用于键合基底的方法和装置制造方法及图纸

提出了一种用于弯曲基底(7)的基底保持器(1',1'',1''')以及一种相应的方法，该基底保持器具有：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于键合基底的方法和装置


[0001]本专利技术描述了根据并列独立权利要求的用于键合两个基底的基底保持器、装置和方法。

技术介绍

[0002]现有技术公开了大量不同的基底保持器。尤其在熔接键合(Fusionsbodnen)中，基底保持器变得越来越复杂和精密，以便满足键合过程不断提高的需求。在文献WO2012083978A1中，提到了一种基底保持器，其可以通过借助于热元件、压电元件或流体元件的主动控制来补偿局部的和/或全局的变形。文献WO2013023708A1的基底保持器公开了一种尽可能不污染基底背侧的可能性以及一种通过有针对性地控制固定元件来分离基底的方法。文献WO2017162272A1公开了一种具有多个固定区域的基底保持器，所述固定区域尤其对称地分布在基底保持器上并且可以单独地来切换。文献WO2018028801A1公开了一种用于非径向对称地而是单轴地固定基底并且还用于以单轴曲率释放基底的方法。文献WO2014191033A1中公开了一种基底保持器，其表面是弯曲的或是可弯曲的，以便在基底键合之前和/或在基底键合期间使固定在其上的基底设有不均匀的曲率。文献WO2014191033A1尤其在第9页提到，可调整的曲率不是均匀的，即是不均匀的曲率。随着每个新一代基底保持器，已经实现了更好且更快的键合效果，但其仍可以通过进一步的技术改进来优化。同时已经认识到，两个基底保持器在键合过程中至关重要。尤其地，熔接键合中的前进的键合波的控制对于正确的键合结果极为重要。尤其地，控制还受到参与键合过程的基底的弯曲方式的影响。
>[0003]现有技术中的问题之一在于，不仅基底固定在其上的表面以明确限定的方式弯曲，而且基底保持器的其他构件也在弯曲过程期间受到机械影响、尤其弯曲。在构造技术上可能的是，基底保持器呈实心构造方式，即由具有高抗弯性的非常厚的且大块的部件组成的结构。然而，一些基底保持器必须建造得小而紧凑，即相对精巧，并且因此必然具有相对低的抗弯性。这种低抗弯性于是引起基底保持器的若干部件的轻微的、不希望的、弹性变形，这些部分实际上不应该弯曲。这些弹性变形和弯曲反作用于基底固定在其上的表面(固定板表面)，并且因此影响基底的曲率。在此必须提到的是，所产生的弹性变形当然仅在纳米或微米范围内发生，但这种量级的弹性变形已经足以在固定的基底及其曲率上获得负面反作用。
[0004]可以通过铣削
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、磨削
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、抛光
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、蚀刻
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和研磨过程在基底保持器上产生均匀的、弯曲的固定表面，从而使固定在其上的基底也具有均匀的曲率。但该固定表面是静态的，并且不能改变曲率。另一方面可能的是，如文献WO2014191033A1中所述，构建可以使固定表面弯曲的基底保持器。然而，在这些基底保持器中，已经发现很难根据位置有针对性地调整固定表面的曲率和因此基底的曲率，尤其使其保持恒定。尤其地，基底的均匀曲率的调整非常困难，根本无法执行或者至少不可再现地执行。

