电浆制程系统的基板夹持拉撑机构技术方案

本实用新型专利技术为一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其设于真空电浆制程腔体内，本实用新型专利技术包括加工平台、夹持装置及拉撑装置。加工平台用以承放待制程基板，加工平台边缘设有水平位移区；夹持装置设于水平位移区，夹持装置具有相互枢接的上夹持件及下夹持件，下夹持件相对加工平台于初始位置及拉撑位置之间水平位移，上夹持件相对初始位置以及拉撑位置而分别具有开启状态以及夹持状态；拉撑装置设于夹持装置远离待制程基板一侧，拉撑装置具有一与夹持装置连接的配重件，配重件利用垂直方向的悬吊，常态将夹持装置往拉撑位置的方向迫紧。紧。紧。

【技术实现步骤摘要】
电浆制程系统的基板夹持拉撑机构


[0001]本技术有关一种夹持拉撑机构，特别是指一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构。

技术介绍

[0002]一般的半导体产业，在晶片及电路载板的制作过程中，需要对待制程物进行表面清洁、蚀刻处理等制程，除了利用一般熟知的干蚀刻、湿蚀刻技术之外，电浆制程技术亦在半导体及电路板产业占有一席之地。
[0003]其中，于电浆制程中，由于电路载板会因为热因素而发生翘曲的情况，因此电路载板通常都是通过夹持装置固定于电浆制程腔体内，以防止电路载板产生翘曲。然而，传统的夹持装置，其夹持跟拉撑是连动的动作，因此容易发生夹持过紧无法拉开的情况，或是拉撑力道大于夹持力道而产生滑移问题，使得电路载板并无法确实的被固定于电浆制程腔体内，电路载板仍然会产生翘曲的情况，进而导致电路载板的制程良率下降的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的，在于解决以往夹持装置无法使电路载板确实的达到夹持及拉撑的效果，而使电路载板仍然会产生翘曲问题。
[0005]为达上述目的，本技术一项实施例提供一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其设于一真空电浆制程腔体内，基板夹持拉撑机构包括一加工平台、一夹持装置及一拉撑装置。加工平台用以承放一待制程基板，并具有一设于加工平台边缘的水平位移区；夹持装置设于水平位移区，夹持装置具有相互枢接的一上夹持件以及一下夹持件，上夹持件具有一上夹持端以及一上枢接端，下夹持件则具有相对设置的一下夹持端以及一下枢接端，下夹持件相邻于水平位移区，并相对加工平台于一初始位置及一拉撑位置之间水平位移，上夹持件相对初始位置以及拉撑位置而分别具有一开启状态以及一夹持状态；拉撑装置设于夹持装置远离待制程基板一侧，拉撑装置具有一与夹持装置连接的配重件，配重件利用垂直方向的悬吊，常态将夹持装置往拉撑位置的方向迫紧；于开启状态时，上夹持端远离下夹持端；于夹持状态时，上夹持端靠近下夹持端而夹持待制程基板。
[0006]于本技术另一实施例中，下夹持件还包括一设于下夹持端以及下枢接端之间并贯穿下夹持件的穿孔，一顶撑装置设于下夹持件远离上夹持件的一侧，并于开启状态时，穿过穿孔以顶撑上夹持件，而使上夹持端远离下夹持端。
[0007]于本技术另一实施例中，下夹持件还具有一设于穿孔内的顶撑斜面，下夹持件由于顶撑装置以垂直方向推顶顶撑斜面，而使下夹持件由拉撑位置进行水平位移至初始位置，并且顶撑装置进一步的穿过穿孔顶撑上夹持件，而使上夹持件处于开启状态。
[0008]于本技术另一实施例中，夹持装置具有一复位件，其常态迫紧上夹持件与下夹持件。
[0009]于本技术另一实施例中，上夹持端具有一上压掣件，下夹持端对应上压掣件
具有一下压掣件，当上夹持件于夹持状态时，上压掣件及下压掣件相互靠近而夹持待制程基板。
[0010]于本技术另一实施例中，顶撑装置具有一与顶撑斜面接触的顶撑轮。
[0011]于本技术另一实施例中，加工平台具有一滑轨，滑轨设于水平位移区，下夹持件设有一滑槽，滑槽对应滑设于滑轨，以供下夹持件能够相对加工平台于初始位置及拉撑位置之间水平位移。
[0012]于本技术另一实施例中，加工平台为方形，基板夹持拉撑机构具有两组，并设置于加工平台相邻的两边；加工平台的另外两边则对应设置两组固夹机构，以固定位置对待制程基板进行夹持。
[0013]于本技术另一实施例中，加工平台具有一抵挡件，抵挡件设于水平位移区远离待制程基板的一侧，抵挡件能够限制下夹持件定位于拉撑位置。
[0014]于本技术另一实施例中，拉撑装置具有一连接件与一转向轮，连接件的一端连接夹持装置，连接件的另一端绕过转向轮后与配重件连接，转向轮改变连接件与配重件的连接方向，而使配重件进行垂直方向的位移。
[0015]借此，本技术将夹持装置以及拉撑装置分开，利用夹持装置将待制程基板夹持定位，并利用拉撑装置同步的对待制程基板进行拉撑动作，以使待制程基板能够被确实的固定于电浆制程腔体中，并避免待制程基板产生翘曲。
附图说明
[0016]图1为本技术实施例的立体示意图；
[0017]图2为图1的A
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A剖面线所取的剖面示意图，用以表示夹持装置于拉撑位置，且上夹持件于夹持状态；
[0018]图3为图2中A处的放大图；
[0019]图4为图1的A
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A剖面线所取的剖面示意图，用以表示夹持装置于初始位置，且上夹持件于开启状态；
[0020]图5为图4中A处的放大图；
[0021]图6为图1的B
