一种光刻胶减压干燥装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种光刻胶减压干燥装置，包括箱体及真空组件；箱体具有干燥腔，干燥腔中横设有干燥平台，干燥平台用以放置表面涂布有光刻胶的基板，且干燥腔相对的两内侧壁分别设有位于干燥平台上方的加热结构；真空组件包括设于干燥腔外的真空泵、及与真空泵相连通的真空管道，真空管道远离真空泵的一端伸入至干燥腔中、并位于干燥平台的中部上方。本实用新型专利技术使得基板中部的光刻胶溶剂成分与侧端的光刻胶溶剂成分，在加热结构与真空管道的配合下能够相对均衡蒸发，也即使得基板上的光刻胶能够均匀干燥。此外，加热结构的设置，也使得悬浮于干燥腔空气中的光刻胶溶剂液滴能够进一步汽化，便于通过真空管道排出，提高溶剂成分蒸发排出效率。发排出效率。发排出效率。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶减压干燥装置


[0001]本技术涉及基板干燥
，尤其涉及一种光刻胶减压干燥装置。

技术介绍

[0002]TFT
‑
LCD(Thin Film Transistor
‑
Liquid Crystal Display，简称薄膜晶体管液晶显示器)的基板制作过程中，真空减压干燥(Vacuum Dry，简称VCD)是一道重要的工序。真空减压干燥是对涂布有光致抗蚀剂等膜层的涂覆液的基板进行减压干燥处理，使得膜层固化。完整的光刻工艺通过光刻胶涂覆制程，曝光制程，显影制程三个主体步骤，完成基板上精密图形的定义。在涂覆制程后的减压干燥工序中，将涂布有光刻胶的基板置于密封腔室内，并在密封腔室内抽真空，使得光刻胶溶剂达到饱和蒸汽压快速挥发，挥发汽体进而随气流被抽走，达到初步干燥光刻胶的目的。
[0003]例如，专利CN 103903959A公开了一种减压干燥装置以及减压干燥方法，其为避免压力急剧恢复而生成的液滴影响基板良率，而将排气口设置在下部腔室的侧端。然而在抽真空时，基板上方气流从中间往两侧移动，使得中间区域受气流影响小，导致该区域光刻胶容易发生干燥不足的现象，而降低显影精度，使得产品特征线宽均一性不满足要求，进而影响显示面板的显示效果。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，有必要提供一种光刻胶减压干燥装置，用以解决现有技术中光刻胶容易发生干燥不均匀的技术问题。
[0005]本技术提供一种光刻胶减压干燥装置，该光刻胶减压干燥装置包括：
[0006]箱体，具有干燥腔，所述干燥腔中横设有干燥平台，所述干燥平台用以放置表面涂布有光刻胶的基板，且所述干燥腔相对的两内侧壁分别设有位于所述干燥平台上方的加热结构；以及，
[0007]真空组件，包括设于所述干燥腔外的真空泵、及与所述真空泵相连通的真空管道，所述真空管道远离所述真空泵的一端伸入至所述干燥腔中、并位于所述干燥平台的中部上方。
[0008]可选地，所述干燥平台沿竖直方向间隔设有多个。
[0009]可选地，多个所述干燥平台将所述干燥腔沿竖直方向依次隔断，以形成多个分腔室；
[0010]各所述分腔室相对的两内侧壁分别对应其中的所述干燥平台设有所述加热结构，各所述加热结构设于对应的所述干燥平台的上方；
[0011]所述真空管道包括与所述真空泵相连通的主管道、及多个与所述主管道相连通的支管道，所述主管道位于所述干燥腔外，多个所述支管道与多个所述分腔室一一对应，且各所述支管道远离所述主管道的一端伸入至对应的所述分腔室中，以位于对应的所述干燥平台的中部上方。
[0012]可选地，所述干燥腔设有所述加热结构的内侧壁自上至下沿远离相对的内侧壁的方向倾斜设置。
[0013]可选地，所述干燥腔设有所述加热结构的内侧壁的倾斜角度为α，满足50
°
≤α≤60
°
。
[0014]可选地，所述光刻胶减压干燥装置还包括设于所述干燥腔中的传感器、及与所述传感器电连接并位于所述箱体外的警示灯，所述传感器用以监测所述干燥腔中的温度及湿度。
[0015]可选地，所述箱体还具有位于所述干燥腔下方的安装腔，所述真空泵设于所述安装腔中。
[0016]可选地，所述箱体的底部设有多个滚轮。
[0017]可选地，所述箱体包括主体、及两个呈相对设置的门体，所述干燥腔形成于所述主体，且位于相对的两个所述加热结构之间的两侧呈开口设置，两个所述门体与所述干燥腔的两个开口一一对应设置，其中，各所述门体绕竖直方向上的轴线转动盖设于所述干燥腔对应的开口处。