技术实现思路

[0005]本专利技术应解决的问题在于，消除现有技术的缺点，并且尤其说明一种改进的基底保持器、一种改进的装置和一种改进的键合方法。
[0006]该目的通过并列独立权利要求的特征来实现。本专利技术的有利改进在从属权利要求中说明。在说明书、权利要求书和/或附图中说明的至少两个特征的所有组合也落入本专利技术的范围内。在说明的值范围的情况下，位于所提到的极限内的值也应作为公开的极限值适用，并且能够以任意组合要求保护。
[0007]尤其在技术上重要的是，如此构造基底保持器，使得该基底保持器有针对性可调整地、尤其均匀地弯曲基底。
[0008]本专利技术涉及一种用于弯曲基底的基底保持器，其具有：
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用于固定基底的固定板；
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用于弯曲固定板的弯曲器件；其中，固定板如此构造，使得基底或固定板的曲率可有针对性地进行调整。
[0009]固定板具有基底固定在其上的前侧和背向前侧的背侧。固定板具有宽度、长度和厚度。在另一个实施方式中，固定板径向对称地设计，并且然后经由半径和厚度来限定。宽度和长度在朝向固定板的基底固定在其上的前侧的固定板表面的方向上延伸。厚度垂直于固定板表面延伸。
[0010]固定板的厚度优选地变化，即每个部位处的厚度不一样，而是固定板在固定板的至少一个部位处比另一部位处更厚。接下来描述特别构造方案/优选形式。
[0011]优选设置成，固定板或基底的均匀曲率是可调整的。
[0012]优选设置成，固定板铰接地支承。
[0013]可有针对性地调整意味着，可以确定曲率的值。均匀意味着，在曲率的值固定的情况下，在可忽略不计的小误差容限内，该曲率在固定板或基底的每个位置上都是相同的，即恒定的。
[0014]固定板的背侧优选地如此成形，使得产生固定板的均匀曲率，或者固定板或固定板前侧的和因此基底的均匀的、在每个位置处相同的曲率可调整。
[0015]在一个优选实施方式中，但也作为独立的专利技术方面，基底保持器如此构造，使得在固定板弯曲时产生的反作用力和/或力矩可通过至少一个补偿器件来补偿。
[0016]作为独立的专利技术方面，本专利技术涉及一种用于弯曲基底的基底保持器，其具有：
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用于固定基底的固定板；
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用于弯曲固定板的弯曲器件；其中，在固定板弯曲时产生的反作用力可通过至少一个补偿器件来补偿。
[0017]本专利技术还涉及一种装置、尤其是键合装置，其具有至少一个根据本专利技术的基底保持器。
[0018]本专利技术还涉及一种键合两个基底的方法，其具有以下步骤，其中：
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将第一基底固定在尤其根据本专利技术的第一基底保持器上；
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将第二基底固定在尤其根据本专利技术的第二基底保持器上；
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将基底(7)相对于彼此对准；
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将所述基底(7)中的至少一个弯曲；
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接触基底；其中，基底或固定板中的至少一个的曲率有针对性地进行调整，优选为均匀的。
[0019]优选地，并且作为独立的专利技术方面，在固定板弯曲时，在其余构件中产生的力矩和/或反作用力被补偿，但优选地完全不传递或仅在较小的程度上传递到固定板上。
[0020]因此，本专利技术的另一个独立方面涉及用于键合两个基底的方法，其具有以下步骤，其中：
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将第一基底固定在尤其根据本专利技术的第一基底保持器上；
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将第二基底固定在尤其根据本专利技术的第二基底保持器上；
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将基底相对于彼此对准；
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将基底中的至少一个弯曲；
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接触基底；其中，在固定板弯曲时，在其余部件中产生的力矩和/或反作用力被补偿，但优选地完全不传递或仅在较小的程度上传递到固定板上。这优选通过使用轴承来实现，经由该轴承，尽可能不传递或仅传递非常小的反作用力和/或力矩。
[0021]优选地设置成，固定板在中心比在边缘更厚。由此，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于弯曲基底(7)的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其包括：
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用于固定所述基底(7)的固定板(3)；
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用于弯曲所述固定板(3)的弯曲器件(6,6',6")，其特征在于，所述固定板(3)如此构造，使得所述基底(7)的曲率能有针对性地进行调整。2.根据权利要求1所述的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其中，所述固定板(3)的厚度变化。3.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其中，所述固定板(3)铰接地支承。4.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其中，所述基底(7)的均匀曲率是可调整的。5.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其中，所述固定板(3)的背侧如此成形，使得产生所述固定板(3)的均匀曲率。6.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器，其中，在弯曲所述固定板(3)时产生的反作用力能够通过至少一个补偿器件(3')、尤其可弯曲的补偿板(3')进行补偿。7.根据前述权利要求中至少一项所述的基底保持器(1',1'',1''',1'''')，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：D，
申请(专利权)人：EV集团E，
类型：发明
国别省市：