图像处理方法及装置、计算机可读存储介质、电子设备制造方法及图纸

本公开是关于一种图像处理方法及装置、计算机可读存储介质、电子设备，涉及三维模型处理技术领域，该方法包括：获取原始三维模型的原始UV分块，并确定所述原始UV分块在所述原始三维模型中所属的模型表面；根据所述模型表面的表面类型，确定影响所述UV分块的缩放系数的影响因子，并根据所述影响因子，确定所述缩放系数；基于所述缩放系数对所述原始UV分块进行缩放得到目标UV分块。该方法提高了缩放系数的精确度。精确度。精确度。

【技术实现步骤摘要】
图像处理方法及装置、计算机可读存储介质、电子设备


[0001]本公开实施例涉及三维模型处理
，具体而言，涉及一种图像处理方法、图像处理装置、计算机可读存储介质以及电子设备。

技术介绍

[0002]现有的对UV分块进行缩放的方法中，是根据三维模型每个模型表面的实际面积来计算与该模型表面对应的模型分块的缩放系数的；也即，面积越大，缩放系数越大；面积越小，缩放系数越小。
[0003]但是，上述方法并未考虑到光照因子对UV分块的精度的影响，进而使得所得到缩放系数的精确度较低。
[0004]需要说明的是，在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

[0005]本公开的目的在于提供一种图像处理方法、图像处理装置、计算机可读存储介质以及电子设备，进而至少在一定程度上克服由于相关技术的限制和缺陷而导致的缩放系数的精确度较低的问题。
[0006]根据本公开的一个方面，提供一种图像处理方法，包括：
[0007]获取原始三维模型的原始UV分块，并确定所述原始UV分块在所述原始三维模型中所属的模型表面；
[0008]根据所述模型表面的表面类型，确定影响所述UV分块的缩放系数的影响因子，并根据所述影响因子，确定所述缩放系数；
[0009]基于所述缩放系数对所述原始UV分块进行缩放得到目标UV分块。
[0010]在本公开的一种示例性实施例中，所述表面类型包括如下类型中的至少一种：
[0011]阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面；
[0012]接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面；
[0013]所述原始三维模型的外立面；
[0014]阴影细节的细节数量大于第一预设阈值且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面；
[0015]接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面；
[0016]阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的外立面；
[0017]阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面。
[0018]在本公开的一种示例性实施例中，所述影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响
因子、模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子中的至少一种。
[0019]在本公开的一种示例性实施例中，根据所述模型表面的表面类型，确定影响所述UV分块的缩放系数的影响因子，包括：
[0020]当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子；
[0021]当所述模型表面的表面类型为接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括模型表面的Z轴斜率影响因子；
[0022]当所述模型表面的表面类型为所述原始三维模型的外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；
[0023]当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子以及模型表面的Z轴斜率影响因子；
[0024]当所述模型表面的表面类型为接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；
[0025]当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；
[0026]当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子、模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子。
[0027]在本公开的一种示例性实施例中，所述缩放系数包括第一缩放系数和/或第二缩放系数和/或第三缩放系数；
[0028]其中，根据所述影响因子，确定所述缩放系数，包括：
[0029]根据环境光遮蔽的梯度变化影响因子和/或模型表面的Z轴斜率影响因子和/或直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子，确定第一缩放系数和/或第二缩放系数和/或第三缩放系数。
[0030]在本公开的一种示例性实施例中，根据环境光遮蔽的梯度变化影响因子，确定所述第一缩放系数，包括：
[0031]对所述UV分块的环境光遮蔽贴图进行采样，得到多个纹素，并计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度；
[0032]根据各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度确定所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，并根据所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，确定所述UV分块的第一缩放系数。
[0033]在本公开的一种示例性实施例中，计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度，包括：
[0034]获取各所述纹素的第一纹素值、第二纹素值、第三纹素值以及第四纹素值；其中，
所述第一纹素值以及第二纹素值为处于X轴上的左右两个位置的纹素值，所述第三纹素值以及第四纹素值为处于Y轴上的上下两个位置的纹素值；
[0035]根据所述第一纹素值以及第二纹素值计算各所述纹素在U方向上的环境光遮蔽梯度，并根据第三纹素值以及第四纹素值计算各所述纹素在V方向上的环境光遮蔽梯度；
[0036]根据各所述纹素在U方向上的环境光遮蔽梯度以及在V方向上的环境光遮蔽梯度，得到各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度。
[0037]在本公开的一种示例性实施例中，根据各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度确定所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，包括：
[0038]计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度的平均值，并根据所述第一环境光遮蔽梯度的平均值得到所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度。
[0039]在本公开的一种示例性实施例中，根据所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，确定所述UV分块的第一缩放系数，包括：
[0040]对所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度进行环比，从所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度中确定最大梯度值；
