光纤的处理装置及处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术抑制装置的大型化，并进行含氘气体的回收及再利用。处理槽将光纤收容于内部。气体供给装置向处理槽供给含氘气体。泵对处理槽内的含氘气体进行吸引。升压单元使从泵排出的所述含氘气体的压力升压。配管将由升压单元升压的所述含氘气体供给至所述处理槽。压的所述含氘气体供给至所述处理槽。压的所述含氘气体供给至所述处理槽。

【技术实现步骤摘要】
光纤的处理装置及处理方法


[0001]本专利技术涉及光纤的处理装置及处理方法。

技术介绍

[0002]专利文献1公开了将对卷绕有光纤的线轴进行收容的反应槽减压，向该反应槽内导入含氘(D2)气体而将光纤暴露于含氘气体的光纤的处理方法。在该处理方法，进一步对反应槽内的含氘气体进行回收而贮存于贮存罐，由此进行含氘气体的回收及供给。
[0003]专利文献2公开了将对卷绕有光纤的线轴进行收容的反应容器减压，向该反应容器内导入含氘气体而将光纤暴露于含氘气体的光纤的处理装置。该处理装置还具有对反应容器内的含氘气体进行回收而贮存的贮存容器，利用吸引泵进行含氘气体的回收及供给。
[0004]专利文献3及专利文献4公开了将卷绕于线轴的光纤配置于密闭容器内，供给含氘气体而将密闭容器内的气体用含氘气体置换，将密闭容器内的光纤暴露于含氘气体的光纤的处理方法。
[0005]专利文献1：国际公开第2005/062088号公报
[0006]专利文献2：日本特开2005
‑
301118号公报
[0007]专利文献3：日本特开2019
‑
127412号公报
[0008]专利文献4：日本特开2005
‑
292465号公报

