【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用过渡金属氧化物的高效空穴传输层的方法
[0001]本专利技术属于制造具有透明触点和改进的空穴传输层的太阳能电池或光伏(PV)电池的方法领域。所述太阳能电池包含至少一个异质结并且典型地包含两个异质结。本专利技术提供具有良好操作特征,例如在转换效率、填充因子和电流增益方面具有良好操作特征的太阳能电池。
技术介绍
[0002]太阳能电池或光伏(PV)电池是通过所谓的光伏效应将光能,典型地日光能(因此称为“太阳能(solar)”)直接转换成电能的一种电气装置。太阳能电池可被视为光电电池,它具有当暴露于光时会变化并且随电池的类型变化而变化的电特征,例如电流、电压、电阻和填充因子。
[0003]无论来源是日光还是人造光,太阳能电池都被描述为光伏电池。它们还可以用作光电检测器。
[0004]当太阳能电池吸收光时,它可以产生电子
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空穴对或激子。为了获得电流,相反类型的电荷载流子被隔开。隔开的电荷载流子被“提取(extracted)”至外部电路,典型地提供DC电流。在实际使用中,DC电流可例如通过使用变压器变换为AC电流。
[0005]典型地,将太阳能电池集合成元件阵列。多个元件可形成面板(panel),并且多个面板可形成系统。
[0006]晶片型c
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Si太阳能电池占总PV市场的超过90%。根据近期预测,在2020年以及之后许多年里,将一直保持这一趋势。由于方法简化,常规的c
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Si太阳能电池占据了大部分的市场。作为行业提高功率与成本比的替代 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种单结或异质结Si基太阳能电池(100),所述太阳能电池包括空穴传输层(12),其特征在于所述空穴传输层(12)包括至少一种过渡金属氧化物,其中所述空穴传输层(12)具有1.5
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9nm的厚度,其中所述空穴传输层(12)被设置于等离子体预处理层(12a)上,其中所述等离子体预处理层是表面钝化层,其中所述表面钝化层是a
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Si:H预处理过的层。2.根据权利要求1所述的太阳能电池,其中所述表面钝化层还包括设置于所述a
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Si:H预处理过的层上的硅预处理过的层。3.根据权利要求1或2所述的太阳能电池,其中组合的空穴传输层(12)/预处理层(12a)的功函数损失<1.0eV,优选地<0.6eV,更优选地<0.5eV,例如<0.35eV,和/或其中所述等离子体预处理过的表面层的偶极矩<4C/m,优选地<2C/m,更优选地<1C/m,例如<0.7C/m。4.根据权利要求1至3中任一项所述的太阳能电池,其中所述预处理层(12a)是通过用等离子体混合物进行PECVD处理而获得,所述等离子体混合物包括含正掺杂剂的气体,例如含B、Al或Ga的掺杂剂气体,例如B2H6,优选地包括SiH4、H2和气态p掺杂剂。5.根据权利要求1至4中任一项所述的太阳能电池,其中所述预处理层(12a)包括纳米晶Si、弛豫界面、p掺杂剂、非晶Si、正电荷或其组合。6.根据权利要求1至5中任一项所述的太阳能电池,其中预处理时间为10
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1000秒、优选地20
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300秒、例如30
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100秒,和/或其中预处理期间的功率密度是50
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350mW/cm2,优选地是70
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200mW/cm2,更优选地是80
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100mW/cm2,例如是90mW/cm2,和/或其中预处理在<523K、优选地<473K、更优选地<443K的温度下进行,和/或其中等离子体压力是50
‑
400Pa,优选地是100
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300Pa,更优选地是150
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250Pa,例如220Pa,和/或其中所述预处理层基本上不含SiO2,例如具有小于1%的SiO2/预处理过的层(原子/原子),更优选地<1000ppm,甚至更优选地<100ppm,例如<10ppm,和/或条件是不提供所述a
‑
Si:H层的退火,和/或条件是不提供所述a
‑
Si:H层的化学蚀刻,优选地完全不进行化学蚀刻。7.根据权利要求1至6中任一项所述的太阳能电池,其中所述空穴传输层(12)具有2
‑
7nm、优选地2.5
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5nm、例如3
‑
4nm的厚度,和/或其中所述空穴传输层(12)在3
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4eV范围内具有<20
×
104cm
‑1、优选地<10
×
104cm
‑1的吸收系数,和/或其中所述空穴传输层(12)具有1
‑
2mA/cm2的电流增益。8.根据权利要求1至7中任一项所述的太阳能电池,其中所述空穴传输层(12)是结构化的,例如包括锯齿形结构,包括随机锥形,纹理化,优选地具有1
‑
7μm、例如2
‑
5μm的高度,以及其组合。9.根据权利要求1至8中任一项所述的太阳能电池,其中所述空穴传输层(12)被设置在透明...
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