一种精密施压抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种精密施压抛光装置，包括工作台、立柱、直线导轨、回转台以及抛光装置，所述工作台的顶端一侧固定连接有立柱，所述工作台的顶端中间位置处连接有用于回转台移动的直线导轨，所述直线导轨上滑动连接有回转台，所述立柱的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置，所述立柱的顶端上连接有用于平衡的平衡组件；本发明专利技术结构简单，操作便捷；本发明专利技术通过向储液箱输送或者抽出配重液，动态调节储液箱的重力，进而通过平衡装置调节抛光装置施加在工件表面上抛光压力，进而实现抛光压力的实时调节，提高抛光的精确度；在电磁铁通电时，电磁铁与永磁铁相互间的吸力将气浮滑块的位置固定，便于抛光装置的检修与更换配件。便于抛光装置的检修与更换配件。便于抛光装置的检修与更换配件。

【技术实现步骤摘要】
一种精密施压抛光装置


[0001]本专利技术属于技抛光术领域，尤其涉及一种精密施压抛光装置。

技术介绍

[0002]抛光加工是各种固体材料表面实现尺寸超精密、形状超准确、表面粗糙度极低的唯一手段，也是消除表层以下材料加工缺陷、损伤的最佳方法。抛光加工的适用范围广泛，能够胜任各种复杂型面的超精密加工。尤其对于光学、电子信息领域中使用的各种难加工材料复杂型面零件的加工，抛光加工工艺发挥着不可替代的作用。
[0003]现有技术中，抛光加工技术多采用散粒磨料低速加工方式，存在精度保持性较低、加工速度低等缺点，极大地影响了精密零件的生产率；对于采用的气囊抛光设备，其结构较复杂，球头形抛光头上磨粒回转半径较小，研磨抛光速度较低，使得加工效率提高不明显，虽适合于加工复杂型面零件，但在加工大中型超精密零件时效率较低，并且使用时加工成本很高；因此提出一种抛光精度高、效率高、成本低的精密施压抛光装置。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供的一种精密施压抛光装置，在于解决现有技术中的抛光效率低、成本高、精度低的问题。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种精密施压抛光装置，包括工作台、立柱、直线导轨、回转台以及抛光装置，所述工作台的顶端一侧固定连接有立柱，所述工作台的顶端中间位置处连接有用于回转台移动的直线导轨，所述直线导轨上滑动连接有回转台，所述立柱的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置，所述立柱的顶端上连接有用于平衡的平衡组件，
[0006]所述平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；所述平衡组件的另一端上连接有气浮组件，所述气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置。
[0007]本专利技术所述配重装置包括用于储存配重液的储液箱，所述储液箱的一端上连接有连接管，所述连接管的一端上连接有双向输送配重液的水泵，所述水泵的一端连接有马达。
[0008]本专利技术所述气浮组件包括气浮导轨，所述气浮导轨的侧壁上滑动连接有气浮滑块，所述气浮滑块的侧壁上连接有安装板，所述安装板上连接有用于抛光的抛光装置，所述气浮导轨通过连接块与立柱固定连接。
[0009]本专利技术所述平衡组件包括两个滑轮，一个所述滑轮固定在立柱的顶端一侧，另一所述滑轮固定在气浮导轨的顶端，两个所述滑轮上连接有拉绳，所述拉绳的一端与储液箱连接，所述拉绳的另一端与气浮滑块连接。
[0010]本专利技术所述拉绳与储液箱间连接有拉力传感器。
[0011]本专利技术所述立柱与气浮滑块间连接有用于抛光装置定位的定位组件。
[0012]本专利技术所述定位组件包括固定于立柱侧壁上的定位板，所述定位板朝向气浮滑块的一端侧壁上连接有永磁铁，所述气浮滑块的侧壁上连接有固定架，所述固定架上连接有
电磁铁，所述永磁铁的一端与朝向电磁铁；所述永磁铁与电磁铁贴合时，所述电磁铁设置为通电时能够对永磁铁产生吸力。
[0013]本专利技术所述固定架上螺纹连接有转动柱，所述转动柱为绝缘材料制成，所述转动柱内部连接有电磁铁。
[0014]本专利技术所述电磁铁包括铁芯以及缠绕在铁芯上的导线，且导线与电源连接。
[0015]本专利技术的有益效果是：本专利技术结构简单，操作便捷；本专利技术通过向储液箱输送或者抽出配重液，动态调节储液箱的重力，进而通过平衡装置调节抛光装置施加在工件表面上抛光压力，进而实现抛光压力的实时调节，提高抛光的精确度；在电磁铁通电时，电磁铁与永磁铁相互间的吸力将气浮滑块的位置固定，便于抛光装置的检修与更换配件；在准备抛光时，外接的空压机往气浮间隙内充入气体使导轨和滑块之间不接触来降低摩擦，进而提高抛光的精度，在抛光过程中，当需要改变抛光压力，通过向储液箱中输入或输出配重液，随着配重液输入或输出，对抛光装置与工件之间的压力进行调节，从而实现动态调节。
附图说明
[0016]图1为本专利技术的结构示意图；
[0017]图2为本专利技术中气浮组件结构示意图；
[0018]图3为本专利技术中固定架剖视图；
[0019]图中：1
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工作台、2
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立柱、3
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直线导轨、4
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回转台、5
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抛光装置、61
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滑轮、62
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拉绳、71
