一种便于防护的等离子处理机制造技术

本实用新型专利技术涉及等离子设备技术领域，尤其为一种便于防护的等离子处理机，包括等离子体处理设备，所述等离子体处理设备的一侧设置有陶瓷基板，所述陶瓷基板的一侧均开设有若干个排气孔，所述排气孔与等离子体处理设备相连通，所述陶瓷基板的两侧均设置有安装组件；所述安装组件包含有与陶瓷基板固定连接的安装箱，所述安装箱的内腔固定连接有固定座。本实用新型专利技术具备便于防护的优点，在实际使用过程中，通过安装组件、推动组件、锁止组件和阻挡组件的配合时，起到了对陶瓷基板进行快速拆卸的作用，避免了使用者需要花费大量的精力对其拆卸的情况，既省时省力，又减轻了使用者的工作负担。负担。负担。

【技术实现步骤摘要】
一种便于防护的等离子处理机


[0001]本技术涉及等离子设备
，具体为一种便于防护的等离子处理机。

技术介绍

[0002]近年来，存在使用等离子体进行处理的等离子体处理装置，例如等离子体蚀刻或等离子体灰化，这是半导体制造过程中的必要技术，等离子体处理装置在处理室内以上电极和下电极对置的方式设置，在向处理室内注入反应气体的同时对上电极施加高频电力，从而产生等离子体，放在两个电极之间，放在下电极上处理过的陶瓷基板表面经过微加工。
[0003]但现有的等离子体处理装置大多不具备便于防护的功能，因此陶瓷基板在长时间使用下，使用者需要对陶瓷基板进行定期维护，这就需要使用者把陶瓷基板拆卸下进行安全检测，这不仅增加了使用者的工作负担，还不方便使用者使用，费时费力，降低了陶瓷基板的实用性，我们提出一种便于防护的等离子处理机，具备便于防护的功能。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种便于防护的等离子处理机，具备便于防护的优点，解决了现有的等离子体处理装置大多不具备便于防护的功能，因此陶瓷基板在长时间使用下，使用者需要对陶瓷基板进行定期维护，这就需要使用者把陶瓷基板拆卸下进行安全检测，这不仅增加了使用者的工作负担，还不方便使用者使用，费时费力的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种便于防护的等离子处理机，包括等离子体处理设备，所述等离子体处理设备的一侧设置有陶瓷基板，所述陶瓷基板的一侧均开设有若干个排气孔，所述排气孔与等离子体处理设备相连通，所述陶瓷基板的两侧均设置有安装组件；
[0006]所述安装组件包含有与陶瓷基板固定连接的安装箱，所述安装箱的内腔固定连接有固定座，所述固定座的一侧贯穿设置有移动杆，所述移动杆的一端固定连接有移动块，所述移动块的一侧开设有滑槽，所述安装箱的一侧开设有贯穿孔；
[0007]所述固定座的内腔设置有推动组件；
[0008]所述推动组件包含有与固定座固定连接的连接块，所述连接块的一侧通过转轴转动连接有运行块，所述运行块的一侧转动连接有滑杆，所述滑杆的表面与滑槽滑动连接，所述运行块的一侧固定连接有推杆，所述推杆的表面开设有阻挡孔；
[0009]所述等离子体处理设备的一侧开设有两个呈对称设置的锁止孔；
[0010]所述移动块的一侧设置有锁止组件；
[0011]所述锁止组件包含有与移动块固定连接的锁止杆，所述锁止杆的表面套设有第一弹簧，所述第一弹簧的两端分别与移动块和固定座固定连接，所述锁止杆的一端贯穿至锁止孔的内腔；
[0012]所述陶瓷基板的两侧均设置有阻挡组件，所述阻挡组件与阻挡孔配合使用。
[0013]优选的，所述阻挡组件包含有与陶瓷基板固定连接的阻挡箱，所述阻挡箱内腔的
两侧均开设有导向槽，所述导向槽的内腔共同滑动连接有导向块，所述阻挡箱的内腔固定连接有第二弹簧，所述第二弹簧的一端与导向块固定连接，所述导向块的一侧固定连接有阻挡杆，所述阻挡杆的一端贯穿至阻挡孔的外侧，所述阻挡杆的表面固定连接有第一把手。
[0014]优选的，所述安装箱的内腔开设有限位槽，所述限位槽的内腔滑动连接有限位块，所述限位块的一侧与移动块固定连接。
[0015]优选的，所述推杆的一端延伸至贯穿孔的外侧并固定连接有第二把手，且第二把手的形状为圆柱。
[0016]优选的，所述第二弹簧和导向块构成伸缩结构，且最大伸缩距离等于第二弹簧的形变量。
[0017]优选的，所述固定座的形状为凹形。
