【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
制造适合于图象传感器的半导体装置的方法，该方法包括以下步骤：在一衬底上形成一下部绝缘层；在该下部绝缘层上形成一结合区；在该下部绝缘层上形成一上部绝缘层以覆盖该结合区；有选择地去除该上部绝缘层以暴露该结合区的顶部部分；在该 上部绝缘层上形成一保护层以保护该结合区的暴露部分；在该保护层上形成多个滤色元件；形成一平面层以覆盖这些滤色元件；以及在该平面层上形成多个微透镜。
【技术特征摘要】
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