本发明专利技术涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。以如下方式使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的中心轴一致，在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。致。致。
【技术实现步骤摘要】
衬底洗净装置及衬底洗净方法
[0001]本专利技术涉及一种将衬底的下表面洗净的衬底洗净装置及衬底洗净方法。
技术介绍
[0002]为了对液晶显示装置或有机EL(Electro Luminescence，电致发光)显示装置等所使用的FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光掩模用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等各种衬底进行各种处理，使用有衬底处理装置。为了将衬底洗净，使用有衬底洗净装置。
[0003]日本专利第5904169号公报中记载的衬底洗净装置具备：2个吸附垫，保持晶圆的背面周缘部；旋转吸盘，保持晶圆的背面中央部；及刷(brush)，将晶圆的背面洗净。2个吸附垫保持着晶圆沿横向移动。在该状态下，晶圆的背面中央部被刷洗净。然后，旋转吸盘从吸附垫接收晶圆，旋转吸盘保持着晶圆的背面中央部旋转。在该状态下，晶圆的背面周缘部被刷洗净。
技术实现思路
[0004]为了减少衬底洗净装置在无尘室内所占的设置占地面积(占据面积)，要求衬底洗净装置小型化。然而，在所述衬底洗净装置中，难以使衬底洗净装置在水平方向上小型化。
[0005]本专利技术的目的在于提供一种能减少占据面积的增加并且将衬底的下表面洗净的衬底洗净装置及衬底洗净方法。
[0006](1)本专利技术的一态样的衬底洗净装置具备：第1保持部，具有基准位置，以衬底的中心位于基准位置的方式保持该衬底；第2保持部，具有沿上下方向延伸的第1中心轴，一边保持衬底的下表面中央区域，一边使该衬底绕第1中心轴旋转；洗净器具，具有沿上下方向延伸的第2中心轴，通过一边接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边绕第2中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净，并且接触通过第2保持部而旋转的衬底的包围下表面中央区域的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净；以及可动基座，设置着第2保持部及洗净器具，且以如下方式在水平面内移动，即，当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的第1中心轴一致，并且在对下表面中央区域进行洗净时，俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的第2中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致。
[0007]在该衬底洗净装置中，利用第1保持部以衬底的中心位于基准位置的方式保持该衬底。利用第2保持部一边保持衬底的下表面中央区域，一边使该衬底绕沿上下方向延伸的第1中心轴旋转。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕沿上下方向延伸的第2中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的包围下表面中央区域的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净。
[0008]第2保持部及洗净器具设置在可动基座。在第1保持部与第2保持部之间交接衬底
时，可动基座以俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的第1中心轴一致的方式，在水平面内移动。对下表面中央区域进行洗净时，可动基座以俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的第2中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致的方式，在水平面内移动。
[0009]根据该衬底洗净装置，为了将衬底的下表面洗净，无需使衬底在水平面内移动。此处，在对下表面中央区域进行洗净时，与洗净器具的第2中心轴接触的衬底的第1部分有时会残存微量的污染物质。然而，衬底的中心不与洗净器具的第2中心轴接触，所以不会在衬底的中心残存污染物质。因此，第2保持部上基本不会附着来自衬底的中心的污染物质。因此，即使在依序对多个衬底进行洗净的情况下，也基本不会经由第2保持部而在多个衬底之间发生交叉污染(cross contamination)。由此，能减少占据面积的增加，并且将衬底的下表面洗净。
[0010](2)在对下表面中央区域进行洗净时，可动基座也可以俯视下洗净器具和由第1保持部保持的衬底的与第1部分不同的第2部分一致的方式，在水平面内进一步移动。该情况下，残存在衬底的第1部分的微量的污染物质被去除。由此，能将衬底的下表面充分地洗净。
[0011](3)衬底的第2部分也可为衬底的中心。根据该构成，即使在洗净器具并非相对大型的情况下，也能将衬底的下表面中央区域充分地洗净。
[0012](4)衬底洗净装置也可还具备气体喷出部，该气体喷出部设置在可动基座，通过向衬底的下表面喷出气体而使洗净后的下表面中央区域或下表面外侧区域干燥。该情况下，伴随可动基座的移动，短时间内衬底的整个下表面干燥。由此，能提高衬底的下表面的洗净效率。
