一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法技术

本发明专利技术公开了一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，包括以下步骤：将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与还原剂、纯水混合进行返溶反应，得到含二价钴的溶液；所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与所述还原剂的摩尔比为1：40

【技术实现步骤摘要】
一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法


[0001]本专利技术属于四氧化三钴生产
，具体涉及一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法。

技术介绍

[0002]羟基钴是四氧化三钴生产过程中的中间品，由氯化钴与液碱合成，并鼓入空气生成。四氧化三钴的生产，受到工艺、环境、设备、质量等原因制约，产生了较多羟基钴残次品，因此需要对羟基钴进行返溶处理。
[0003]羟基钴的常规返溶措施，是将物料在一定温度、一定酸度的条件下，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来。由于该反应缓慢，导致大量物料积压，对企业形成较大负担。因此需要找到一种新工艺，缩短反应周期，加快物料反应速度。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中的问题，本专利技术提供一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，该方法能够极大地提高反应效率，使羟基钴的反应时间缩短92％左右，进而减少了物料积压现象。
[0005]本专利技术采用以下技术方案：
[0006]一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与还原剂、纯水混合进行返溶反应，得到含二价钴的溶液；所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与所述还原剂的摩尔比为1：40
‑
50，所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与纯水的固液比为1：3
‑
5；所述返溶反应的工艺条件为：反应温度为80℃
‑
100℃、反应pH为0.5/>‑
0.8。
[0007]根据上述的四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，其特征在于，所述还原剂为焦亚硫酸钠、SO2、H2O2中的一种。
[0008]根据上述的四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，其特征在于，所述返溶反应的反应温度为80℃
‑
90℃。
[0009]根据上述的四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，其特征在于，所述返溶反应的反应时间为5h
‑
8h。
[0010]本专利技术的有益技术效果：本专利技术方法采用特定的反应温度、反应pH，并且限定了还原剂的加入量，使四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的反应时间缩短了92％左右，极大地提高了反应效率，减少了物料积压。
具体实施方式
[0011]本专利技术的一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，包括以下步骤：将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与还原剂、纯水混合进行返溶反应，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来，得到含二价钴的溶液；四氧化三钴生产过程的中间品羟基
钴与还原剂的摩尔比为1：40
‑
50，四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴(kg)与纯水(L)的固液比为1：3
‑
5；返溶反应的工艺条件为：反应温度为80℃
‑
100℃、反应pH为0.5
‑
0.8、反应时间为5h
‑
8h；优选的，返溶反应的反应温度为80℃
‑
90℃。还原剂为焦亚硫酸钠、SO2、H2O2中的一种。
[0012]下面通过实施例对本专利技术的技术方案进行进一步的解释说明。
[0013]实施例1
[0014]将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与焦亚硫酸钠、纯水混合进行返溶反应，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来，得到含二价钴的溶液。四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与焦亚硫酸钠的摩尔比为1：40，四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴(kg)与纯水(L)的固液比为1：3；返溶反应的工艺条件为：反应温度为80℃、反应pH为0.5、反应时间为5h。
[0015]实施例2
[0016]将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与SO2、纯水混合进行返溶反应，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来，得到含二价钴的溶液。四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与SO2的摩尔比为1：42，四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴(kg)与纯水(L)的固液比为1：4；返溶反应的工艺条件为：反应温度为85℃、反应pH为0.6、反应时间为6h。
[0017]实施例3
[0018]将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与H2O2、纯水混合进行返溶反应，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来，得到含二价钴的溶液。四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与H2O2的摩尔比为1：48，四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴(kg)与纯水(L)的固液比为1：4.5；返溶反应的工艺条件为：反应温度为95℃、反应pH为0.7、反应时间为7h。
[0019]实施例4
[0020]将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与焦亚硫酸钠、纯水混合进行返溶反应，使羟基钴中的三价钴变为二价钴溶解出来，得到含二价钴的溶液。四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与焦亚硫酸钠的摩尔比为1：50，四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴(kg)与纯水(L)的固液比为1：5；返溶反应的工艺条件为：反应温度为100℃、反应pH为0.8、反应时间为8h。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴的返溶处理方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：将四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与还原剂、纯水混合进行返溶反应，得到含二价钴的溶液；所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与所述还原剂的摩尔比为1：40
‑
50，所述四氧化三钴生产过程的中间品羟基钴与纯水的固液比为1：3
‑
5；所述返溶反应的工艺条件为：反应温度为80℃
‑
100℃、反应pH为0.5

【专利技术属性】
技术研发人员：毕凡，许开华，李炳忠，卢重阳，朱丹丹，陈应红，
申请(专利权)人：格林美江苏钴业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：