[0041]根据所述最大梯度值对所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度进行归一化处理，得到所述UV分块的第一归一化数值，并根据所述第一归一化数值确定所述UV分块的第一缩放系数。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图像处理方法，其特征在于，包括：获取原始三维模型的原始UV分块，并确定所述原始UV分块在所述原始三维模型中所属的模型表面；根据所述模型表面的表面类型，确定影响所述UV分块的缩放系数的影响因子，并根据所述影响因子，确定所述缩放系数；基于所述缩放系数对所述原始UV分块进行缩放得到目标UV分块。2.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述表面类型包括如下类型中的至少一种：阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面；接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面；所述原始三维模型的外立面；阴影细节的细节数量大于第一预设阈值且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面；接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面；阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的外立面；阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面。3.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子、模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子中的至少一种。4.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，根据所述模型表面的表面类型，确定影响所述UV分块的缩放系数的影响因子，包括：当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子；当所述模型表面的表面类型为接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括模型表面的Z轴斜率影响因子；当所述模型表面的表面类型为所述原始三维模型的外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子以及模型表面的Z轴斜率影响因子；当所述模型表面的表面类型为接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的外立面时，影
响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子；当所述模型表面的表面类型为阴影细节的细节数量大于第一预设阈值的表面且接受直射光和除开与所述原始三维模型对应的原始物体以外的其他物体阴影的向光外立面时，影响所述UV分块的缩放系数的影响因子包括环境光遮蔽的梯度变化影响因子、模型表面的Z轴斜率影响因子以及直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子。5.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述缩放系数包括第一缩放系数和/或第二缩放系数和/或第三缩放系数；其中，根据所述影响因子，确定所述缩放系数，包括：根据环境光遮蔽的梯度变化影响因子和/或模型表面的Z轴斜率影响因子和/或直射光方向与模型表面的法线方向夹角影响因子，确定第一缩放系数和/或第二缩放系数和/或第三缩放系数。6.根据权利要求5所述的图像处理方法，其特征在于，根据环境光遮蔽的梯度变化影响因子，确定所述第一缩放系数，包括：对所述UV分块的环境光遮蔽贴图进行采样，得到多个纹素，并计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度；根据各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度确定所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，并根据所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，确定所述UV分块的第一缩放系数。7.根据权利要求6所述的图像处理方法，其特征在于，计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度，包括：获取各所述纹素的第一纹素值、第二纹素值、第三纹素值以及第四纹素值；其中，所述第一纹素值以及第二纹素值为处于X轴上的左右两个位置的纹素值，所述第三纹素值以及第四纹素值为处于Y轴上的上下两个位置的纹素值；根据所述第一纹素值以及第二纹素值计算各所述纹素在U方向上的环境光遮蔽梯度，并根据第三纹素值以及第四纹素值计算各所述纹素在V方向上的环境光遮蔽梯度；根据各所述纹素在U方向上的环境光遮蔽梯度以及在V方向上的环境光遮蔽梯度，得到各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度。8.根据权利要求6所述的图像处理方法，其特征在于，根据各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度确定所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，包括：计算各所述纹素的第一环境光遮蔽梯度的平均值，并根据所述第一环境光遮蔽梯度的平均值得到所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度。9.根据权利要求6所述的图像处理方法，其特征在于，根据所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度，确定所述UV分块的第一缩放系数，包括：对所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度进行环比，从所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度中确定最大梯度值；根据所述最大梯度值对所述UV分块的第二环境光遮蔽梯度进行归一化处理，得到所述UV分块的第一归一化数值，并根据所述第一归一化数值确定所述UV分块的第一缩放系数。10.根据权利要求9所述的图像处理方法，其特征在于，根据所述第一归一化数值确定所述UV分块的第一缩放系数，包括：
若所述第一归一化数值大于第二预设阈值，则所述UV分块的第一缩放系数为任一大于第三预设阈值的数值；若所述第一归一化数值小于等于第二预设阈值，则所述UV分块的第一缩放系数为任一小于第三预设阈值的数值。11.根据权利要求5所述的图像处理方法，其特征在于，根据模型表面的Z轴斜率影响因子，确定第二缩放系数，包括：获取所述UV分块的包围盒，并计算所述UV分块的包围盒的单位向量；根据所述单位向量计算所述UV分块的Z轴斜率，并根据所述Z轴斜率确定所述第二缩放系数。12.根据权利要求11所述的图像处理方法，其特征在于，获取所述UV分块的包围盒，并计算所述UV分块的包围盒的单位向量，包括：遍历所述UV分块内的所有顶点，并计算各顶点分别投影到X轴、Y轴以及Z轴方向上的X轴最大值、Y轴最大值、Z轴最大值以及X轴最小值、Y轴最小值、Z...

【专利技术属性】
技术研发人员：谈志超，任为，甘泉，
申请(专利权)人：网易杭州网络有限公司，
类型：发明
国别省市：