一种装夹式溅射靶材制造技术

本实用新型专利技术公开了一种装夹式溅射靶材，包括安装底座、冷却系统、磁极、靶材组件及压盖；磁极包括中心S磁极及环形N磁极，所述中心S磁极与所述环形N磁极形成溅射区域。上述装夹式溅射靶材通过安装底座、冷却系统、磁极、靶材组件及压盖的组件组成，形成装夹式结构，可以方便地进行安装，同时，采用从中心S磁极到环形N磁极的放射式磁场布置方式，可在靶材表面形成均匀的环形磁场，在靶材主要溅射区域设置环形弧状凸起，可提高靶材的利用率，在靶材组件上设有直冷式的冷却系统，利用循环水直接冷却磁铁和紫铜基底背面，保证溅射能顺利稳定地进行。行。行。

【技术实现步骤摘要】
一种装夹式溅射靶材


[0001]本技术涉及首饰表面镀膜
，尤其涉及一种装夹式溅射靶材。

技术介绍

[0002]溅射镀膜具有绿色环保、膜层稳定性好、膜层与基材结合力强、镀材范围广等特点，是首饰表面镀膜中非常有前景的镀膜工艺。靶材是溅射镀膜中的原材料来源，其结构对膜层沉积质量和稳定性有直接影响。
[0003]现有的靶材结构存在如下问题：(1)磁场布置不合理，会对溅射产额产生不利影响；(2)靶材的利用率不高，容易形成环形溅射凹槽而导致靶材过早弃用，对于贵金属靶材而言使用成本较高；(3)靶材底座的冷却水布置不合理，影响冷却效果；(4)安装定位不方便，劳动强度较大。传统技术的靶材结构或多或少存在上述一个或者两个以上的技术问题，从而对靶材的膜层沉积质量和稳定性造成较大的影响。

