一种水钻、平底钻平磨抛光一体机制造技术

本发明专利技术提供一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，用于磨抛附着在工艺板上的水钻、平底钻，包括机架、转盘、旋转机构以及若干组极坐标联动机构、模具底板、磨筒、驱动机构，所述转盘转动连接在机架的中心处，所述旋转机构用于驱动转盘转动，若干磨筒转动连接在机架的外围且呈环形布置，所述驱动机构用于带动磨筒旋转，若干组极坐标联动机构呈环状设置在转盘上且绕其中心等角度分布。磨筒以立式的形式，随着大转盘的极角的角度变化，每个机头上模板的极径配合转盘极角的角度变化而变化，模板按照极坐标在平面内移动，使模板上的工艺板与磨筒始终为直线接触，直线接触使模板上的各个水钻、平底钻为同一平面，磨抛出的水钻、平底钻质量较为统一。统一。统一。

【技术实现步骤摘要】
一种水钻、平底钻平磨抛光一体机


[0001]本专利技术涉及水钻、平底钻磨抛
，具体为一种水钻、平底钻平磨抛光一体机。

技术介绍

[0002]水钻、平底钻是一种俗称，其主要成分是水晶玻璃，是将人造水晶玻璃切割成钻石刻面得到的一种饰品辅件，这种材质因为较经济，同时视觉效果上又有钻石般的夺目感觉，因此很受人们的欢迎。
[0003]传统的水钻、平底钻磨抛加工步骤基本都为：上料、粘胶、打磨、抛光、换面、再打磨、再抛光、下料。而打磨、抛光市场上常常采用平面磨抛的方式，如中国专利公开号为CN211388190U的一种新型旋转八工位水晶加工平面磨抛机，包括“机架，所述机架上安装有承载机身，所述承载机身上面通过回转支承安装有工位旋转体，所述工位旋转体上安装有机头，所述承载机身上面安装有磨抛盘，所述磨抛盘上连接有电机，所述机头上安装有套盘
……”
[0004]但是，诸如上述的平面磨抛方式存在多个问题，第一，这种方式主要是将上下两个圆盘端面相互接触，上下两个圆盘其中一个为高速旋转的磨抛盘，另一个圆盘为装着被磨抛水钻的夹具，作低速回转，两者相对运动这样来完成一个工位的磨抛，由于是圆盘端面相互接触，水钻磨削时各点的线速度不一致，使磨抛出的水钻质量很难完全统一。第二，水钻粘着的面板为方形，而水钻磨面为圆形，这就导致方形面板的四个角上无法排布水钻，造成面板四个角的资源浪费，产量低。第三，上下两个圆盘端面相互接触的接触面大，摩擦力较大，比较费电。

