本发明专利技术涉及一种等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置。等离子体蚀刻挂板用于装载待镀膜产品，其包括主体以及吸热结构，主体具有抵接面，待镀膜产品具有镀膜面及背离镀膜面的安装面，抵接面与安装面相贴合。吸热结构设置于主体，吸热结构用于对主体进行散热。在对待镀膜产品进行等离子体刻蚀镀膜时，将待镀膜产品安装至主体，且将待镀膜产品的安装面与抵接面贴合。通过在主体上设置吸热结构将主体及待镀膜产品所汇聚的热量吸收，从而对主体及待镀膜产品进行降温。产品温度降低可以使得等离子体较快地沉积在镀膜面，从而形成较为稳定的膜层，提高膜层质量。尤其是等离子体形成温度较高的镀膜场景下，采用该等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置可以较好地保护待镀膜产品。离子体蚀刻装置可以较好地保护待镀膜产品。离子体蚀刻装置可以较好地保护待镀膜产品。
【技术实现步骤摘要】
等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置
[0001]本专利技术涉及真空等离子体镀膜的
，特别是涉及一种等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置。
技术介绍
[0002]目前在对待镀膜产品(如玻璃)进行镀膜处理时，可以采用等离子体刻蚀镀膜、化学刻蚀等方式。由于等离子体刻蚀镀膜的方式对待镀膜产品进行镀膜的过程中，可以产生较少的危废物质，因此更加绿色环保。
[0003]等离子体蚀刻装置包括等离子体蚀刻机与等离子体蚀刻挂板，等离子体蚀刻挂板可以被输送至等离子体蚀刻机内。在对待镀膜产品进行等离子刻蚀时，先将待镀膜产品安装于等离子体蚀刻挂板，然后将装有待镀膜产品的等离子体蚀刻挂板送入等离子体蚀刻机内，以对待镀膜产品进行等离子刻蚀。
[0004]然而，目前的待镀膜产品在进行等离子刻蚀时，等离子体刻蚀效果不佳。
技术实现思路
[0005]基于此，有必要针对等离子体蚀刻装置在刻蚀待镀膜产品时，刻蚀效果不佳的问题，提供一种等离子体蚀刻挂板和等离子体蚀刻装置。
[0006]一种等离子体蚀刻挂板，用于装载待镀膜产品，所述等离子体蚀刻挂板包括：
[0007]主体，所述主体具有抵接面，所述待镀膜产品具有镀膜面及背离所述镀膜面的安装面，所述抵接面与所述安装面相贴合；
[0008]吸热结构，所述吸热结构设置于所述主体，所述吸热结构用于对所述主体进行散热。
[0009]在其中一个实施例中，所述吸热结构包括管体及封端件，所述管体的内部容置有吸热物质，且具有供所述吸热物质导入或导出的开口，所述封端件封堵所述开口，且与所述管体可拆卸连接。
[0010]在其中一个实施例中，所述管体具有第一端及远离所述第一端的第二端，所述第一端与所述第二端的至少一个开设有所述开口，所述管体延伸呈环形，且所述第一端与所述第二端之间存在容纳间隙，所述封端件位于所述容纳间隙。
[0011]在其中一个实施例中，所述第一端与所述第二端均对应于所述主体的边缘。
[0012]在其中一个实施例中，所述吸热结构的比热容大于所述主体的比热容。
[0013]在其中一个实施例中，所述主体包括弯折段及与所述弯折段连接的直线段，至少所述直线段设置有所述吸热结构。
[0014]在其中一个实施例中，所述主体背离所述抵接面的一侧设置有容纳槽，所述吸热结构设置于所述容纳槽内。
[0015]在其中一个实施例中，部分所述吸热结构凸出于所述容纳槽。
[0016]在其中一个实施例中，还包括下述方案中的至少一个：
[0017]所述主体设置有多个通孔，所述通孔间隔设置于主体中部，所述通孔与所述吸热结构间隔设置；
[0018]所述等离子刻蚀治具包括第一连接件，所述第一连接件设于所述主体，所述第一连接件与产品可拆卸连接，以使产品的安装面紧贴所述抵接面；所述第一连接件位于所述主体的边缘区域，所述吸热结构设置于所述第一连接件的靠近所述主体中间区域的一侧；
[0019]所述主体包括替换部与连接部，所述替换部与所述连接部可拆卸连接，所述替换部具有所述抵接面，所述吸热结构设置于所述替换部；
