一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，包括：装夹，用于放置晶圆；调节部，与装夹连接；所述调节部包括连接件，用于连接装夹；调整件，与连接件连接，至少设置三组且呈等间距分布，使装夹在既定区域内调整角度，完成晶圆的均匀辐照；底架，用于放置调整件。本实用新型专利技术通过设计设计至少三组且呈等间距分布的调整件，使装夹在既定区域内调整角度，进而完成晶圆的辐照角度调整，进而使得晶圆接收辐照时，与束流入射角度匹配，使得晶圆辐照更加均匀。辐照更加均匀。辐照更加均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统


[0001]本技术涉及晶圆辐照领域，具体是一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。
[0003]现有的晶圆在进行质子辐照的时候一般都在束流出口的上端设有一个扫描磁铁，通过改变扫描磁铁的输入电流，来调节束流的角度，然而在束流入射角度调整后，晶圆未及时调整角度，进而造成晶圆辐照不够均匀。

技术实现思路

[0004]技术目的：提供一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，以解决现有技术存在的上述问题。
[0005]技术方案：一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，包括：
[0006]装夹，用于放置晶圆；
[0007]调节部，与装夹连接；
[0008]所述调节部包括连接件，用于连接装夹；
[0009]调整件，与连接件连接，至少设置三组且呈等间距分布，使装夹在既定区域内调整角度，完成晶圆的均匀辐照；
[0010]底架，用于放置调整件。
[0011]本技术通过设计设计至少三组且呈等间距分布的调整件，使装夹在既定区域内调整角度，进而完成晶圆的辐照角度调整，进而使得晶圆接收辐照时，与束流入射角度匹配，使得晶圆辐照更加均匀。
[0012]在进一步实施例中，所述装夹包括收纳壳；
[0013]所述收纳壳内开有凹槽，所述凹槽与晶圆适配，用于放置晶圆；
[0014]所述凹槽内开有若干通孔。
[0015]在进一步实施例中，所述调整件包括调整架，安装在所述调整架上的调整电机，设置在所述调整电机输出端的调整输入轴，套接于所述调整输入轴的输入齿轮，与所述输入齿轮啮合的调整齿轮，插接于所述调整齿轮且设置在所述调整架内的调整丝杆，套接于所述调整丝杆且与所述调整架滑动连接的调整滑块，以及与所述调整滑块铰接的调整轴。
[0016]在进一步实施例中，所述调整轴的端部设有万向节。
[0017]在进一步实施例中，所述万向节与连接件连接；设计万向节，使得调整角度时，避免些许角度无法调整现象。
[0018]整个调节系统均选取在质子辐照环境里面不易活化材料制成，这样可以多次重复使用，从而降低了使用成本。
[0019]所述调整架安装在底架上。
[0020]束流辐照过程，主要包括束流管道，偏转磁体，偏转检测器组成，所述偏转检测器与控制终端连通，调节系统与控制终端连通，通过控制终端接通偏转检测器检测束流入射角度，进而控制调节系统，使得晶圆与束流适配。
[0021]束流通过束流管道进入，经过偏转磁体改变输入电流，来调节束流的入射角度，通过偏转检测器检测入射角度数值，进而搭配调节部完成对晶圆的角度调整，使得晶圆的辐照更为均匀。
[0022]入射角度的改变，主要可以根据不同的工艺进行质子辐照阶段对束流入射角度的选择。
[0023]有益效果：本技术公开了一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，本技术通过设计设计至少三组且呈等间距分布的调整件，使装夹在既定区域内调整角度，进而完成晶圆的辐照角度调整，进而使得晶圆接收辐照时，与束流入射角度匹配，使得晶圆辐照更加均匀。
附图说明
[0024]图1是本晶圆质子辐照状态示意图。
[0025]图2是技术的调节系统示意图。
[0026]图3是技术的装夹示意图。
[0027]图4是技术的调整件示意图。
[0028]附图标记为：
[0029]1、装夹；11、晶圆；12、收纳壳；13、凹槽；14、通孔；
[0030]2、连接件；3、调整件；31、调整架；32、调整电机；33、输入齿轮；34、调整输入轴；35、调整丝杆；36、调整齿轮；37、调整滑块；38、调整轴；39、万向节；4、底架。
