测试滤材的系统与方法技术方案

本发明专利技术实施例涉及测试滤材的系统与方法。本发明专利技术实施例提供一种用于测试超纯水中使用的滤材的系统及方法。用于测试用于从超纯水移除粒子的滤材的所述方法包括：提供带粒子的测试溶液；通过粒子计数器检测所述测试溶液中的所述粒子；使所述测试溶液通过滤材；以及通过另一粒子计数器检测通过所述滤材的所述测试溶液中的所述粒子。溶液中的所述粒子。溶液中的所述粒子。

【技术实现步骤摘要】
测试滤材的系统与方法


[0001]本专利技术实施例涉及测试滤材的系统与方法。

技术介绍

[0002]近年来，随着半导体生产技术的进步，以越来越高的堆积密度及越来越小的线宽生产半导体。因此，采用超纯水用作半导体生产工艺中的清洁液体，以使粒子含量降低到极限。因此，对用于从待用于半导体行业中的超纯水移除粒子的技术提出严格要求。
[0003]由超纯水生产系统高度净化的超纯水紧接在半导体生产工艺中的使用点(POU)前经受进一步粒子移除。过滤是作为用于紧接在使用点之前移除粒子的技术的唯一技术。当前，不存在用于测试超纯水中使用的滤材的滤材留存效率的方法。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施例涉及一种用于测试滤材的方法，其包括：提供具有若干粒子的第一测试溶液；通过第一粒子计数器检测所述第一测试溶液中的所述粒子的数目；使所述第一测试溶液通过滤材；通过第二粒子计数器检测通过所述滤材的所述第一测试溶液中的所述粒子的所述数目；及计算通过所述第一粒子计数器检测到的第一数据及通过所述第二粒子计数器检测到的第二数据，以获得所述滤材的滤材留存效率。
[0005]本专利技术的实施例涉及一种用于测试粒子计数器的方法：制备具有第一数目个粒子的第一测试溶液，其中所述粒子的所述第一数目是已知的；通过所述粒子计数器检测所述第一测试溶液，以获得第一数据；及比较所述第一数据与所述第一数目以检查所述第一测试溶液中的所述粒子的所述第一数目与通过所述粒子计数器检测到的所述第一数据之间的一致性。
[0006]本专利技术的实施例涉及一种用于测试滤材的系统，其包括：容器，其经配置以接纳测试溶液；第一通道，其与所述容器流体连通；第二通道，其连接到所述第一通道，其中所述滤材经布置在所述第一通道与所述第二通道之间；第一粒子计数器，其连接到所述第一通道；及第二粒子计数器，其连接到所述第二通道。
附图说明
[0007]当结合所附图式阅读时从下列施方式最好地理解本公开的方面。应注意，根据行业中的标准实践，各种构件不按比例绘制。实际上，为清晰论述，各种构件的尺寸可任意增大或减小。
[0008]图1是根据本公开的一些实施例的用于测试滤材的测试系统的示意图。
[0009]图2是根据本公开的一些实施例的用于测试滤材的测试系统的示意图。
[0010]图3是表示根据本公开的一些实施例的用于测试超纯水中使用的滤材的方法的示范性操作的流程图。
[0011]图4是表示根据本公开的一些实施例的用于测试超纯水中使用的滤材的方法的示
范性操作的流程图。
[0012]图5是表示根据本公开的一些实施例的用于测试超纯水中使用的滤材的方法的示范性操作的流程图。
[0013]图6是根据本公开的一些实施例的液体粒子计数器的平面图。
具体实施方式
[0014]以下公开提供用于实施所提供的主题的不同构件的许多不同实施例或实例。下文描述组件及布置的特定实例以简化本公开。当然，此类仅为实例且非希望限制。举例来说，在以下描述中的第一构件形成于第二构件上方或上可包含其中所述第一构件及所述第二构件经形成为直接接触的实施例，且还可包含其中额外构件可形成在所述第一构件与所述第二构件之间，使得所述第一构件及所述第二构件可不直接接触的实施例。另外，本公开可在各个实例中重复元件符号及/或字母。此重复出于简化及清楚的目的且本身不指示所论述的各项实施例及/或配置之间的关系。
[0015]阐释性实施例的此描述希望结合所附图式阅读，所述所附图式应被视为整个书面描述的部分。在本文公开的实施例的描述中，对方向或定向的任何参考仅意在便于描述且不意在以任何方式限制本公开的范围。相对术语(例如“下”、“上”、“水平”、“垂直”、“在
……
上方”、“在
……
下方”、“向上”、“向下”、“顶部”及“底部”)以及其衍生词(例如，“水平地”、“向下地”、“向上地”等)应被解释为指代如接着描述或如所论述的图式中展示的定向。此类相对术语仅为便于描述且不需要以特定定向建构或操作设备。术语(例如“附接”、“贴附”、“连接”及“互连”)是指其中结构直接或通过中介结构间接彼此固定或附接的关系以及可移动或刚性附接或关系两者，除非另外明确描述。此外，本公开的特征及益处通过参考实施例而说明。因此，本公开明确地不应限于说明可单独存在或以其它特征组合存在的一些可能非限制性特征组合的此类实施例；本公开的范围由本公开所附的权利要求书定义。
