定位机构及功率管的散热装置制造方法及图纸

本申请提供了一种定位机构及功率管的散热装置，定位机构用于定位安装陶瓷基片，其包括定位架，定位架开设有若干个定位空间；定位空间与陶瓷基片相匹配，定位空间用于容纳陶瓷基片。应用时，陶瓷基片安装于定位空间对应的位置，定位空间与陶瓷基片相匹配，定位架抵接陶瓷基片的侧面，对陶瓷基片具有限制作用，使陶瓷基片在使用过程中不容易脱离原安装位置，与现有技术相比，本申请定位机构可准确定位安装陶瓷基片，减少因安装位置不准确而影响散热效果，并且对陶瓷基片具有限制作用，防止陶瓷基片在使用过程中因震动而移位的问题，提高了陶瓷基片与功率管之间的绝缘及传热稳定性，进而提高了绝缘性能及散热效果。而提高了绝缘性能及散热效果。而提高了绝缘性能及散热效果。

【技术实现步骤摘要】
定位机构及功率管的散热装置


[0001]本申请属于功率管散热配件
，更具体地说，是涉及一种定位机构及功率管的散热装置。

技术介绍

[0002]在电子电工领域中，大功率晶体管通常被称为功率管，其包括但不限于IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor绝缘栅双极型晶体管)、二极管、MOS管(Metal
‑
Oxide
‑
Semiconductor Field
‑
Effect Transistor金属
‑
氧化物半导体场效应晶体管)等。功率管在工作过程中会产生较大的热量，这些热量需要及时散发掉才能保证功率管持续可靠的运行。
[0003]目前功率管的散热一般采用在功率管和散热器之间放置导热胶布或陶瓷基片进行绝缘及传热，但是导热胶布的散热系数低，导致散热效率低，散热效果不理想；陶瓷基片的散热系数比导热胶布的散热系数高，散热效果比导热胶布好，但陶瓷基片的安装不稳定，会发生移位，或组装时安装位置不准确，致使陶瓷基片与功率管位置不对应，功率管与陶瓷基片之间的绝缘及传热不佳，影响安规和散热效果。