[0020]所述等离子体蚀刻挂板还包括保护层，所述保护层设置并覆盖所述抵接面。
[0021]一种等离子体蚀刻设备，包括上述的等离子体蚀刻挂板。
[0022]在对待镀膜产品进行等离子体刻蚀镀膜时，将待镀膜产品安装至主体，且将待镀膜产品的安装面与抵接面贴合。主体可以对产品具有较好的支撑力、有效减少由于支撑力不够而导致待镀膜产品在镀膜过程中破裂的情况发生。通过在主体上设置吸热结构将主体及待镀膜产品所汇聚的热量吸收，从而对主体及待镀膜产品进行降温。产品温度降低可以使得等离子体较快地沉积在镀膜面，从而形成较为稳定的膜层，提高膜层质量。尤其是在一些特殊情况下，比如待镀膜产品的安装面具有特殊镀层(耐高温性能略差)，或待镀膜产品的镀膜面具有特殊镀层(即在特殊镀层表面进行镀膜)，或者待镀膜产品中具有耐高温性能略差的成分时，可以选择形成等离子体温度较高的气源材料，增大了镀膜材料的选择性的同时保证了镀膜后的产品的质量。
附图说明
[0023]图1为本专利技术的一实施例提供的一种等离子体蚀刻挂板的结构示意图。
[0024]图2为图1的爆炸图。
[0025]图3为本专利技术的另一实施例提供的一种等离子体蚀刻挂板的结构示意图。
[0026]图4为本专利技术的一实施例提供的一种等离子体蚀刻挂板的另一视角的结构示意图。
[0027]图5是本专利技术的一实施例提供的一种等离子体蚀刻挂板的安装3D玻璃的截面示意图(局部)。
[0028]附图标记：
[0029]100、主体；101、通孔；102、连接通孔；110、替换部；111、抵接面；112、背离面；113、弯折段；114、直线段；120、连接部；121、第一定位结构；130、容纳槽；200、吸热结构；210、管体；211、开口；220、封端件；300、第一连接件；301、粘接层；310、第一连接部；320、第二连接部；400、第二连接件；401、第二定位结构；500、保护层；600、待镀膜产品。
具体实施方式
[0030]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0031]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、
“
厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0032]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0033]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0034]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子体蚀刻挂板，用于装载待镀膜产品，其特征在于，所述等离子体蚀刻挂板包括：主体，所述主体具有抵接面，所述待镀膜产品具有镀膜面及背离所述镀膜面的安装面，所述抵接面与所述安装面相贴合；吸热结构，所述吸热结构设置于所述主体，所述吸热结构用于对所述主体进行散热。2.根据权利要求1所述的等离子体蚀刻挂板，其特征在于，所述吸热结构包括管体及封端件，所述管体的内部容置有吸热物质，且具有供所述吸热物质导入或导出的开口，所述封端件封堵所述开口，且与所述管体可拆卸连接。3.根据权利要求2所述的等离子体蚀刻挂板，其特征在于，所述管体具有第一端及远离所述第一端的第二端，所述第一端与所述第二端的至少一个开设有所述开口，所述管体延伸呈环形，且所述第一端与所述第二端之间存在容纳间隙，所述封端件位于所述容纳间隙。4.根据权利要求3所述的等离子体蚀刻挂板，其特征在于，所述第一端与所述第二端均对应于所述主体的边缘。5.根据权利要求1所述的等离子体蚀刻挂板，其特征在于，所述吸热结构的比热容大于所述主体的比热容。6.根据权利要求1所述的等离子体蚀刻挂板，其特征在于，所述主体包括弯折段及与所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵成伟，邬文波，
申请(专利权)人：西实显示高新材料沈阳有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。