一种微波光氧化恶臭气体处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种微波光氧化恶臭气体处理装置，包括水箱，注水机构、气体处理仓和水位控制机构,所述水箱的右部与气体处理仓的左壁下部连通，所述水箱连通有臭气管，所述注水机构包括与水箱进水口连通的注水泵和与注水泵进水口连通的储水室，所述储水室的侧壁设置有控制板，所述控制板与注水泵电信号连接，所述进气管的顶部设置有下均流网装置，所述下均流网装置的顶部设置有C波段UV管臭气处理装置，所述C波段UV管臭气处理装置的顶部设置有上均流网装置，所述水位控制机构包括设置于臭气管出气口侧壁的下液位传感器和位于进气管底部且设置于臭气管出气口上方的上液位传感器，本实用新型专利技术，可以防止气体处理仓中的水分流失过多。流失过多。流失过多。

【技术实现步骤摘要】
一种微波光氧化恶臭气体处理装置


[0001]本技术涉及气体处理
，具体为一种微波光氧化恶臭气体处理装置。

技术介绍

[0002]目前，国内外主要的气体除臭技术有吸附法、除臭剂法、热氧化法、洗涤法、生物过滤法和氧离子基团除臭法等，国内大部分污水厂臭气仍然沿用传统的除臭方法，如过滤网过滤、生物质吸附等，而这些方法效率低且易造成二次污染。
[0003]例如中国专利申请号为201821987481.X提出的一种微波光氧化恶臭气体处理装置，包括水箱，水箱右壁焊接有气体处理塔，水箱的左壁焊接有进风管，水箱的顶壁焊接有进水管，气体处理塔的右壁焊接有排水管，气体处理塔的右壁下部焊接有进气管，气体处理塔的内腔底部和顶部分别卡接有底部均流网装置和顶部均流网装置，气体处理塔的内腔固定安装有CC波段UV管臭气处理装置，进风管的内腔卡接有风扇装置，气体处理塔的顶端焊接有排气管。
[0004]该装置在对臭气处理时，由于水分子在微波场的作用下，水分子运动速度提高，互相撞击产生热量，由此产生高温，会造成水分的快速蒸发，导致水位很容易降低至进风管出口以下，则无法进行臭气中的颗粒等杂质的吸附，使得颗粒等杂质堵塞均流网装置，造成装置整体的堵塞，为维护带来的巨大麻烦。