技术实现思路

[0004]本申请目的在于提供一种定位机构，以解决现有技术中存在的陶瓷基片安装不稳定，导致绝缘及散热效果不佳的技术问题。
[0005]本申请还提供了一种功率管的散热装置，含有上述定位机构，可稳定安装陶瓷基片，提高散热效果。
[0006]为实现上述目的，本申请采用的技术方案是：提供一种定位机构，用于定位安装陶瓷基片，定位机构包括定位架，定位架开设有若干个定位空间；定位空间与陶瓷基片相匹配，定位空间用于容纳陶瓷基片。
[0007]可选地，定位架包括若干定位柱，相邻的两个定位柱之间间隔设置，并且相邻的两个定位柱之间构成定位空间。
[0008]可选地，定位机构还包括支架，支架与定位架弯折连接，定位架沿支架的其中一侧延伸，支架包括依次连接的第一侧边、第二侧边和第三侧边，并且第一侧边与第三侧边为相对设置，多个定位柱分布于第一侧边、第二侧边和第三侧边，多个定位柱将支架的中间部分围成容纳空间。
[0009]可选地，定位柱一端与支架连接，相邻两个定位柱的另一端之间间隔形成有开口。
[0010]可选地，定位机构设有定位连接结构。
[0011]可选地，定位连接结构为柱孔或者为柱状凸起。
[0012]一种功率管的散热装置，包括：
[0013]散热器，散热器包括支撑台；
[0014]陶瓷基片；以及
[0015]如上述任一所述的定位机构，支架连接支撑台，定位架的内侧抵接支撑台的外周，支撑台对应定位空间的区域形成安装区域，陶瓷基片安装于安装区域。
[0016]可选地，支撑台包括台体及凸边，凸边连接台体的一端，凸边突出于台体的外表面，与台体之间构成台阶；定位架的内侧抵接台体的侧面，安装区域位于台体的侧面；陶瓷基片远离定位架的一端抵接凸边。
[0017]可选地，定位机构设有定位连接结构，散热器设有与定位连接结构配合使用的散热连接结构。
[0018]可选地，陶瓷基片为四边形结构，定位空间与陶瓷基片的形状结构相同。
[0019]1、本申请提供的定位机构，可应用于功率管的散热装置，用于定位安装陶瓷基片，应用时，陶瓷基片安装于定位空间对应的位置，定位空间与陶瓷基片相匹配，则陶瓷基片恰好可以安装于定位空间中，定位架抵接陶瓷基片的侧面，对陶瓷基片具有限制作用，使陶瓷基片在使用过程中不容易脱离原安装位置，与现有技术相比，本申请定位机构，可准确定位安装陶瓷基片，减少因安装位置不准确而影响散热效果，并且对陶瓷基片具有限制作用，防止陶瓷基片在使用过程中因震动而移位的问题，提高了陶瓷基片与功率管之间的绝缘及传热稳定性，进而提高了绝缘性能及散热效果；
[0020]2、本申请提供的功率管的散热装置，散热器上设定了准确的陶瓷基片安装区域，与定位机构配合使用，定位架抵接支撑台的侧面，支撑台对应定位空间裸露于外作为陶瓷基片的安装区域，即通过确定定位空间的位置来确定安装区域的位置，使陶瓷基片可准确、稳定地安装在预设位置，采用陶瓷基片作为散热片，陶瓷基片具有绝缘性及散热系数高，提高了功率管的绝缘效果及散热效果。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]图1为本申请实施例提供的功率管的散热装置的结构示意图；
[0023]图2为图1功率管的散热装置中省略陶瓷基片后的结构示意图；
[0024]图3为图1功率管的散热装置中的散热器的结构示意图；
[0025]图4为图1功率管的散热装置中的定位机构的结构示意图一；
[0026]图5为图1功率管的散热装置的应用示意图；
[0027]图6为实施例1的功率管的散热装置的应用示意图；
[0028]图7为图6功率管的散热装置中的定位机构的结构示意图；
[0029]图8为图6功率管的散热装置中的陶瓷基片的结构示意图。
[0030]其中，图中各附图标记：
[0031]10、功率管的散热装置；
[0032]20、散热器；21、支撑台；211、台体；212、凸边；22、安装区域；23、基板；24、散热连接结构；
[0033]30、陶瓷基片；
[0034]40、定位机构；41、支架；42、定位架；421、定位柱；43、定位空间；44、定位连接结构；
[0035]500、功率管。
具体实施方式
[0036]为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0037]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0038]需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0039]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种定位机构，用于定位安装陶瓷基片，其特征在于：所述定位机构包括定位架，所述定位架开设有若干个定位空间；所述定位空间与所述陶瓷基片相匹配，所述陶瓷基片设置在所述定位空间。2.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于：所述定位架包括若干定位柱，相邻的两个定位柱之间间隔设置，且相邻的两个所述定位柱之间构成所述定位空间。3.如权利要求2所述的定位机构，其特征在于：所述定位机构还包括支架，所述支架与所述定位架弯折连接，所述定位架沿所述支架的其中一侧延伸，所述支架包括依次连接的第一侧边、第二侧边和第三侧边，并且所述第一侧边与所述第三侧边为相对设置，多个所述定位柱分布于所述第一侧边、第二侧边和第三侧边，多个所述定位柱将所述支架的中间部分围成容纳空间。4.如权利要求3所述的定位机构，其特征在于：所述定位柱一端与所述支架连接，相邻两个所述定位柱的另一端之间间隔形成有开口。5.如权利要求1所述的定位机构，其特征在于：所述定位机构设有定位连接结构。6.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：张涛，陈脱颖，
申请(专利权)人：西安领充创享新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：