[0018]可选地，所述干燥平台与所述干燥腔设有所述加热结构的内侧壁中的一个设有滑轨，另一个设有滑槽，所述滑轨与所述滑槽沿所述干燥腔的深度方向延伸设置；和/或，
[0019]所述门体上设有透明视窗。
[0020]与现有技术相比，本技术提供的光刻胶减压干燥装置在使用时，将涂布有光刻胶的基板放置在干燥平台上，由于加热结构设置在干燥腔相对的两侧壁，以将干燥平台夹设在中间，同时真空管道一端位于干燥平台的中部上方。如此，基板两侧的气流向中间流动至真空管道中，基板中部的气流流速相对较快，侧端的气流流速相对较慢，从而使得基板中部的光刻胶溶剂成分在气流带动下蒸发相对侧端较快；同时由于加热结构位于基板的两侧，通过升温使得基板侧端的光刻胶溶剂成分在温度影响下蒸发相对中部较快。从而使得基板中部的光刻胶溶剂成分与侧端的光刻胶溶剂成分，在加热结构与真空管道的配合下能够相对均衡蒸发，也即使得基板上的光刻胶能够均匀干燥。此外，加热结构的设置，也使得悬浮于干燥腔空气中的光刻胶溶剂液滴能够进一步汽化，便于通过真空管道排出，提高溶剂成分蒸发排出效率，避免在复压时干燥腔中出现液滴的情况，进而保证光刻胶干燥质量，以保证显影精度。
[0021]上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如下。本技术的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
[0022]此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0023]图1为本技术提供的光刻胶减压干燥装置第一实施例的结构示意图；
[0024]图2为图1中光刻胶减压干燥装置无门体时的结构示意图；
[0025]图3为图2中的光刻胶减压干燥装置(未示出真空组件)的透视示意图；
[0026]图4为本技术提供的光刻胶减压干燥装置第二实施例的截面示意图；
[0027]图5为图2中A处的放大示意图；
[0028]图6为图2中干燥平台与干燥腔内侧壁的局部截面示意图。
[0029]附图标记说明：
[0030]100
‑
光刻胶减压干燥装置、1
‑
箱体、1a
‑
干燥腔、1a1
‑
分腔室、1a2
‑
滑槽、1b
‑
安装腔、12
‑
干燥平台、121
‑
滑轨、13
‑
加热结构、14
‑
滚轮、15
‑
主体、16
‑
门体、161
‑
透明视窗、2
‑
真空组件、21
‑
真空管道、211
‑
主管道、212
‑
支管道、3
‑
供气管道、4
‑
传感器、5
‑
警示灯。
具体实施方式
[0031]下面结合附图来具体描述本技术的优选实施例，其中，附图构成本申请一部分，并与本技术的实施例一起用于阐释本技术的原理，并非用于限本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶减压干燥装置，其特征在于，其包括：箱体，具有干燥腔，所述干燥腔中横设有干燥平台，所述干燥平台用以放置表面涂布有光刻胶的基板，且所述干燥腔相对的两内侧壁分别设有位于所述干燥平台上方的加热结构；以及，真空组件，包括设于所述干燥腔外的真空泵、及与所述真空泵相连通的真空管道，所述真空管道远离所述真空泵的一端伸入至所述干燥腔中、并位于所述干燥平台的中部上方。2.根据权利要求1所述的光刻胶减压干燥装置，其特征在于，所述干燥平台沿竖直方向间隔设有多个。3.根据权利要求2所述的光刻胶减压干燥装置，其特征在于，多个所述干燥平台将所述干燥腔沿竖直方向依次隔断，以形成多个分腔室；各所述分腔室相对的两内侧壁分别对应其中的所述干燥平台设有所述加热结构，各所述加热结构设于对应的所述干燥平台的上方；所述真空管道包括与所述真空泵相连通的主管道、及多个与所述主管道相连通的支管道，所述主管道位于所述干燥腔外，多个所述支管道与多个所述分腔室一一对应，且各所述支管道远离所述主管道的一端伸入至对应的所述分腔室中，以位于对应的所述干燥平台的中部上方。4.根据权利要求1所述的光刻胶减压干燥装置，其特征在于，所述干燥腔设有所述加热结构的内侧壁自上至下沿远离相对的内侧壁的方向倾斜设置。5.根据权利要求4所述的光刻...

【专利技术属性】
技术研发人员：王志祥，
申请(专利权)人：黄冈斯坦本新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：