[0018]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0019]1、本技术具备便于防护的优点，在实际使用过程中，通过安装组件、推动组件、锁止组件和阻挡组件的配合时，起到了对陶瓷基板进行快速拆卸的作用，避免了使用者需要花费大量的精力对其拆卸的情况，既省时省力，又减轻了使用者的工作负担，还方便使用者使用，提升了陶瓷基板的实用性，解决了现有的等离子体处理装置大多不具备便于防护的功能，因此陶瓷基板在长时间使用下，使用者需要对陶瓷基板进行定期维护，这就需要使用者把陶瓷基板拆卸下进行安全检测，这不仅增加了使用者的工作负担，还不方便使用者使用，费时费力的问题。
[0020]2、本技术通过阻挡组件的设置，起到了对推动组件进行锁止的作用，避免了推动组件出现掉落的情况，省时省力，提高了使用者的作业效率，通过限位槽和限位块的配合使用，起到了对移动块在运行时进行限位的作用，避免了移动块在运行时出现位置偏移的情况，提高了移动块在运行时的稳定性，通过第二把手的设置，增加了使用者手掌与推杆之间的接触面积，方便使用者使用推动推杆，既增加了使用者在使用时的舒适度，又方便使用者使用，通过第二弹簧的设置，起到了快速回弹的作用，既增加锁止时的便捷性，又便于使用者使用。
附图说明
[0021]图1为本技术结构示意图；
[0022]图2为本技术部分结构的侧视图；
[0023]图3为本技术图1中A的局部放大图；
[0024]图4为本技术部分结构的立体示意图；
[0025]图5为本技术部分结构的剖面立体示意图；
[0026]图6为本技术部分结构的剖面侧视图；
[0027]图7为本技术阻挡组件的剖面侧视图。
[0028]图中：1、等离子体处理设备；2、陶瓷基板；21、排气孔；3、安装组件；31、安装箱；32、固定座；33、移动杆；34、移动块；35、滑槽；36、贯穿孔；4、推动组件；41、连接块；42、运行块；43、滑杆；44、推杆；45、阻挡孔；5、锁止组件；51、锁止杆；52、第一弹簧；6、锁止孔；7、阻挡组件；71、阻挡箱；72、导向槽；73、导向块；74、第二弹簧；75、阻挡杆；76、第一把手；8、限位槽；9、限位块；10、第二把手。
具体实施方式
[0029]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0030]如附图1至附图7所示：本技术提供一种便于防护的等离子处理机，包括等离子体处理设备1，等离子体处理设备1的一侧设置有陶瓷基板2，陶瓷基板2的一侧均开设有若干个排气孔21，排气孔21与等离子体处理设备1相连通，陶瓷基板2的两侧均设置有安装组件3。
[0031]进一步，安装组件3包含有与陶瓷基板2固定连接的安装箱31，安装箱31的内腔固定连接有固定座32，固定座32的形状为凹形，固定座32的一侧贯穿设置有移动杆33，移动杆33的一端固定连接有移动块34，移动块34的一侧开设有滑槽35，安装箱31的一侧开设有贯穿孔36。
[0032]进一步，固定座32的内腔设置有推动组件4。
[0033]进一步，推动组件4包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于防护的等离子处理机，包括等离子体处理设备（1），其特征在于：所述等离子体处理设备（1）的一侧设置有陶瓷基板（2），所述陶瓷基板（2）的一侧均开设有若干个排气孔（21），所述排气孔（21）与等离子体处理设备（1）相连通，所述陶瓷基板（2）的两侧均设置有安装组件（3）；所述安装组件（3）包含有与陶瓷基板（2）固定连接的安装箱（31），所述安装箱（31）的内腔固定连接有固定座（32），所述固定座（32）的一侧贯穿设置有移动杆（33），所述移动杆（33）的一端固定连接有移动块（34），所述移动块（34）的一侧开设有滑槽（35），所述安装箱（31）的一侧开设有贯穿孔（36）；所述固定座（32）的内腔设置有推动组件（4）；所述推动组件（4）包含有与固定座（32）固定连接的连接块（41），所述连接块（41）的一侧通过转轴转动连接有运行块（42），所述运行块（42）的一侧转动连接有滑杆（43），所述滑杆（43）的表面与滑槽（35）滑动连接，所述运行块（42）的一侧固定连接有推杆（44），所述推杆（44）的表面开设有阻挡孔（45）；所述等离子体处理设备（1）的一侧开设有两个呈对称设置的锁止孔（6）；所述移动块（34）的一侧设置有锁止组件（5）；所述锁止组件（5）包含有与移动块（34）固定连接的锁止杆（51），所述锁止杆（51）的表面套设有第一弹簧（52），所述第一弹簧（52）的两端分别与移动块（34）和固定座（32）固定连接，所述锁止杆（51）的...

【专利技术属性】
技术研发人员：马彪，徐涛，宋扬，
申请(专利权)人：南京华易泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：