【技术实现步骤摘要】
一种激光直写晶化制备图形化YIG薄膜的方法
[0001]本专利技术涉及激光晶化制备薄膜领域。
技术介绍
[0002]铁酸钇YIG材料是射频微波通讯和磁光通讯领域最常用的材料之一,在射频微波、太磁波、光波段都有广泛的应用。现阶段的非互易模式转换(NRMC)和非互易相移(NRPS)集成光隔离器尺寸都较大,长度范围从毫米到厘米,非常不利于器件的集成化发展。基于YIG薄膜的紧凑型磁光隔离片上的模块成为近年来集成光学产业的热点。利用图形化的高质量YIG薄膜在硅衬底上制备具有微米级尺寸磁光功能模块可大幅缩减芯片整体尺寸并有利于其它硅基光子学功能的集成。然而,传统的高质量图形化YIG薄膜制备通常需要掩膜光刻技术,同时还需要结合激光脉冲沉积或磁控溅射,其工艺复杂、设备昂贵、环境要求苛刻、整体造价很高,不利于硅基光通讯器件的集成化和微型化。
技术实现思路
[0003]针对上述技术难点,本专利技术提供了一种激光直写晶化制备高质量图形化YIG薄膜的方法。
[0004]使用激光直写技术代替传统掩膜光刻技术,同时结合低成本溶胶凝胶薄膜制备工艺,完成高质量图形化YIG薄膜的制备。该技术具有制备温度低、工艺简单的特点,可制备任意二维图形YIG薄膜,满足不同器件的需求。
附图说明
[0005]图1为本专利技术中制备的YIP缓冲层上生长YIG薄膜的XRD图。
[0006]图2为本专利技术利用激光直写晶化制备的图形化YIG薄膜的SEM图。
具体实施方式
[0007]下面结合实施例对本专利技 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种利用激光直写晶化制备图形化YIG薄膜的方法,其特征在于通过溶胶凝胶法在单晶Si衬底上首先制备一层取向生长的YIP薄膜作为缓冲层,然后在缓冲层上旋涂YIG凝胶薄膜并利用聚焦激光...
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