技术实现思路

[0005](一)解决的技术问题
[0006]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，解决了上述
技术介绍
中提出的问题。
[0007](二)技术方案
[0008]为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，用于磨抛附着在工艺板上的水钻、平底钻，包括机架、转盘、旋转机构以及若干组极坐标联动机构、模具底板、磨筒、驱动机构，所述转盘转动连接在机架的中心处，所述旋转机构用于驱动转盘转动，若干磨筒立式转动连接在机架的外围且呈环形布置，所述驱动机构用于带动磨筒旋转，若干组极坐标联动机构呈环状设置在转盘上且绕其中心等角度分布，所述极坐标联动机构包括固定底座、横移组件、横移座以及竖移组件，所述固定底座固定在转盘上，所述横移组件设置在固定底座上且可带动横移座沿着转盘的径向方向往复式移动，所述竖移组件设置在横移座上且可带动模具底板竖向往复式移动，所述工艺板套设在模具底板上且与外围的磨筒相对应。
[0009]优选的，所述工艺板和模具底板均为方形，所述模具底板上设置有用于套设固定工艺板的方形模板。
[0010]优选的，所述工艺板包括方形面板以及沿着方形面板外围设置的固定翻边，所述方形面板通过固定翻边套在模板上，所述方形面板上开设有致密的用于嵌入水钻的水钻嵌入孔。
[0011]优选的，所述旋转机构为环齿、齿轮与旋转电机，所述环齿固定在机架上且与转盘同圆心，所述齿轮枢接在转盘上且与环齿啮合，所述旋转电机设置在转盘上且与齿轮相连。
[0012]优选的，所述旋转机构为蜗杆、蜗轮以及蜗杆电机，所述蜗杆的两端通过蜗杆支架横向转动设置在机架上，所述蜗杆电机与蜗杆同轴相连，所述蜗轮设置在转盘的底部且与其同圆心布置，所述蜗杆与蜗轮啮合。
[0013]优选的，所述磨筒的数量至少比极坐标联动机构、模具底板少一个，所述机架上位于缺少的磨筒工位处为上料口。
[0014]优选的，所述驱动机构包括驱动电机、驱动皮带轮、从动皮带轮、磨筒架，所述磨筒架固定在机架上，所述磨筒的上下两端通过轴承转动连接在磨筒架上，所述从动皮带轮与磨筒同轴相连，所述驱动电机固定在磨筒架上，所述驱动皮带轮与驱动电机的输出轴同轴相连，所述驱动皮带轮与从动皮带轮通过皮带传动连接。
[0015]优选的，所述横移组件和竖移组件为丝杆导轨模组。
[0016](三)有益效果
[0017]本专利技术提供了一种水钻、平底钻平磨抛光一体机。具备以下有益效果：
[0018]1、该水钻、平底钻平磨抛光一体机，磨筒以立式的形式，随着大转盘的极角的角度变化，每个机头上模具底板的极径配合转盘极角的角度变化而变化，模具底板按照极坐标在平面内移动，使模具底板上的工艺板与磨筒始终为直线接触，直线接触使模具底板上的各个水钻为同一平面，磨筒的接触时间、磨抛速度一致，磨抛出的水钻、平底钻质量较为统一。
[0019]2、该水钻、平底钻平磨抛光一体机，通过将模板设置成方形，可以在原先的工艺方板的面板上布满水钻，改变了传统水钻的工艺圆板排列四个角的原材料浪费和产量低，实现了方形排版高产量和低浪费。
[0020]3、该水钻、平底钻平磨抛光一体机，采用模板与磨筒的线接触磨抛，两者的接触面积小能大大降低摩擦力，能大大降低电能的损耗，符合现阶段“碳中和”理论。
附图说明
[0021]图1为本专利技术的轴测图；
[0022]图2为本专利技术的旋转机构实施例一示意图；
[0023]图3为本专利技术的极坐标联动机构示意图；
[0024]图4为本专利技术的模具底板与磨筒对应示意图；
[0025]图5为本专利技术的平面俯剖示意图；
[0026]图6为本专利技术的工艺板示意图；
[0027]图7为本专利技术的工艺板与模板对应图；
[0028]图8为本专利技术的旋转机构实施例二示意图。
[0029]图中：1机架、2转盘、3旋转机构、4极坐标联动机构、5模具底板、6磨筒、7驱动机构、8工艺板、81方形面板、82水钻嵌入孔、83固定翻边、31环齿、32齿轮、33旋转电机、34蜗杆、35蜗轮、36蜗杆电机、41固定底座、42横移组件、43横移座、44竖移组件、71驱动电机、72驱动皮带轮、73从动皮带轮、74皮带、75磨筒架、9上料口、10模板、11容置孔。
具体实施方式
[0030]本专利技术实施例提供一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，如图1
‑
8所示，用于磨抛附着在工艺板8上的水钻、平底钻，包括机架1、转盘2、旋转机构3以及若干组极坐标联动机构4、模具底板5、磨筒6、驱动机构7。
[0031]如图1所示，转盘2转动连接在机架1的中心处，旋转机构3用于驱动转盘2转动。
[0032]旋转机构3有多种实施例。
[0033]旋转机构3的实施例一，如图2所示，旋转机构3为环齿31、齿轮32与旋转电机33，环齿31固定在机架1上且与转盘2同圆心，齿轮32枢接在转盘2上且与环齿31啮合，旋转电机33设置在转盘2上且与齿轮32相连。当旋转电机33启动带动齿轮32转动时，齿轮32沿着环齿31环向移动从而带动转盘2转动。
[0034]旋转机构3的实施例二，如图8所示，旋转机构3为蜗杆34、蜗轮35以及蜗杆电机36，蜗杆34的两端通过蜗杆支架横向转动设置在机架1上，蜗杆电机36与蜗杆34同轴相连，蜗轮35设置在转盘2的底部且与其同圆心布置，蜗杆34与蜗轮35啮合。利用蜗杆34本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，用于磨抛附着在工艺板(8)上的水钻，其特征在于：包括机架(1)、转盘(2)、旋转机构(3)以及若干组极坐标联动机构(4)、模具底板(5)、磨筒(6)、驱动机构(7)，所述转盘(2)转动连接在机架(1)的中心处，所述旋转机构(3)用于驱动转盘(2)转动，若干磨筒(6)立式转动连接在机架(1)的外围且呈环形布置，所述驱动机构(7)用于带动磨筒(6)旋转，若干组极坐标联动机构(4)呈环状设置在转盘(2)上且绕其中心等角度分布，所述极坐标联动机构(4)包括固定底座(41)、横移组件(42)、横移座(43)以及竖移组件(44)，所述固定底座(41)固定在转盘(2)上，所述横移组件(42)设置在固定底座(41)上且可带动横移座(43)沿着转盘(2)的径向方向往复式移动，所述竖移组件(44)设置在横移座(43)上且可带动模具底板(5)竖向往复式移动，所述工艺板(8)套设在模具底板(5)上且与外围的磨筒(6)相对应。2.根据权利要求1所述的一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，其特征在于：所述工艺板(8)和模具底板(5)均为方形，所述模具底板(5)上设置有用于套设固定工艺板(8)的方形模板(10)。3.根据权利要求2所述的一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，其特征在于：所述工艺板(8)包括方形面板(81)以及沿着方形面板(81)外围设置的固定翻边(83)，所述方形面板(81)通过固定翻边(83)套在模板(10)上，所述方形面板(81)上开设有致密的用于嵌入水钻的水钻嵌入孔(82)。4.根据权利要求1所述的一种水钻、平底钻平磨抛光一体机，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：于志敏，
申请(专利权)人：浦江县实一水晶机械厂，
类型：发明
国别省市：