胶炉,其特征在于:所述除尘器包括密封壳体,所述密封壳体的上方设置有出风管,所述密封壳体的侧壁上设置有用于连接送风管的进风口,所述密封壳体内设置有过滤组件,所述密封壳体的底部设置有排渣仓。3.根据权利要求2所述的一种自给式晶硅烧胶炉,其特征在于:所述过滤组件包括多个沿着密封壳体的高度方向分布的过滤网板,每个过滤网板均与密封壳体的内侧壁可拆卸式连接。4.根据权利要求3所述的一种自给式晶硅烧胶炉,其特征在于:所述密封壳体的一侧设置有检修门,所述过滤网板朝向检修门的一侧设置有插接板,所述检修门的内侧壁上设置有与插接板配合...

【专利技术属性】
技术研发人员:郭英丽聂勇胡胜魁贾丹丹郭玉涛程小敏
申请(专利权)人:河南省众邦伟业科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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