一种膜层制备装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种膜层制备装置，用于在基材表面涂覆制备膜层，其包括设置在膜层涂覆工位开端和膜层固化工位末端之间的检测单元，所述检测单元包括膜层状态检测器和传送组件；所述传送组件包括平行设置的第一传送线和第二传送线；所述基材通过所述第一传送线输送在线涂覆所述膜层；所述膜层状态检测器设置在所述第二传送线上，所述膜层状态检测器的数据采集端正对所述膜层设置；检测时所述第二传送线和所述第一传送线的传送方向和传送速度一致；本实用新型专利技术克服现有技术中卷对卷工艺制程衬底处于运动状态，没有充足时间对膜层质量原位检测的难点，实现检测单元和衬底基材检测位置的相对静止，使检测单元具备充分时间收集数据。据。据。

【技术实现步骤摘要】
一种膜层制备装置


[0001]本技术涉及薄膜制造设备领域，尤其是指一种膜层制备装置。

技术介绍

[0002]进行狭缝涂布或刮涂等湿法成膜的制备工艺时，监控湿法膜层结晶固化过程对成品质量具有重要意义，为精准调控湿法成膜结晶固化的过程，现有技术中主要采用原位监控的方法实现结晶过程的监控，即对于膜层的某一固定位置通过收集不同波段下荧光光谱和动态散射数据，静态检测溶液挥发过程中荧光和散射过程，进而达到监控效果。
[0003]在普通的测量方法和测量设备中，检测单元均需要一定的时间用于数据的收集，例如荧光光谱、吸收光谱的数据收集最快需要10ms，其他常规的测量数据则需要3s以上的时间；现有可使用的动态多光谱一体机，可检测热处理过程中的吸收光谱、荧光光谱、拉曼光谱和动态瑞利散射等，但均要求检测位置固定且处于静止状态。
[0004]对于卷对卷工艺制程而言，卷材基材一直在放卷机构和收卷机构之间处于运动状态，无法提供静止时间段用于膜层数据的检测收集，在运动状态下检测得到的数据仅能进行定性对比，无法进行定量分析，对于不同批次不同产线的产品质量无法进行对比。

