一种紧凑型直写式曝光系统技术方案

本实用新型专利技术提出的紧凑型直写式曝光系统，包括设置于整机外壳内的曝光机主体、上料装置、抓料装置、翻转移载装置、下料装置，上料装置、抓料装置、翻转移载装置与下料装置环绕曝光机主体的三个侧边分布；曝光机主体包括第一工作台、第一对位模块、曝光模块、第二对位模块、第二工作台，第一工作台和第二工作台的初始位置位于曝光模块的两侧，第一对位模块和第二对位模块对称分布在曝光模块两侧；上料装置与下料装置对称分布在曝光机主体的两端，其中，上料装置邻近第一工作台，下料装置邻近第二工作台，通过环绕式的布局使得系统能够集成封装，结构紧凑且光刻精度高。结构紧凑且光刻精度高。结构紧凑且光刻精度高。

【技术实现步骤摘要】
一种紧凑型直写式曝光系统


[0001]本技术涉及直写式曝光
，尤其是涉及一种紧凑型直写式曝光系统。

技术介绍

[0002]直写式曝光是利用数字光处理技术在工件表面曝光形成电路图形的一种直接成像技术，相较于掩模式曝光效率显著提高、适应性更强，且成本优势明显，能够满足集成电路、半导体器件以及印刷电路板等多种产品的加工需求。
[0003]近年来，为了适应电子产品智能化和小型化的发展，电子电路板、半导体晶片的集成度不断提升，在基件上曝光图形不再仅限于进行单面图形曝光，双面图形曝光日益成为基本需求。而当前对基件进行双面处理时，采用的方法主要有两种：其一是如专利CN108931893A公开的利用两台曝光机加翻板机，作业流程为入料
→
第一面曝光
→
翻板
→
第二面曝光
→
出料，整个作业流程设置在同一轴线进行，使得整体长度很大，占用空间很大，并且需要两台曝光机，导致整套双面曝光系统成本昂贵；其二是如专利CN105278259A、CN108931893A公开的采用左右平行双工作台的曝光机，通过机械手和传送辊装置实现一个工作台曝光第一面，另一个工作台曝光第二面，但此方式下，机械手与传送辊的分布独立分散在曝光机的一侧，布局分散，此方式下曝光镜头需要左右移动进行基件曝光，光刻图形精度降低。上述两种方式整个双面曝光系统各部分分散设置，难以进行整体封装，还容易导致基件在传送过程中沾染环境粉尘，曝光精度等级难以再上一层。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种紧凑型直写式曝光系统，以使整个曝光系统结构更紧凑，同时能够提高曝光精度。为此，本技术采用如下的技术方案：
[0005]一种紧凑型直写式曝光系统，包括设置于整机外壳内的曝光机主体、上料装置、抓料装置、翻转移载装置、下料装置，上料装置、抓料装置、翻转移载装置与下料装置环绕曝光机主体的三个侧边分布；曝光机主体包括第一工作台、第一对位模块、曝光模块、第二对位模块、第二工作台，第一工作台和第二工作台的初始位置位于曝光模块的两侧，第一对位模块和第二对位模块对称分布在曝光模块两侧；上料装置与下料装置对称分布在曝光机主体的两端，其中，上料装置邻近第一工作台，下料装置邻近第二工作台。
[0006]优选地，抓料装置包括第一抓料装置和第二抓料装置，上料装置和第一抓料装置并排放置于第一工作台一侧，下料装置和第二抓料装置并排放置于第二工作台一侧。
[0007]优选地，抓料装置包括第一抓料装置和第二抓料装置，上料装置、第一工作台、第二工作台和下料装置在同一轴线上，第一抓料装置安装于上料装置的上方，第二抓料装置安装于下料装置的上方。
[0008]优选地，翻转移载装置包括翻转模块和移载模块，移载模块平行设置于曝光机主体的一侧，翻转模块设置于邻近第一工作台一侧的移载模块的上方。
[0009]优选地，翻转移载装置包括翻转模块和移载模块，移载模块平行设置于曝光机主
体的一侧，翻转模块设置于邻近第二工作台一侧的移载模块的上方。
[0010]优选地，所述紧凑型直写式曝光系统还包括第一视觉定位模块和第二视觉定位模块，所述第一视觉定位模块设置于所述上料装置上方/斜上方/下方/斜下方/前方/后方/侧方，所述第二视觉定位模块设置于所述移载装置上方/斜上方/下方/斜下方/前方/后方/侧方。
[0011]优选地，所述第一工作台和所述第二工作台的尺寸相同，所述曝光模块包括多个曝光镜头，多个曝光镜头均分为两排，两排曝光镜头沿横向对齐排列，两排曝光镜头之间的距离等于所述第一工作台的横向长度的一半。
[0012]优选地，所述紧凑型直写式曝光系统还包括多台从机、多个电控模块以及设置于翻转移载装置下方的从机柜和电控柜，所述多台从机安放于从机柜，所述多个电控模块安放于电控柜。
