用于分面镜的分面组件制造技术

一种分面组件(26)是用于投射光刻的照明光学单元的分面镜的组成部分。该分面组件(26)具有一用于反射照明光的反射面(27)的分面(7)。该分面组件(26)的一分面主体(28)具有至少一个中空腔(29)。该中空腔(29)的一反射面腔壁形成该反射面(27)的至少一个部分(27ij)。该分面组件(26)的一致动器控制装置(30)操作上连接至中空腔(29)，用于该反射面腔壁的受控变形。其结果为一分面组件，可弹性用作配备在用于投射光刻的照明光学单元内的分面镜的组成部分。部分。部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于分面镜的分面组件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本专利申请案主张德国专利申请案号DE 10 2020 205 123.2的优先权，其内容在此以引用方式并入本文。


[0003]本专利技术涉及一种用于投射光刻的照明光学单元的分面镜的分面组件。此外，本专利技术涉及一种具有这种分面组件的分面镜、一种具有这种分面镜的照明光学单元、一种具有这种照明光学单元的光学系统、具有光源的这种照明光学单元或这种光学系统、一种具有这种光学系统的投射光刻装置、一种用于使用这种投射曝光装置制造微结构或纳米结构部件的方法、以及一种以这种方式制造的结构化部件。

技术介绍

[0004]一种用于EUV投射光刻的照明光学单元可从DE 10 2015 200 531 A1、US 2011/0001947 A1和US 8,817,233 B2得知。场分面可为已从DE 10 2013 206 981 A1和DE 10 2017 221 420 A1得知的场分面镜的组成部件。