技术实现思路

[0004]为了克服现有技术的不足，本技术提供一种装夹式溅射靶材，解决上述传统技术问题，其可以方便地进行安装，采用从中心S磁极到边缘N磁极的放射式磁场布置方式，可在靶材表面形成均匀的环形磁场，在靶材主要溅射区域设置环形凸起，提高靶材的利用率，并设置直冷式冷却水箱，利用循环水进行冷却，保证溅射能顺利稳定地进行。
[0005]本技术采用如下技术方案实现：
[0006]一种装夹式溅射靶材，包括安装底座、冷却系统、磁极、靶材组件及压盖；所述安装底座包括法兰盘及安装在所述法兰盘上的靶材安装室，所述法兰盘与所述靶材安装室之间设置有绝缘垫板及第一绝缘垫片，所述靶材安装室设置有用于放置所述冷却系统、磁极及靶材组件的圆柱形空腔；所述冷却系统包括中部的冷却水箱、上端部的第一冷却进出水管、下端部的第二冷却进出水管及接线柱，所述接线柱套设有与所述第一绝缘垫片相对应的第二绝缘垫片；所述磁极包括中心S磁极及环形N磁极，所述中心S磁极安装在所述冷却水箱的上端中部，所述环形N磁极设置在所述冷却水箱的上端周缘，使所述中心S磁极与所述环形N磁极形成溅射区域；所述靶材组件包括紫铜基底及安装在所述紫铜基底上的靶材面板，所述紫铜基底的底部设有用于与所述环形N磁极抵接的环形凸边，所述靶材面板的工作面设有与所述溅射区域对应的环形弧状凸起；所述压盖与所述安装底座为旋接。
[0007]进一步地，所述靶材面板呈圆柱状，所述靶材面板的外径与所述环形N磁极的内径相适配。
[0008]进一步地，所述靶材面板的外表面套设有第一密封胶圈。
[0009]进一步地，所述环形N磁极由若干扇形磁块依次排列所形成。
[0010]进一步地，所述冷却水箱的外径与所述靶材安装室的内径相适配。
[0011]进一步地，所述冷却水箱的中部靠近所述安装底座的一端设有环形槽，所述环形槽上安装有第二密封胶圈。
[0012]进一步地，所述法兰盘设有与所述靶材安装室相连通的凹陷腔。
[0013]进一步地，所述法兰盘的周缘设有多个螺栓孔，各所述螺栓孔呈均匀分布设置。
[0014]进一步地，所述靶材安装室的顶部设有外螺纹，所述压盖设有与所述外螺纹相匹配的内螺纹。
[0015]进一步地，所述靶材安装室的顶部还设有第一拧紧螺孔，所述压盖还设有第二拧紧螺孔，所述靶材安装室与所述压盖通过拧紧螺栓依次穿设于所述第二拧紧螺孔、第一拧紧螺孔进行固定。
[0016]相比现有技术，本技术的有益效果在于：
[0017]本技术的装夹式溅射靶材通过安装底座、冷却系统、磁极、靶材组件及压盖的组件组成，形成装夹式结构，可以方便地进行安装，同时，采用从中心S磁极到环形N磁极的放射式磁场布置方式，可在靶材表面形成均匀的环形磁场，在靶材主要溅射区域设置环形弧状凸起，可提高靶材的利用率，在靶材组件上设有直冷式的冷却系统，利用循环水直接冷却磁铁和紫铜基底背面，保证溅射能顺利稳定地进行。
附图说明
[0018]图1为本技术一较佳实施例的装夹式溅射靶材的结构示意图；
[0019]图2为图1所示的装夹式溅射靶材的分解图；
[0020]图3为图1所示的装夹式溅射靶材的俯视图；
[0021]图4为图1所示的装夹式溅射靶材的仰视图；
[0022]图5为图1所示的冷却系统的正视图；
[0023]图6为图1所示的靶材组件的仰视图。
[0024]附图标注说明：
[0025]10、安装底座；11、法兰盘；110、凹陷腔；12、靶材安装室；120、绝缘垫板；121、圆柱形空腔；20、冷却系统；21、冷却水箱；210、第二密封胶圈；22、第一冷却进出水管；23、第二冷却进出水管；24、接线柱；240、第二绝缘垫片；31、中心S磁极；32、环形N磁极；40、靶材组件；41、紫铜基底；410、环形凸边；42、靶材面板；420、环形弧状凸起；421、第一密封胶圈；50、压盖。
具体实施方式
[0026]为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0027]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
[0028]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。
[0029]请参阅图1
‑
图6，为本技术的一较佳实施例的装夹式溅射靶材，用于进行溅射镀膜，该装夹式溅射靶材包括安装底座10、冷却系统20、磁极、靶材组件40及压盖50，安装底座10包括法兰盘11及安装在法兰盘11上的靶材安装室12，法兰盘11与靶材安装室12之间设置有绝缘垫板120及第一绝缘垫片，靶材安装室12设置有用于放置冷却系统20、磁极及靶材组件40的圆柱形空腔121；冷却系统20包括中部的冷却水箱21、上端部的第一冷却进出水管22、下端部的第二冷却进出水管23及接线柱24，接线柱24套设有与第一绝缘垫片相对应的第二绝缘垫片240；磁极包括中心S磁极31及环形N磁极32，中心S磁极31安装在冷却水箱21的上端中部，环形N磁极32设置在冷却水箱21的上端周缘，使中心S磁极31与环形N磁极32形成溅射区域；靶材组件40包括紫铜基底41及安装在紫铜基底41上的靶材面板42，紫铜基底41的底部设有用于与环形N磁极32抵接的环形凸边410，靶材面板42的工作面设有与溅射区域对应的环形弧状凸起420；压盖50与安装底座10为旋接。
[0030]上述装夹式溅射靶材通过安装底座10、冷却系统20、磁极、靶材组件40及压盖50的组件组成，形成装夹式结构，可以方便地进行安装，同时，采用从中心S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种装夹式溅射靶材，其特征在于，包括安装底座、冷却系统、磁极、靶材组件及压盖；所述安装底座包括法兰盘及安装在所述法兰盘上的靶材安装室，所述法兰盘与所述靶材安装室之间设置有绝缘垫板及第一绝缘垫片，所述靶材安装室设置有用于放置所述冷却系统、磁极及靶材组件的圆柱形空腔；所述冷却系统包括中部的冷却水箱、上端部的第一冷却进出水管、下端部的第二冷却进出水管及接线柱，所述接线柱套设有与所述第一绝缘垫片相对应的第二绝缘垫片；所述磁极包括中心S磁极及环形N磁极，所述中心S磁极安装在所述冷却水箱的上端中部，所述环形N磁极设置在所述冷却水箱的上端周缘，使所述中心S磁极与所述环形N磁极形成溅射区域；所述靶材组件包括紫铜基底及安装在所述紫铜基底上的靶材面板，所述紫铜基底的底部设有用于与所述环形N磁极抵接的环形凸边，所述靶材面板的工作面设有与所述溅射区域对应的环形弧状凸起；所述压盖与所述安装底座为旋接。2.根据权利要求1所述的装夹式溅射靶材，其特征在于，所述靶材面板呈圆柱状，所述靶材面板的外径与所述环形N磁极的内径相适配。3.根据权利要求2所述的装夹式溅射...

【专利技术属性】
技术研发人员：植宝，袁军平，王昶，闫黎，刘冲，
申请(专利权)人：广州番禺职业技术学院，
类型：新型
国别省市：