[0013](5)衬底洗净装置也可还具备在水平面内沿一方向延伸的线性导轨，可动基座沿着线性导轨呈直线状移动。该情况下，能以简单的构成使可动基座在水平面内移动。
[0014](6)第2保持部及洗净器具各自也可具有圆形的外形，且洗净器具的直径大于第2保持部的直径。该情况下，能利用相对大型的洗净器具将衬底的下表面高效率地洗净。
[0015](7)衬底及洗净器具各自也可具有圆形的外形，且洗净器具的直径大于衬底的直径的1/3。该情况下，能利用相对大型的洗净器具将衬底的下表面高效率地洗净。
[0016](8)本专利技术的另一态样的衬底洗净方法包括如下步骤：利用第1保持部以衬底的中心位于基准位置的方式保持该衬底；利用第2保持部一边保持衬底的下表面中央区域，一边使该衬底绕沿上下方向延伸的第1中心轴旋转；通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕沿上下方向延伸的第2中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净；使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的包围下表面中央区域的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗净；当在第1保持部与第2保持部之间交接衬底时，以俯视下第1保持部的基准位置与第2保持部的第1中心轴一致的方式，使设置着第2保持部及洗净器具的可动基座在水平面内移动；以及在对下表面中央区域进行洗净时，以俯视下洗净器具与由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域重叠，且洗净器具的第2中心轴和衬底的与中心不同的第1部分一致的方式，使可动基座在水平面内移动。
[0017]根据该衬底洗净方法，为了将衬底的下表面洗净，无需使衬底在水平面内移动。另外，在对下表面中央区域进行洗净时，衬底的中心不与洗净器具的第2中心轴接触，第2保持部上基本不会附着来自衬底的中心的污染物质。因此，即使在依序对多个衬底进行洗净的
情况下，也基本不会经由第2保持部在多个衬底之间发生交叉污染。由此，能减少占据面积的增加，并且将衬底的下表面洗净。
[0018](9)衬底洗净方法也可还包括如下步骤：在对下表面中央区域进行洗净时，以俯视下洗净器具和由第1保持部保持的衬底的与第1部分不同的第2部分一致的方式，使可动基座在水平面内移动。该情况下，残存在衬底的第1部分的微量的污染物质被去除。由此，能将衬底的下表面充分地洗净。
[0019](10)衬底的第2部分也可为衬底的中心。根据该构成，即使在洗本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种衬底洗净装置，具备：第1保持部，具有基准位置，以衬底的中心位于所述基准位置的方式保持该衬底；第2保持部，具有沿上下方向延伸的第1中心轴，一边保持所述衬底的下表面中央区域，一边使该衬底绕所述第1中心轴旋转；洗净器具，具有沿所述上下方向延伸的第2中心轴，通过一边接触由所述第1保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域，一边绕所述第2中心轴旋转，而将所述下表面中央区域洗净，并且接触通过所述第2保持部而旋转的所述衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域，由此将所述下表面外侧区域洗净；以及可动基座，设置着所述第2保持部及所述洗净器具，且以如下方式在水平面内移动，即，当在所述第1保持部与所述第2保持部之间交接所述衬底时，俯视下所述第1保持部的所述基准位置与所述第2保持部的所述第1中心轴一致，并且当对所述下表面中央区域进行洗净时，所述俯视下所述洗净器具与由所述第1保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域重叠，且所述洗净器具的所述第2中心轴和所述衬底的与中心不同的第1部分一致。2.根据权利要求1所述的衬底洗净装置，其中在对所述下表面中央区域进行洗净时，所述可动基座以所述俯视下所述洗净器具和由所述第1保持部保持的所述衬底的与所述第1部分不同的第2部分一致的方式，在所述水平面内进一步移动。3.根据权利要求2所述的衬底洗净装置，其中所述衬底的所述第2部分是所述衬底的中心。4.根据权利要求1至3中任一项所述的衬底洗净装置，还具备气体喷出部，该气体喷出部设置在所述可动基座，通过向所述衬底的下表面喷出气体而使洗净后的所述下表面中央区域或所述下表面外侧区域干燥。5.根据权利要求1至4中任一项所述的衬底洗净装置，还具备在所述水平面内沿一方向延伸的线性导轨，所述可动基座沿所述线性导轨呈直线状移动。6.根据权利要求1至5中任一项所述的衬底洗净装置，其中所述第2保持部及所述洗净器具各自具有圆形的外形，所述洗净器具的直径大于所述第2保持部的直径。7.根据权利要求1至5中任一项所述的衬底洗净装置，其中所述衬底及所述洗净器具各自具有圆形的外形，所述洗净器具的直径大于所述衬底的直径的1/3。8.一种衬底洗净方法，包括如下步骤：利...
【专利技术属性】
技术研发人员：筱原智之，中村一树，冈田吉文，髙桥拓马，筱原敬，冲田展彬，石井淳一，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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