技术实现思路

[0005]本部分的目的在于概述本技术的实施方式的一些方面以及简要介绍一些较佳实施方式。在本部分以及本申请的说明书摘要和技术名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和技术名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本技术的范围。r/>[0006]鉴于上述和/或现有螺杆随行支撑传动结构使用中存在的问题，提出了本技术。
[0007]因此，本技术的目的是提供一种微波光氧化恶臭气体处理装置，可以防止气体处理仓中的水分流失过多，无法吸收臭气中颗粒等杂质，提高吸收效率，并且减少维护频率。
[0008]为解决上述技术问题，根据本技术的一个方面，本技术提供了如下技术方案：
[0009]一种微波光氧化恶臭气体处理装置，其包括：
[0010]水箱，所述水箱的右部与气体处理仓的左壁下部连通，所述水箱连通有臭气管；
[0011]注水机构，所述注水机构包括与水箱进水口连通的注水泵和与注水泵进水口连通的储水室，所述储水室的侧壁设置有控制板，所述控制板与注水泵电信号连接并控制注水泵启闭；
[0012]气体处理仓，所述气体处理仓的内部设置有进气管，所述进气管的顶部设置有下
均流网装置，所述下均流网装置的顶部设置有C波段UV管臭气处理装置，所述C波段UV管臭气处理装置的顶部设置有上均流网装置；
[0013]水位控制机构，所述水位控制机构包括设置于臭气管出气口侧壁的下液位传感器和位于进气管底部且设置于臭气管出气口上方的上液位传感器，所述下液位传感器和上液位传感器分别与控制板电信号连接，并且向控制板发送水位信息。
[0014]作为本技术所述的一种微波光氧化恶臭气体处理装置的一种优选方案，其中，所述储水室的侧壁设置有透视窗，所述透视窗为透明钢化玻璃制成。
[0015]作为本技术所述的一种微波光氧化恶臭气体处理装置的一种优选方案，其中，所述储水室的内壁设置有低液位传感器，所述低液位传感器与控制板电信号连接。
[0016]作为本技术所述的一种微波光氧化恶臭气体处理装置的一种优选方案，其中，所述控制板的侧壁设置有蜂鸣器，所述蜂鸣器与控制板电信号连接。
[0017]作为本技术所述的一种微波光氧化恶臭气体处理装置的一种优选方案，其中，所述臭气管的进气口连通的臭气风机，所述进气管的进气端连通有空气风机，所述臭气风机和空气风机均与控制板电信号连接，并且向控制板发送储水室水位信息。
[0018]作为本技术所述的一种微波光氧化恶臭气体处理装置的一种优选方案，其中，所述气体处理仓的侧壁设置有排污管，所述气体处理仓的顶部设置有排气口。
[0019]与现有技术相比，本技术具有的有益效果是：该种微波光氧化恶臭气体处理装置，通过上液位传感器监测水位，水位达到上液位传感器高度时，将水位信息发送至控制板，控制板控制水泵停止注水，当水位低于下液位传感器时，下液位传感器将水位信息发送至控制板，控制板控制水泵开启，将水注入水箱，直至达到上液位传感器，进而达到自动补水的目的。因此，可以防止气体处理仓中的水分流失过多，无法吸收臭气中颗粒等杂质，提高吸收效率，并且减少维护频率。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将结合附图和详细实施方式对本技术进行详细说明，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。其中：
[0021]图1为本技术一种微波光氧化恶臭气体处理装置的整体结构示意图。
[0022]100、水箱；110、臭气管；111、臭气风机；200、注水机构；210、储水室；211、透明窗；220、注水泵；230、控制板；231、低液位传感器；232、蜂鸣器；300、气体处理仓；310、排污管；320、排气口；330、进气管；331、空气风机；340、下均流网装置；350、上均流网装置；360、C波段UV管臭气处理装置；400、水位控制机构；410、下液位传感器；420、上液位传感器。
具体实施方式
[0023]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。
[0024]其次，本技术结合示意图进行详细描述，在详述本技术实施方式时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不以一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其
在此不应限制本技术保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。
[0025]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的实施方式作进一步地详细描述。
[0026]本技术提供一种微波光氧化恶臭气体处理装置，可以防止气体处理仓中的水分流失过多，无法吸收臭气中颗粒等杂质，提高吸收效率，并且减少维护频率。
[0027]图1示出的是本技术一种微波光氧化恶臭气体处理装置一实施方式的结构示意图，请参阅图1，本实施方式的一种微波光氧化恶臭气体处理装置，其主体部分包括水箱100，注水机构200、气体处理仓300和水位控制机构400。
[0028]水箱100进水，使得水体漫入气体处理仓300，臭气风机111将臭气通过臭气管110注入，臭气管110尽量贴进气体处理仓300的底部，提高臭气在水中的行程，便于臭气中的颗粒等杂质被水吸附，具体的，所述水箱100的右部与气体处理仓300的左壁下部连通，所述水箱100连通有臭气管110，在本实施方式中，所述臭气管110的进气口连通的臭气风机111，所述进气管330本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微波光氧化恶臭气体处理装置，其特征在于，包括：水箱(100)，所述水箱(100)的右部与气体处理仓(300)的左壁下部连通，所述水箱(100)连通有臭气管(110)；注水机构(200)，所述注水机构(200)包括与水箱(100)进水口连通的注水泵(220)和与注水泵(220)进水口连通的储水室(210)，所述储水室(210)的侧壁设置有控制板(230)，所述控制板(230)与注水泵(220)电信号连接并控制注水泵(220)启闭；气体处理仓(300)，所述气体处理仓(300)的内部设置有进气管(330)，所述进气管(330)的顶部设置有下均流网装置(340)，所述下均流网装置(340)的顶部设置有C波段UV管臭气处理装置(360)，所述C波段UV管臭气处理装置(360)的顶部设置有上均流网装置(350)；水位控制机构(400)，所述水位控制机构(400)包括设置于臭气管(110)出气口侧壁的下液位传感器(410)和位于进气管(330)底部且设置于臭气管(110)出气口上方的上液位传感器(420)，所述下液位传感器(410)和上液位传感器(420)分别与控制板(230)电信号连接，并且向控制板(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪家文，
申请(专利权)人：湖南飞洋环境科技有限公司，
类型：新型
国别省市：