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B剖面线所取的剖面示意图，用以表示复位件常态迫紧上夹持件及下夹持件；
[0022]图7为图6中A处的放大图；
[0023]图8为图1的C
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C剖面线所取的剖面示意图，用以表示配重件常态性将夹持装置往拉撑位置的方向迫紧；
[0024]图9为图8的A处的放大图；
[0025]图10为图1的C
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C剖面线所取的剖面示意图，用以表示夹持装置从拉撑位置位移至初始位置时，配重件会向上垂直位移；
[0026]图11为图10的A处的放大图；
[0027]图12为图1的D
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D剖面线所取的剖面示意图，用以表示滑轨设于水平位移区；
[0028]图13为图12的A处的放大图；
[0029]图14为图1的E
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E剖面线所取的剖面示意图，用以表示滑槽与滑轨相互卡接；
[0030]图15为图14的A处的放大图。
[0031]附图标记说明
[0032]100:基板夹持拉撑机构； 200:待制程基板；
[0033]10:加工平台；
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11:水平位移区；
[0034]12:抵挡件；
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13:滑轨；
[0035]20:夹持装置；
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21:上夹持件；
[0036]211:上夹持端；
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212:上枢接端；
[0037]213:上横杆；
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214:上压掣件；
[0038]22:下夹持件；
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221:下夹持端；
[0039]222:下枢接端；
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223:下横杆；
[0040]224:穿孔；
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225:顶撑斜面；
[0041]226:滑槽；
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227:下压掣件；
[0042]23:复位件；
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30:拉撑装置；
[0043]31:配重件；
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32:连接件；<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其特征在于，该基板夹持拉撑机构设于一真空电浆制程腔体内，该基板夹持拉撑机构包括：一加工平台，其用以承放一待制程基板，并具有一设于该加工平台边缘的水平位移区；一设于该水平位移区的夹持装置，其具有相互枢接的一上夹持件以及一下夹持件，该上夹持件具有一上夹持端以及一上枢接端，该下夹持件则具有相对设置的一下夹持端以及一下枢接端，该下夹持件相邻于该水平位移区，并相对该加工平台于一初始位置及一拉撑位置之间水平位移，该上夹持件相对该初始位置以及该拉撑位置而分别具有一开启状态以及一夹持状态；以及一设于该夹持装置远离该待制程基板一侧的拉撑装置，该拉撑装置具有一与该夹持装置连接的配重件，该配重件利用垂直方向的悬吊，常态将该夹持装置往该拉撑位置的方向迫紧于该开启状态时，该上夹持端远离该下夹持端；于该夹持状态时，该上夹持端靠近该下夹持端而夹持该待制程基板。2.如权利要求1所述的电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其特征在于，该下夹持件还包括一设于该下夹持端以及该下枢接端之间并贯穿该下夹持件的穿孔，一顶撑装置设于该下夹持件远离该上夹持件的一侧，并于该开启状态时，穿过该穿孔以顶撑该上夹持件，而使该上夹持端远离该下夹持端。3.如权利要求2所述的电浆制程系统的基板夹持拉撑机构，其特征在于，该下夹持件还具有一设于该穿孔内的顶撑斜面，该下夹持件由于该顶撑装置以垂直方向推顶该顶撑斜面，而使该下夹持件由该拉撑位置进行水平位移至该初始位置，并且该顶撑装置进一步的穿过该穿孔顶撑该上夹持件，而使该上夹持件处于该开启状态。4.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：李原吉，刘品均，杨峻杰，蔡明展，卢志铭，
申请(专利权)人：友威科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：