技术实现思路

[0005]本专利技术的一目的是建立一分面组件，其可灵活用作配备在用于投射光刻的照明光学单元内的分面镜的组成部件。
[0006]根据本专利技术，此目的是由具有权利要求1所述的特征的分面组件来实现。
[0007]已发现，根据实施具有至少一个中空腔的分面主体的本专利技术(其中该中空腔的反射面腔壁形成至少一个反射面部分)有利地减少该分面组件的分面的反射面的刚性。这令人感到惊奇，因为对于实现高照明光导引精确度而言，在起始点的刚性的减少显示具有反效果。根据本专利技术的中空腔实施例的刚性减少可有利地用于分面的反射面的目标变形。该分面组件优选用作EUV投射曝光装置的场分面镜的组成部件。用于反射面腔壁的变形的至少一个致动器是致动器控制装置的部分。
[0008]分面主体分成多个中空腔，其中反射面腔壁形成不同反射面部分。这增加组件关于实现反射面的特定目标变形的灵活性。该目标变形可以较高精确度实现。
[0009]如权利要求2的多个致动器单元允许独立控制不同反射面部分，特别是在具有多个中空腔的实施例的情况下，分配给不同中空腔的反射面部分。
[0010]如权利要求3的中空腔的配置允许经调适成预期变形的变形控制用于将反射面形状调适成所需的目标形状。如权利要求3的第一变体的列划分允许例如反射面的曲率在第一曲率平面中变化。对于如权利要求3的关于第二曲率平面的第二变体亦为如此，其中曲率可变化。如权利要求3的第三变体的呈反射面阵列形式的实施例允许在反射面上方二维的变形调适。阵列划分可采用笛卡儿阵列的形式实现，特别是采用x和y的规律网格的形式。使用反射面部分(其各自分配给中空腔)覆盖反射面的其他方式也是可能的，特别是就其对称
分布而言经调适成所需变形的对称性的覆盖。采用已知无间隙的镶嵌形式的覆盖同样是可能。
[0011]反射面部分可根据权利要求4配置，使得在各情况下沿着反射面行分配给中空腔的反射面部分的数目不同于在各情况下沿着反射面列分配给中空腔的反射面部分的数目。反射面部分可采用反射面阵列的形式配置。
[0012]在各情况下沿着反射面行分配给中空腔的反射面部分的数目可位于1与100之间的范围。在各情况下沿着反射面列分配给中空腔的反射面部分的对应数目可位于1与10之间的范围。
[0013]分面的反射面可具有x/y高宽比不等于1且特别是可大于5的基本面积。在各情况下分配给一个中空腔的反射面部分的数目在x
‑
方向上可比在y
‑
方向上大。这在当分面组件用作场分面镜的组成部件时特别有利，其中具有不等于1且特别大于5的x/y高宽比的物场被完全照明。
[0014]致动器控制装置可经由至少一个致动器或经由至少一个致动器单元连接至至少一个反射面腔壁。此连接可为机械式连接。该机械式连接可采用弹簧的形式实施。
[0015]如权利要求5的额外的微调致动器单元同样可采用机械式连接至反射面的形式来实施。或者或此外，微调致动器单元可与反射面的压电涂层相互作用。对应的压电涂层可采用压电堆叠涂层的形式实施。微调致动器单元可用来例如设置变形，其较其他致动器单元精确10倍。
[0016]以下可用作致动器单元或微调致动器单元：
[0017]‑
压电致动器；
[0018]‑
磁致伸缩致动器；
[0019]‑
静电致动器；
[0020]‑
热致动器，在此情况下使用热膨胀系数，并使其达到指定温度；热能可通过加热或冷却引入此处，例如经由电阻加热系统或帕耳帖(Peltier)元件；
[0021]‑
电磁致动器。
[0022]在DE 10 2016 209 847 A1中描述了压电致动器，其也可采用压电层/压电堆叠的形式存在，其原则上可用作致动器单元。
[0023]如权利要求6填充中空腔的至少一个的介质可用于各种用途。例如，该介质可用于将热自反射面移除至分面主体，且可移至散热器(heat sink)或热阱(heat trap)。可使用的填充介质是液体金属，例如：镓铟锡合金(Galinstan)。或者，可使用的填充介质是导热膏、陶瓷分散体、粉末或粒状材料。该介质的导热率可大于7W/mK，且可为例如至少10W/mK。
[0024]该至少一个中空腔可或者或另外使用流体、气体和/或液体来填充。
[0025]在如权利要求7的致动器控制装置的实施例中，经由可控制压力改变获得精细变形规格。除了压力改变的液压规格，取决于所用流体的类型，还可通过施加对应电场或通过引入磁力产生流体的密度变化。密度变化或压力的对应改变可经个别的致动器单元实现，所述致动器单元被分配给反射面部分，其然后被分配给不同的中空腔。
[0026]这种分面组件的优点在如权利要求8的分面镜中特别明显。
[0027]在如权利要求9的分面镜中，可经由致动器控制装置指定的分面组件的反射面变形可取决于分面的倾斜位置实现。这允许各个分面的反射面形状根据所述分面至照明光学
单元的照明通道的分配来调适，其中分面镜为照明光学单元的一部件。
[0028]如权利要求10的照明光学单元、如权利要求11的光学系统、如权利要求12的照明光学单元或光学系统、如权利要求13的投射曝光装置、如权利要求14的制造方法、以及如权利要求15的微结构或纳米结构部件的优点对应于上文已参考根据本专利技术的分面组件以及根据本专利技术的分面镜所讨论的那些。
[0029]照明光学单元或光学系统可实现少于30％、少于25％、少于20％以及例如少于15％的光瞳填充度(所用光瞳的总面积的光瞳的照明部分的百分比)。
[0030]光源可为EUV光源。光源可为激光等离子体源。光源可具有高于500W以及还高于800W的照明光使用功率。
[0031]特别是，可使用投射曝光装置制造用来处理数据的半导体部件，例如，存储器芯片或芯片。
附图说明
[0032]以下参考附图详细说明本专利技术的示例性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于投射光刻的照明光学单元(25)的分面镜(6)的分面组件(26；35)，具有：
‑
分面(7)，其具有用于反射照明光(3)的反射面(27)；
‑
含有至少一个中空腔(29)的分面主体(28)，其中该中空腔(29)的反射面腔壁形成该反射面(27)的至少一个部分(27
ij
)；
‑
致动器控制装置(30)，其操作上连接至所述中空腔(29)，用于该反射面腔壁的受控变形，
‑
其中该分面主体(28)分成多个中空腔(29
ij
)，其中该中空腔(29
ij
)的反射面腔壁形成该反射面(27)的不同部分(27
ij
)。2.如权利要求1所述的分面组件，其特征在于，该致动器控制装置(30)经信号连接至多个致动器单元(31
ij
；32；39)，其在每个情况下被分配至所述中空腔(29
ij
)和/或所述反射面部分(27
ij
)的所述反射面腔壁。3.如权利要求1或2所述的分面组件，其特征在于所述中空腔(29
ij
)的配置，使得由所述中空腔(29
ij
)的该反射面腔壁形成的该反射面部分(27
ij
)配置成
‑
仅一个反射面行(i＝1)的形式；或
‑
仅一个反射面列(j＝1)的形式；或
‑
具有至少两个反射面行(j>1)且具有至少两个反射面列(i>1)的反射面阵列(i>1,j>1)的形式。4.如权利要求3所述的分面组件，其特征在于，在每个情况下沿着反射面行(i＝1)分配给一个中空腔(29)的反射面部分(27
ij
)的数目不同于在每个情况下沿着反射面列(j＝1)分配给一个中空腔(29)的反射面部分(27
ij
...

【专利技术属性】
技术研发人员：J哈特杰斯，A沃尔夫，T格鲁纳，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：