一种ITO薄膜的表面处理方法、电致发光器件及制备方法技术

本申请实施例公开了一种ITO薄膜的表面处理方法，其包括以下步骤：提供ITO薄膜；将所述ITO薄膜浸入酸混合溶液中，进行超声清洗，其中，所述酸混合溶液包括至少两种强酸、或包括至少一种强酸和一种中强酸。所述表面处理方法使用包含至少两种强酸的酸混合溶液对ITO薄膜进行表面处理，可以最大程度的清除薄膜表面的有机污染物，氧化薄膜表面不稳定的金属离子和氧空位，提高薄膜表面的功函数，增强薄膜的空穴注入能力，提高注入效率。本申请还公开了一种电致发光器件的制备方法及由该方法制得的电致发光器件。电致发光器件。电致发光器件。

【技术实现步骤摘要】
一种ITO薄膜的表面处理方法、电致发光器件及制备方法


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种ITO薄膜的表面处理方法、使用所述ITO薄膜的电致发光器件及所述电致发光器件的制备方法。

技术介绍

[0002]氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)薄膜具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和良好的化学稳定性，因此，其在电致发光器件中常作为阳极材料使用。
[0003]众所周知，ITO表面形貌、晶粒尺寸、洁净度和粗糙度等是电致发光器件的性能如亮度、发光效率和寿命的重要影响因素。而常规的表面清洗方法如采用去离子水、洗涤剂和异丙醇超声清洗加上UV紫外消毒只能去除部分有机污染物，无法改变ITO薄膜的表面粗糙度、功函数和导电能力。因此，各种基于ITO薄膜的阳极表面处理技术被提出来，以提高器件性能。
[0004]现有的ITO薄膜的表面处理方法主要包括干法处理和湿法处理。干法处理主要是采用电离气体等离子体如氧气、氩气、氮气等对ITO薄膜的表面进行溅射清洗以除去其表面的污染，改善其表面形态。但是干法处理工艺复杂耗时，处理成本较高，并且随着存放时间增加，ITO薄膜优化后的表面性质趋于退化，从而导致器件光电性能明显变差。湿法处理主要是采用常规的酸碱溶剂如浓硫酸，磷酸和氢氧化钠等进行浸泡超声，能有效清除ITO薄膜表面的有机污染物，降低表面粗糙度，提高表面功函数，使空穴注入能力增强，降低ITO薄膜与有机层的界面势垒，从而提高电致发光器件的光学性能。但是现有的常规的酸碱处理时间较长，使得ITO薄膜和玻璃衬底有被腐蚀的风险，而且处理时间长还可能会导致ITO粗糙度加大，反而降低电致发光器件的光电性能。