[0016]半导体装置制造消耗大量的水用于范围从设备冷却到晶片表面清洁的各种用途。超纯水被采用于许多工艺步骤。装置制造的早期阶段包含用于晶片清洁、冲洗及表面调节的重复步骤。在装置制造中的许多不同阶段，其用于表面清洁、湿式蚀刻、溶剂处理及化学机械平坦化。
[0017]由超纯水生产系统高度净化的超纯水紧接在半导体生产工艺中的使用点(POU)前经受进一步粒子移除。过滤是作为用于紧接在使用点之前移除粒子的技术的唯一技术。
[0018]然而，用于从超纯水移除粒子的滤材通常不如供应商所声称那样有效。不存在用于测试超纯水中使用的滤材的滤材留存效率的方法。
[0019]另外，检查用于检测超纯水中的纳米粒子的液体计数器检测器的检测效率也是重要问题。
[0020]本公开提供一种用于测试用于从超纯水移除粒子的滤材的测试系统及方法。
[0021]图1是根据本公开的一些实施例的测试系统1的示意图。在本公开的一些实施例中，测试系统1用于测试超纯水中使用的滤材100的滤材留存效率。测试系统1包含容器11、通道12、夹具13、通道14、两个液体粒子计数器15、16、电子吸管17、机械臂18及处理器10。容器11经配置以接纳带有粒子的测试溶液110。测试溶液110中的粒子的数目是已知的，且测试溶液110中的粒子的粒径是已知的。在本公开的一些实施例中，测试溶液110中的粒子的
粒径约为20纳米到50纳米。在本公开的一些实施例中，测试溶液110中的粒子的数目约为100/ml到500/ml。在本公开的一些实施例中，通过稀释高浓度溶液191、192及193来制备测试溶液110。高浓度溶液191、192及193中的每一者包含粒子。在本公开的一些实施例中，高浓度溶液191中的粒子的粒径约为35纳米到45纳米，且高浓度溶液191中的粒子的数目约为105/ml。在本公开的一些实施例中，高浓度溶液192中的粒子的粒径约为25纳米到35纳米，且高浓度溶液192中的粒子的数目约为105/ml。在本公开的一些实施例中，高浓度溶液193中的粒子的粒径约为15纳米到25纳米，且高浓度溶液193中的粒子的数目约为105/ml。
[0022]通道12可连接到容器11并与容器11流体连通。因此，容器11中的测试溶液110可流动到通道12中。在本公开的一些实施例中，通道12包含流速控制器121。流速控制器112经配置以控制通道12中的测试溶液110的流速。流速控制器112可连接到处理器10，且因此由处理器10驱动及/或操作。在本公开的一些本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于测试滤材的方法，其包括：提供具有若干粒子的第一测试溶液；通过第一粒子计数器检测所述第一测试溶液中的所述粒子的数目；使所述第一测试溶液通过滤材；通过第二粒子计数器检测通过所述滤材的所述第一测试溶液中的所述粒子的所述数目；及计算通过所述第一粒子计数器检测到的第一数据及通过所述第二粒子计数器检测到的第二数据，以获得所述滤材的滤材留存效率。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一粒子计数器及所述第二粒子计数器是同一粒子计数器。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一测试溶液中的所述粒子的所述数目是已知的，且所述第一测试溶液中的所述粒子的粒径是已知的。4.根据权利要求3所述的方法，其进一步包括：比较所述第一测试溶液中的所述粒子的所述已知数目与通过所述第一粒子计数器检测到的所述第一数据。5.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括：提供具有若干粒子的第二测试溶液；通过所述第一粒子计数器检测所述第二测试溶液中的所述粒子的所述数目；使所述第二测试溶液通过滤材；通过所述第二粒子计数器检测通过所述滤材的所述第二测试溶液中的所述粒子的所述数目；及比较通过所述第一粒子计数器检测到的第三数据及通过所述第二粒子计数器检测到的第四数据。6.一种用于测试粒子计数器的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：于淳，林恩添，郭启文，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：