技术实现思路

[0005]为此，本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中针对卷对卷工艺制程中衬底处于运动状态，没有足够时间对膜层质量原位监控的技术难点，提供一种膜层制备装置，实现检测单元和衬底检测位置的相对静止，使检测单元具备充分时间收集数据。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供了一种膜层制备装置，用于在基材表面涂覆制备膜层，其包括检测单元，所述检测单元设置在膜层涂覆工位开端和膜层固化工位末端之间，所述检测单元包括膜层状态检测器和传送组件；
[0007]所述传送组件包括平行设置的第一传送线和第二传送线；所述基材通过所述第一传送线输送在线涂覆所述膜层；所述膜层状态检测器设置在所述第二传送线上，所述膜层状态检测器的数据采集端正对所述膜层设置；所述第一传送线输送基材涂覆膜层时，所述第二传送线和所述第一传送线的传送方向和传送速度一致。
[0008]在本技术的一个实施例中，所述膜层状态检测器包括膜层厚度检测器或/和膜层形貌检测器，所述膜层厚度检测器用于检测所述膜层的厚度，所述膜层形貌检测器用于检测所述膜层表面的形貌数据。
[0009]在本技术的一个实施例中，所述第一传送线和第二传送线分别外接第一驱动器和第二驱动器；当所述膜层状态检测器采集数据时，所述第一驱动器和第二驱动器分别驱动所述第一传送线和第二传送线同时沿所述基材的移动方向输送；当所述膜层状态检测器采集数据结束后，所述第二驱动器驱动所述第二传送线反向移动复位。
[0010]在本技术的一个实施例中，所述膜层制备装置还包括控制总成，所述控制总成连接所述第一驱动器与第二驱动器，所述第一驱动器和第二驱动器受控于所述控制总成
以驱动所述第一传送线和第二传送线同速输送。
[0011]在本技术的一个实施例中，所述第一传送线或/和所述第二传送线包括依次间隔排列设置的多组传送辊。
[0012]在本技术的一个实施例中，所述传送辊设置为一体式长条辊状结构。
[0013]在本技术的一个实施例中，所述传送辊包括相对设置的一对分体辊，所述一对分体辊分别位于所述基材宽度方向的两侧边沿设置。
[0014]在本技术的一个实施例中，所述膜层固化工位上设有烘箱，所述烘箱两侧均水平设有狭缝，所述狭缝的宽度能够通过所述检测单元。
[0015]在本技术的一个实施例中，所述膜层制备装置还包括放卷机构、收卷机构和清洗单元，所述清洗单元和检测单元依次设置于所述放卷机构和收卷机构之间。
[0016]在本技术的一个实施例中，所述清洗单元包括超声清洗和等离子清洗。
[0017]本技术的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
[0018]本技术所述的膜层制备装置结构简单便于使用，所述检测单元设置在膜层涂覆工位开端和膜层固化工位末端之间，延伸至烘箱内部，实现对膜层制备全程的在线检测；
[0019]所述第一传送线和第二传送线能够同速同向运动，使所述膜层状态检测器和所述膜层的检测位置相对静止，使所述膜层状态检测器能够有充足时间收集光学数据，定性及定量分析所述膜层制备状态，实现对膜层同一位置的在线检测。
附图说明
[0020]为了使本技术的内容更容易被清楚的理解，下面根据本技术的具体实施例并结合附图，对本技术作进一步详细的说明，其中：
[0021]图1是本技术优选实施例中一种膜层制备装置的结构示意图；
[0022]图2是本技术实施例一中检测单元的结构示意图及剖面示意图；
[0023]图3是本技术实施例二中检测单元的结构示意图及剖面示意图；
[0024]图4是本技术优选实施例中检测光源经膜层反射的示意图。
[0025]说明书附图标记说明：1、检测单元；2、膜层状态检测器；21、激光发射器；22、数据采集端；3、传送组件；31、第一传送线；32、第一传送辊；33、第二传送线；34、第二传送辊；35、基材；41、控制总成；42、第一驱动器；43、第二驱动器；5、膜层涂覆工位；51、涂布头；52、涂布辊；6、膜层固化工位；61、烘箱；7、清洗单元；71、超声清洗；72、等离子清洗；8、放卷机构；9、收卷机构。
具体实施方式
[0026]下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本技术的限定。
[0027]实施例一
[0028]参照图1所示，本技术提供一种膜层制备装置，用于在基材35表面涂覆制备膜层，使用卷对卷工艺制程在透明衬底上通过狭缝涂布或刮涂等方式进行湿法成膜并在线检测膜层质量；所述膜层制备装置包括放卷机构8、收卷机构9、清洗单元7和检测单元1；所述清洗单元7和检测单元1依次设置于所述放卷机构8和收卷机构9之间，所述清洗单元7包括
超声清洗71和等离子清洗72，所述基材35经所述放卷机构8放出依次经超声清洗71和等离子清洗72后进入所述检测单元1。
[0029]参照图1和图2所示，所述检测单元1设置在所述膜层涂覆工位5开端和膜层固化工位6末端之间，用于在线检测所述基材35从涂覆膜层溶液材料至后段流平及升温结晶固化过程中的膜层状态变化。
[0030]进一步的，在本技术实施例一中所述膜层使用狭缝涂布制备，所述膜层涂覆工位5包括在竖直方向上同轴设置的涂布头51与涂布辊52，在其他实施例中所述膜层涂覆工位5也可以使用气刀涂布或刮涂等其他涂布方式。具体的，在本技术实施例一中所述膜层固化工位6上设有烘箱61，通过烘箱61升温使所述膜层材料结晶固化，所述烘箱61两侧均水平设有狭缝，所述狭缝的宽度能够通过所述检测单元1，所述检测单元1包括膜层状态检测器2和传送组件3。
[0031]具体的，参照本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种膜层制备装置，用于在基材表面涂覆制备膜层，其特征在于，包括，检测单元，其设置在膜层涂覆工位开端和膜层固化工位末端之间，所述检测单元包括膜层状态检测器和传送组件；所述传送组件包括平行设置的第一传送线和第二传送线；所述基材通过所述第一传送线输送在线涂覆所述膜层；所述膜层状态检测器设置在所述第二传送线上，所述膜层状态检测器的数据采集端正对所述膜层设置；所述第一传送线输送基材涂覆膜层时，所述第二传送线和所述第一传送线的传送方向和传送速度一致。2.根据权利要求1所述的一种膜层制备装置，其特征在于：所述膜层状态检测器包括膜层厚度检测器或/和膜层形貌检测器，所述膜层厚度检测器用于检测所述膜层的厚度，所述膜层形貌检测器用于检测所述膜层表面的形貌数据。3.根据权利要求1所述的一种膜层制备装置，其特征在于：所述第一传送线和第二传送线分别外接第一驱动器和第二驱动器；当所述膜层状态检测器采集数据时，所述第一驱动器和第二驱动器分别驱动所述第一传送线和第二传送线同时沿所述基材的移动方向输送，当所述膜层状态检测器采集数据结束后，所述第二驱动器驱动所述第二传送线反向移动复位...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱颖晖，祝晓钊，王徐亮，
申请(专利权)人：苏州方昇光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：