【技术实现步骤摘要】
热传导模块及制备方法和应用、电子产品
[0001]本公开涉及散热
,特别涉及热传导模块及制备方法和应用、电子产品。
技术介绍
[0002]随着电子产品微型化和高频化发展,电子器件的功率密度不断提高,其热通量也随之显著增大。金刚石作为一种超高导热材料,使用金刚石晶片能够对高功率器件的电子芯片进行高效散热。
[0003]相关技术中,在高功率器件的芯片衬底表面和金刚石晶片表面分别溅射一层硅纳米层,采用表面活化键合工艺,使金刚石晶片和芯片衬底上的硅纳米层进行键合,实现金刚石晶片与芯片衬底之间的紧密贴合。
[0004]然而,表面活化键合工艺对键合材料的表面粗糙度要求极高,需要将金刚石晶片的表面抛光至小于1nm的粗糙度,抛光技术难度极大,操作复杂,成本较高,不利于规模化应用。
[0005]公开内容
[0006]鉴于此,本公开提供了热传导模块及制备方法和应用、电子产品,能够解决上述技术问题。
[0007]具体而言,包括以下的技术方案:
[0008]一方面,本公开实施例提供了一种热传导模块的制备方法,所述热传导模块的制备方法包括:
[0009]分别对金刚石晶片和衬底依次进行清洗处理和活化处理,得到预处理金刚石晶片和预处理衬底;
[0010]在所述预处理金刚石晶片上依次沉积第一金属粘合层和第一金属键合层,以及,在所述预处理衬底上依次沉积第二金属粘合层和第二金属键合层;
[0011]通过原子扩散工艺,使所述第一金属键合层和所述第二金属键合层进行键合,得到所述热 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种热传导模块的制备方法,其特征在于,所述热传导模块的制备方法包括:分别对金刚石晶片(1)和衬底(2)依次进行清洗处理和活化处理,得到预处理金刚石晶片(1a)和预处理衬底(2a);在所述预处理金刚石晶片(1a)上依次沉积第一金属粘合层(31)和第一金属键合层(41),以及,在所述预处理衬底(2a)上依次沉积第二金属粘合层(32)和第二金属键合层(42);通过原子扩散工艺,使所述第一金属键合层(41)和所述第二金属键合层(42)进行键合,得到所述热传导模块。2.根据权利要求1所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,对金刚石晶片(1)和衬底(2)进行清洗处理,包括:利用有机溶剂和水依次对所述金刚石晶片(1)进行清洗,以及,利用有机溶剂和水依次对所述衬底(2)进行清洗;利用硫酸和双氧水的混合物对所述金刚石晶片(1)和所述衬底(2)进行表面处理,然后利用水进行清洗。3.根据权利要求1所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,利用氢等离子体,分别对所述金刚石晶片(1)和所述衬底(2)进行所述活化处理。4.根据权利要求1所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述第一金属粘合层(31)的材质选自钛、钼、铬、钨、铁、钴、镍中的至少一种;所述第一金属键合层(41)的材质选自金、银、铜中的至少一种。5.根据权利要求4所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述第一金属粘合层(31)的厚度为5nm
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10nm;所述第一金属键合层(41)的厚度为50nm
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200nm。6.根据权利要求5所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述在所述预处理金刚石晶片(1a)上依次沉积第一金属粘合层(31)和第一金属键合层(41),包括:通过高功率脉冲磁控溅射技术,在所述预处理金刚石晶片(1a)上依次沉积所述第一金属粘合层(31)和所述第一金属键合层(41)。7.根据权利要求1所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述第二金属粘合层(32)的材质选自钛、钼、铬、钨、铁、钴、镍中的至少一种;所述第二金属键合层(42)的材质选自金、银、铜中的至少一种。8.根据权利要求7所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述第二金属粘合层(32)的厚度为5nm
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10nm;所述第二金属键合层(42)的厚度为50nm
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200nm。9.根据权利要求8所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述在所述预处理衬底上依次沉积第二金属粘合层(32)和第二金属键合层(42),包括:通过高功率脉冲磁控溅射技术,在所述预处理金刚石晶片(1a)上依次沉积所述第二金属粘合层(32)和所述第二金属键合层(42)。10.根据权利要求1所述的热传导模块的制备方法,其特征在于,所述通过原子扩散工艺使所述第一金属键合层(41)和所述第二金属键合层(42)进行键合,包括:使沉积有所述第一金属粘合层(31)和所述第一金属键合层(41)的金刚石晶片(1)和沉
积有所述第二金属粘...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏潇赟,代兵,赵继文,赵柯臣,杨勇,邓抄军,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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