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储液箱、72
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连接管、73
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水泵、74
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马达、75
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拉力传感器、81
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气浮导轨、82
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气浮滑块、83
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安装板、91
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定位板、92
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永磁铁、93
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转动柱、94
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铁芯、95
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导线、96
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固定架。
具体实施方式
[0020]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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3，本专利技术提供一种精密施压抛光装置技术方案：一种精密施压抛光装置，包括工作台1、立柱2、直线导轨3、回转台4以及抛光装置5，工作台1的顶端一侧固定连接有立柱2，工作台1的顶端中间位置处连接有用于回转台4移动的直线导轨3，回转台4通可以在直线导轨3上做直线运动，立柱2的一端侧壁上通过气浮组件连接有用于对加工件进行抛光的抛光装置5，立柱2的顶端上连接有用于平衡配重装置和抛光装置5的平衡组件，平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；平衡组件的另一端上连接有气浮组件，气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置5，通过平衡组件平衡配重装置和抛光装置5，通过配重装置可以动态调节其自身的重力进而可以动态调节，从而调整抛光装置5施加到抛光工件表面上的压力。
[0022]平衡组件包括两个滑轮61，一个滑轮61固定在立柱2的顶端一侧，另一滑轮61固定在气浮导轨81的顶端，两个滑轮61上连接有拉绳62，拉绳62的一端与储液箱71连接，拉绳62的另一端与气浮滑块82连接，通过滑轮61与拉绳62平衡气浮导轨81和储液箱71。
[0023]在本实施方式中，配重装置包括用于储存配重液的储液箱71，连接管72的一端与
储液箱71连接，另一端与可以双向输送配重液的水泵73，水泵73与马达74连接，储液箱71的顶端连接有拉力传感器75，拉绳62的一端固定在拉力传感器75的顶端上，抛光装置5抛光时产生的压力作用在气浮滑块82上，作用在气浮滑块82上的压力通过拉绳62作用在拉力传感器75上，拉力传感器75测量的拉力数据实时传送至控制器(控制器为单片机)，控制器将信号传送至水泵73和马达74，此时马达74开始工作，驱动水泵73向储液箱71中输入或抽出配重液；当需要较小抛光压力时，启动马达本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种精密施压抛光装置，包括工作台(1)、立柱(2)、直线导轨(3)、回转台(4)以及抛光装置(5)，所述工作台(1)的顶端一侧固定连接有立柱(2)，所述工作台(1)的顶端中间位置处连接有用于回转台(4)移动的直线导轨(3)，所述直线导轨(3)上滑动连接有回转台(4)，所述立柱(2)的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置(5)，其特征在于：所述立柱(2)的顶端上连接有用于平衡的平衡组件，所述平衡组件的一端连接有可以调节重量的配重装置；所述平衡组件的另一端上连接有气浮组件，所述气浮组件上连接有用于抛光的抛光装置(5)。2.根据权利要求1所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述配重装置包括用于储存配重液的储液箱(71)，所述储液箱(71)的一端上连接有连接管(72)，所述连接管(72)的一端上连接有双向输送配重液的水泵(73)，所述水泵(73)的一端连接有马达(74)。3.根据权利要求2所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述气浮组件包括气浮导轨(81)，所述气浮导轨(81)的侧壁上滑动连接有气浮滑块(82)，所述气浮滑块(82)的侧壁上连接有安装板(83)，所述安装板(83)上连接有用于抛光的抛光装置(5)，所述气浮导轨(81)通过连接块与立柱(2)固定连接。4.根据权利要求3所述的一种精密施压抛光装置，其特征在于：所述平衡组件包括两个滑轮(61)，一个所述滑轮(6...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭宗福，
申请(专利权)人：浙江蓝特光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：