具体实施方式
[0031]本申请涉及一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，下面通过具体实施方式进行详细解释。
[0032]一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，包括：
[0033]装夹1，用于放置晶圆11；
[0034]调节部，与装夹1连接；
[0035]所述调节部包括连接件2，用于连接装夹1；
[0036]所述连接件2可以为环状或者其他形状，只要可以将装夹1固定上即可。
[0037]调整件3，与连接件2连接，至少设置三组且呈等间距分布，使装夹1在既定区域内调整角度，完成晶圆11的均匀辐照；
[0038]底架4，用于放置调整件3。
[0039]本技术通过设计设计至少三组且呈等间距分布的调整件3，使装夹1在既定区域内调整角度，进而完成晶圆11的辐照角度调整，进而使得晶圆11接收辐照时，与束流入射角度匹配，使得晶圆11辐照更加均匀。
[0040]通过至少三组且呈等间距分布的调整件3协同工作，使得晶圆11在既定区域内任
意角度的调整工作。
[0041]所述装夹1包括收纳壳12；
[0042]所述收纳壳12内开有凹槽13，所述凹槽13与晶圆11适配，用于放置晶圆11；
[0043]所述凹槽13内开有若干通孔14。
[0044]所述调整件3包括调整架31，安装在所述调整架31上的调整电机32，设置在所述调整电机32输出端的调整输入轴34，套接于所述调整输入轴34的输入齿轮33，与所述输入齿轮33啮合的调整齿轮36，插接于所述调整齿轮36且设置在所述调整架31内的调整丝杆35，套接于所述调整丝杆35且与所述调整架31滑动连接的调整滑块37，以及与所述调整滑块37铰接的调整轴38。
[0045]所述调整轴38的端部设有万向节39。
[0046]所述万向节39与连接件2连接；设计万向节39，使得调整角度时，避免些许角度无法调整现象。
[0047]整个调节系统均选取在质子辐照环境里面不易活化材料制成，这样可以多次重复使用，从而降低了使用成本。
[0048]所述调整架31安装在底架4上。
[0049]束流辐照过程，主要包括束流管道，偏转磁体，偏转检测器组成，所述偏转检测器与控制终端连通，调节系统与控制终端连通，通过控制终端接通偏转检测器检测束流入射角度，进而控制调节系统，使得晶圆11与束流适配。
[0050]束流通过束流管道进入，经过偏转磁体改变输入电流，来调节束流的入射角度，通过偏转检测器检测入射角度数值，进而搭配调节部完成对晶圆11的角度调整，使得晶圆11的辐照更为均匀。
[0051]工作原理说明：通过调整电机32带动调整输入轴34转动，使得输入齿轮33转动，进而带动调整齿轮36转动，驱动调整丝杆35转动，使得调整滑块37沿着调整架31升降，进而带动调整轴38运动，进而带动万象节运动，使得连接件2摆动，通过至少三组调整件3协同工作，使得连接件2在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，包括：装夹(1)，用于放置晶圆(11)；调节部，与装夹(1)连接；其特征在于，所述调节部包括连接件(2)，用于连接装夹(1)；调整件(3)，与连接件(2)连接，至少设置三组且呈等间距分布，使装夹(1)在既定区域内调整角度，完成晶圆(11)的均匀辐照；底架(4)，用于放置调整件(3)。2.根据权利要求1所述的一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，其特征是：所述装夹(1)包括收纳壳(12)；所述收纳壳(12)内开有凹槽(13)，所述凹槽(13)与晶圆(11)适配，用于放置晶圆(11)；所述凹槽(13)内开有若干通孔(14)。3.根据权利要求1所述的一种晶圆质子辐照用晶圆角度调节系统，其特征是：所述调整件(3)包括调整架(31)...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯斌，于天华，李笑，朱晓桦，张政，王泊锡，王孝宇，姜桂林，
申请(专利权)人：无锡市核力创芯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：