技术实现思路

[0009]本专利技术的目的在于，提供能够抑制装置的大型化，并进行含氘气体的回收及再利用的光纤的处理装置及处理方法。
[0010]本专利技术的光纤的处理装置具有：
[0011]处理槽，其将光纤收容于内部；
[0012]气体供给装置，其向所述处理槽供给含氘气体；
[0013]泵，其对所述处理槽内的所述含氘气体进行吸引；
[0014]升压单元，其使从所述泵排出的所述含氘气体的压力升压；以及
[0015]配管，其将由所述升压单元升压的所述含氘气体供给至所述处理槽。
[0016]本专利技术的光纤的处理方法具有：
[0017]第一步骤，在处理槽收容光纤；
[0018]第二步骤，在所述第一步骤后，向所述处理槽内经由配管而供给含氘气体；
[0019]第三步骤，在所述第二步骤后，将收容于所述处理槽的所述光纤暴露于所述含氘气体的气氛；以及
[0020]第四步骤，在所述第三步骤后，对所述处理槽内的含氘气体进行吸引，使吸引的所述含氘气体升压而返回至所述配管。
[0021]专利技术的效果
[0022]根据本专利技术，能够提供能够抑制装置的大型化，并进行含氘气体的回收及再利用
的光纤的处理装置及处理方法。
附图说明
[0023]图1是表示一个实施方式所涉及的光纤的处理装置的结构的概念图。
[0024]图2是表示一个实施方式所涉及的光纤的处理方法的处理流程的图。
具体实施方式
[0025][本专利技术的实施方式的说明][0026]首先，列举本专利技术的实施方式的内容而进行说明。
[0027]本专利技术的光纤的处理装置，具有：
[0028](1)处理槽，其将光纤收容于内部；
[0029]气体供给装置，其向所述处理槽供给含氘气体；
[0030]泵，其对所述处理槽内的所述含氘气体进行吸引；
[0031]升压单元，其使从所述泵排出的所述含氘气体的压力升压；以及
[0032]配管，其将由所述升压单元升压的所述含氘气体供给至所述处理槽。
[0033]根据上述结构，能够对供给至处理槽内的含氘气体进行回收而再利用。另外，在将再利用的含氘气体以大气压的状态贮存的情况下，需要专用的大型气罐。但是，从处理槽回收的含氘气体被升压，因此能够减小用于贮存含氘气体的容器的容积。由此，不需要专用的大型气罐，例如升压的含氘气体能够贮存于将含氘气体向处理槽供给的配管内。另外，向处理槽供给升压的含氘气体，因此不需要在向处理槽供给含氘气体时使用的泵。因此，能够提供抑制装置的大型化，并可进行含氘气体的回收及再利用的光纤的处理装置。
[0034](2)所述光纤的处理装置可以还具有在所述配管设置的过滤器单元。
[0035]根据上述结构，能够将回收的气体所包含的灰尘、尘埃去除，因此能够抑制灰尘、尘埃附着在暴露于处理槽内再利用的含氘气体的气氛的光纤的情况。
[0036](3)光纤的处理装置可以具有多个所述处理槽。
[0037]根据上述结构，针对多个光纤可同时执行氘处理，因此光纤的生产率提高。
[0038]本专利技术的光纤的处理方法具有：
[0039](4)第一步骤，在处理槽收容光纤；
[0040]第二步骤，在所述第一步骤后，向所述处理槽内经由配管而供给含氘气体；
[0041]第三步骤，在所述第二步骤后，将收容于所述处理槽的所述光纤暴露于所述含氘气体的气氛；以及
[0042]第四步骤，在所述第三步骤后，对所述处理槽内的含氘气体进行吸引，使所吸引的所述含氘气体升压而返回至所述配管。
[0043]根据上述方法，能够对供给至处理槽内的含氘气体进行回收而再利用。另外，在将再利用的含氘气体以大气压的状态贮存的情况下，需要专用的大型气罐。但是，从处理槽回收的含氘气体被升压，因此能够减小用于贮存含氘气体的容器的容积。由此，不需要专用的大型气罐，例如升压的含氘气体能够贮存于将含氘气体向处理槽供给的配管内。另外，向处理槽供给升压的含氘气体，因此不需要在向处理槽供给含氘气体时使用的泵。因此，能够提供抑制装置的大型化，并可进行含氘气体的回收及再利用的光纤的处理方法。
[0044](5)所述第二步骤可以具有向大气压状态的所述处理槽内吹入所述含氘气体的步骤。
[0045]根据上述结构，在大气压状态的处理槽内残留有空气的情况下，能够通过吹入工序将残留于处理槽内的空气用含氘气体置换。另外，所回收的含氘气体被升压，因此不使用泵就能够向大气压状态的处理槽内供给含氘气体。
[0046](6)所述光纤的处理方法可以在所述第一步骤后且第二步骤前，具有使所述处理槽减压而使得所述处理槽内的压力成为绝对压力为20kPa以上且90kPa以下的范围的第五步骤。
[0047]根据上述结构，处理槽被减压，因此例如在光纤卷绕于光纤线轴的情况下，能够使含氘气体遍布至线轴的卷芯附近为止。另外，减压量少，因此能够以短时间使处理槽减压。另外，如果处理槽的减压时和常压时的压力差过大，则例如光纤相对于光纤线轴的卷绕有可能松弛。但是，减压量少，因此能够抑制光纤相对于光纤线轴的卷绕松弛的情况。
[0048](7)可以在所述第四步骤，对所述处理槽内的含氘气体进行吸引而使得所述处理槽内的压力成为绝对压力为20kPa以上且90kPa以下的范围。
[0049]如果处理槽的减压时和常压时的压力差过大，则例如光纤相对于光纤线轴的卷绕有可能松弛。但是，根据上述结构，减压量少，因此能够抑制光纤相对于光纤线轴的卷绕松弛的情况。
[0050][本专利技术的实施方式的详细内容][0051]以下，参照附图对本专利技术的实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光纤的处理装置，其具有：处理槽，其将光纤收容于内部；气体供给装置，其向所述处理槽供给含氘气体；泵，其对所述处理槽内的所述含氘气体进行吸引；升压单元，其使从所述泵排出的所述含氘气体的压力升压；以及配管，其将由所述升压单元升压的所述含氘气体供给至所述处理槽。2.根据权利要求1所述的光纤的处理装置，其中，还具有在所述配管设置的过滤器单元。3.根据权利要求1或2所述的光纤的处理装置，其中，具有多个所述处理槽。4.一种光纤的处理方法，其具有：第一步骤，在处理槽收容光纤；第二步骤，在所述第一步骤后，向所述处理槽内经由配管而供给含氘气体；第三步骤，在所述第二步骤后，将收容于所述处理槽的所述光纤暴露于所述含氘气体...

【专利技术属性】
技术研发人员：森本仁广，椿山仁士，
申请(专利权)人：住友电气工业株式会社，
类型：发明
国别省市：