[0013]优选地，所述紧凑型直写式曝光系统还包括冷却装置，冷却装置包括多个监控模块和相应的延伸至热源的循环冷却回路，多个监控模块集中设置于抓料装置下方/侧下方。
[0014]优选地，所述整机外壳的顶部安装有多个风机过滤装置和热风排出装置。
[0015]与现有技术相比，本技术的曝光机主体采用对称式的双工作台形式，使得上料装置、第一抓料、翻转移载装置、下料装置环绕曝光机主体，从机柜与电控柜分布设置于翻转移载装置下方的空间，使得整个系统封装在一起，结构紧凑且能够进行空气过滤提高光刻精度，水电分离的分布形式不仅降低冷却水泄露带来的安全风险，同时也使维护检修更为方便。
附图说明
[0016]图1为示例性曝光系统俯视图。
[0017]图2为示例性曝光系统正视图。
[0018]图3为示例性曝光模块曝光工位对比图。
[0019]图4为示例性冷却装置局部示意图。
[0020]图5为示例性风机过滤装置分布示意图。
具体实施方式
[0021]为使本技术的技术方案更加清楚明了，下面将结合附图来描述本技术的实施例。应当理解的是，对实施方式的具体说明仅用于示教本领域技术人员如何实施本技术，而不是用于穷举本技术的所有可行方式，更不是用于限制本技术的具体实施范围。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都应属于本技术保护的范围。
[0022]需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述或简化描述本技术，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造、安装及操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更
多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0023]如图1和2示出，本技术提出的紧凑型直写式曝光系统包括曝光机主体1、上料装置2、抓料装置3、翻转移载装置4、下料装置5、整机外壳6，曝光机主体1、上料装置2、抓料装置3、翻转移载装置4以及下料装置5位于整机外壳内部6，图中仅示出整机外壳的框架以显示内部分布图。上料装置2、抓料装置3、翻转移载装置4与下料装置5环绕曝光机主体1的三个侧边分布。具体地，曝光机主体1包括第一工作台11、第一对位模块12、曝光模块13、第二对位模块14、第二工作台15。第一工作台11和第二工作台15的初始位置位于曝光模块13的两侧，第一对位模块12和第二对位模块14对称分布在曝光模块13两侧。第一工作台11和第二工作台15为气浮平台，共用一组气浮导轨，第一工作台11和第二工作台15分别沿着气浮导轨从曝光模块13的两侧依次移动至曝光模块13下方进行本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紧凑型直写式曝光系统，其特征在于：包括设置于整机外壳内的曝光机主体、上料装置、抓料装置、翻转移载装置、下料装置，上料装置、抓料装置、翻转移载装置与下料装置环绕曝光机主体的三个侧边分布；曝光机主体包括第一工作台、第一对位模块、曝光模块、第二对位模块、第二工作台，第一工作台和第二工作台的初始位置位于曝光模块的两侧，第一对位模块和第二对位模块对称分布在曝光模块两侧；上料装置与下料装置对称分布在曝光机主体的两端，其中，上料装置邻近第一工作台，下料装置邻近第二工作台。2.如权利要求1所述的紧凑型直写式曝光系统，其特征在于：抓料装置包括第一抓料装置和第二抓料装置，上料装置和第一抓料装置并排放置于第一工作台一侧，下料装置和第二抓料装置并排放置于第二工作台一侧。3.如权利要求1所述的紧凑型直写式曝光系统，其特征在于：抓料装置包括第一抓料装置和第二抓料装置，上料装置、第一工作台、第二工作台和下料装置在同一轴线上，第一抓料装置安装于上料装置的上方，第二抓料装置安装于下料装置的上方。4.如权利要求1所述的紧凑型直写式曝光系统，其特征在于：翻转移载装置包括翻转模块和移载模块，移载模块平行设置于曝光机主体的一侧，翻转模块设置于邻近第一工作台一侧的移载模块的上方。5.如权利要求1所述的紧凑型直写式曝光系统，其特征在于：翻转移载装置包括翻转模块和移载模块...

【专利技术属性】
技术研发人员：李志，吕腾斐，吕亮，张雷，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：