技术实现思路

[0005]本申请实施例提供一种ITO薄膜的表面处理方法，旨在降低现有技术的ITO薄膜表面处理时间长而存在的风险。
[0006]本申请实施例提供一种ITO薄膜的表面处理方法，其包括以下步骤：
[0007]提供ITO薄膜；
[0008]将所述ITO薄膜浸入酸混合溶液中，进行超声清洗，其中，所述酸混合溶液包括至少两种强酸、或包括至少一种强酸和一种中强酸。
[0009]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液包括浓盐酸、浓硝酸、浓硫酸及浓磷酸中的至少两种。
[0010]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液为浓盐酸与浓硝酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓硝酸的体积比的范围为1：(0.25
‑
3)。
[0011]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液为浓盐酸与浓硫酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓硫酸的体积比的范围为1：(0.5
‑
2)。
[0012]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液为浓盐酸与浓磷酸的混合溶
液，所述浓盐酸与浓磷酸的体积比的范围为1：(0.5
‑
2)。
[0013]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液为浓硝酸与浓磷酸的混合溶液，所述浓硝酸与浓磷酸的体积比的范围为1：(0.33
‑
3)。
[0014]可选的，在本申请的一些实施例中，所述酸混合溶液为浓盐酸与浓硝酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓硝酸的体积比为3：1。
[0015]可选的，在本申请的一些实施例中，所述超声清洗的时间为1
‑
5min，温度为25
‑
100℃。
[0016]可选的，在本申请的一些实施例中，在所述将所述ITO薄膜浸入酸混合溶液中之前还包括将所述ITO薄膜置于洗液中进行超声清洗的步骤，以及在所述将所述ITO薄膜浸入酸混合溶液中之后还包括将超声清洗后的ITO薄膜置于去离子水中进行超声清洗然后再置于清洗剂中超声清洗的步骤。
[0017]相应的，本申请实施例还提供一种电致发光器件的制备方法，其包括以下步骤：
[0018]提供衬底；
[0019]在所述衬底上形成ITO薄膜；
[0020]使用所述ITO薄膜的表面处理方法对所述ITO薄膜进行表面处理；
[0021]在所述表面处理后的ITO薄膜上形成空穴传输层；
[0022]在所述空穴传输层上形成发光层；
[0023]在所述发光层上形成电子传输层；以及
[0024]在所述电子传输层上形成阴极。
[0025]相应的，本申请实施例还提供一种由所述电致发光器件的制备方法制得的电致发光器件。
[0026]本申请有如下有益效果：
[0027]本申请的ITO薄膜的表面处理方法主要使用包含至少两种强酸、或包含至少一种强酸和一种中强酸的酸混合溶液对ITO薄膜进行表面处理，由于所述酸混合溶液具有极强的氧化性，可以最大程度的清除ITO薄膜表面的有机污染物，将有机污染物转化为CO2和H2O。所述酸混合溶液还可以氧化ITO薄膜表面不稳定的金属离子和氧空位，有利于ITO薄膜更好的与有机层结合，提高ITO薄膜表面的功函数，降低ITO与有机层势垒，增强ITO的空穴注入能力。此外，所述酸混合溶液具有极强的腐蚀性，可以在短时间内迅速的腐蚀ITO薄膜表面的尖峰，改善ITO薄膜的表面粗糙度，优化ITO薄膜表面的颗粒粒径，提高ITO薄膜表面均匀性，增强ITO薄膜的表面能，改善ITO薄膜的浸润性，增加ITO薄膜与有机层界面的接触面积，增加有机层在ITO薄膜上的附着力，进一步增强ITO薄膜的空穴注入能力，提高注入效率，改善电致发光器件的光电性能。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1是本申请实施例提供的ITO薄膜的表面处理方法的流程图；
[0030]图2是本申请实施例提供的电致发光器件的示意图；
[0031]图3是本申请实施例1的ITO薄膜的SEM图；
[0032]图4是本申请对比例的ITO薄膜的SEM图。
具体实施方式
[0033]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0034]本申请实施例提供一种ITO薄膜的表面处理方法。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。另外，在本申请的描述中，术语“包括”是指“包括但不限于”。用语第一、第二、第三等仅仅作为标示使用，并没有强加数字要求或建立顺序。本申请的各种实施例可以以一个范围的型式存在；应当理解，以一范围型式的描述仅仅是因为方便及简洁，不应理解为对本申请范围的硬性限制；因此，应当认为所述的范围描述已经具体公开所有可能本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ITO薄膜的表面处理方法，其包括以下步骤：提供ITO薄膜；将所述ITO薄膜浸入酸混合溶液中，进行超声清洗，其中，所述酸混合溶液包括至少两种强酸、或包括至少一种强酸和一种中强酸。2.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述酸混合溶液包括浓盐酸、浓硝酸、浓硫酸及浓磷酸中的至少两种。3.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述酸混合溶液为浓盐酸与浓硝酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓硝酸的体积比的范围为1：(0.25
‑
3)。4.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述酸混合溶液为浓盐酸与浓硫酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓硫酸的体积比的范围为1：(0.5
‑
2)。5.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述酸混合溶液为浓盐酸与浓磷酸的混合溶液，所述浓盐酸与浓磷酸的体积比的范围为1：(0.5
‑
2)。6.如权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述酸混合溶液为浓硝酸与浓磷酸的混合溶液，所述浓硝酸与浓磷酸的体积比的范围为1：(0.33
‑
3)。7.如权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘帅，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：