光学测定装置及光学测定方法制造方法及图纸

在光学测定装置中，在第1处理中，对参考构件照射激发光，将包含来自参考构件的激发光的散射光的校准处理用光作为检测光予以检测，将与校准处理用光对应的校准信号作为检测信号，实施用于自第2处理中的检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理。另外，在光学测定装置中，在第2处理中，对试样照射激发光，将包含自试样产生的荧光、及来自被照射了激发光的试样的散射光的测定对象光作为检测光予以检测，自测定信号去除与第1处理中的校准处理的实施结果中的散射光对应的信号成分。实施结果中的散射光对应的信号成分。实施结果中的散射光对应的信号成分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学测定装置及光学测定方法


[0001]本专利技术的一方式涉及一种用于测定试样的光学特性的光学测定装置及光学测定方法。

技术介绍

[0002]在专利文献1中公开了为了去除在对置于基板上的荧光样品照射激发光并测定荧光时所含的荧光噪声成分(来自基板的荧光成分)，而产生并减去衰减信号的技术。具体而言，在专利文献1中，通过产生与基板的荧光相等的相位的衰减信号，自测定到的荧光信号减去该衰减信号，而去除荧光噪声成分。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特表2010
‑
518394号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的问题
[0007]如上所述，在专利文献1中，自通过对试样照射激发光而产生的荧光，去除自试样的测定对象部以外产生的荧光噪声成分。此处，认为对试样照射光并检测来自试样的光时所含的噪声成分，不仅因自试样(被照射的试样)产生的光(例如荧光)引起，而且照射光(例如激发光)本身(例如散射光)也成为噪声成分。在专利文献1的技术中，未考虑照射光本身成为噪声成分的情况，无法去除该噪声成分。
[0008]另一方面，本专利技术人们着眼于检测光中所含的荧光及散射光(因照射光本身引起的光)的相位的不同，发现了通过自检测光去除具有与照射光相等的相位的信号成分即散射光的信号成分，而去除因照射光本身引起的噪声成分的光学测定装置。在这样的光学测定装置中，例如，预先实施校准处理。在校准处理中，可通过对试样的不易产生荧光的部分照射照射光，而检测校准处理用光(理想上为仅包含散射光的光)，基于与该校准处理用光对应的校准信号，自检测信号，仅去除大致与散射光成分对应的信号成分。
[0009]此处，在校准处理中，考虑通过对试样(例如以容易实施测定的方式被芯片化的试样，以下为实际样品)的不易产生荧光的部分(例如在实际样品中被判断为荧光物质较少的区域)照射照射光，而检测大致仅包含散射光的校准处理用光。然而，在对实际样品照射照射光并检测校准处理用光的方法中，难以从在光检测器中检测到的校准处理用光完全去除荧光，在校准信号处理用光中包含微量的荧光成分。因此，可知除了散射光成分以外还基于微量的荧光成分进行校准处理，校准处理受到荧光成分的影响的结果，有无法高精度地进行之后的荧光测定的担忧。
[0010]本专利技术的一方式鉴于上述实际情况而完成，其目的在于，提供一种可去除因照射光本身引起的噪声成分且高精度地进行荧光测定的光学测定装置及光学测定方法。
[0011]解决问题的技术手段
[0012]本专利技术的一方式的光学测定装置，是对测定对象物的光学特性进行测定的光学测定装置，具备：照射光学系统，其对照射对象照射照射光；光检测部，其检测因照射光引起的检测光；及信号处理部，其对与检测光对应的检测信号进行处理；在第1处理中，照射光学系统以与测定对象物不同的校准处理用的参考构件为照射对象，对参考构件照射照射光，光检测部将包含来自被照射了照射光的参考构件的照射光的散射光的校准处理用光作为检测光予以检测，信号处理部将与校准处理用光对应的校准信号作为检测信号，基于该校准信号，实施用于自第2处理中的检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理；在第2处理中，照射光学系统以测定对象物为照射对象，对测定对象物照射照射光，光检测部将包含自被照射了照射光的测定对象物产生的荧光、及来自被照射了照射光的测定对象物的散射光的测定对象光作为检测光予以检测，信号处理部将与测定对象光对应的测定信号作为检测信号，自测定信号去除与第1处理中的校准处理的散射光对应的信号成分。
[0013]在本专利技术的一方式的光学测定装置中，在校准处理所涉及的第1处理中，对与测定对象物不同的参考构件照射照射光而检测包含散射光的校准处理用光。然后，在第2处理中，通过基于校准处理的实施结果，自测定信号适当地去除与散射光对应的信号成分，而可去除因照射光本身引起的噪声成分且高精度地进行荧光测定。另外，通过利用与测定对象物不同的校准处理用的参考构件，而不产生在例如对测定对象物照射照射光并检测校准处理用光的情况下成为问题的与测定对象物的特性对应的校准处理的结果的偏差。因此，可更高精度地进行荧光测定。这样，根据本专利技术的一方式的光学测定装置，可更适当地进行校准处理，可更适当地去除因照射光本身引起的噪声成分且更高精度地进行荧光测定。
[0014]参考构件可包含反射照射光的反射构件。根据这样的结构，可容易增大检测光的光量。
[0015]反射构件优选为未通过照射光的照射而产生荧光。根据这样的结构，由于即使因照射光的照射，也不会产生因反射构件引起的荧光(或者，仅产生能够忽视的程度的荧光)，因而在第2处理中可自测定信号可靠地仅去除与散射光成分对应的信号成分。
[0016]反射构件可包含将照射光扩散的反射扩散体。根据这样的结构，通过反射扩散体，可容易产生各种角度的散射光，可更容易增大检测光的光量。
[0017]反射构件可包含：反射照射光的反射基材、及被支撑于反射基材且将照射光扩散的扩散体。根据这样的结构，通过反射基材与扩散体的协同，可更容易增大检测光的光量。
[0018]反射构件可包含镜。根据这样的结构，通过调整镜相对于光检测部的反射角度，而可更容易增大检测光的光量。
[0019]本专利技术的一方式的光学测定装置，是对测定对象物的光学特性进行测定的光学测定装置，具备：照射光学系统，其照射照射光；光检测部，其具有检测因照射光引起的检测光的第1检测光学系统及第2检测光学系统；及信号处理部，其对与检测光对应的检测信号进行处理；在第1处理中，照射光学系统对第1检测光学系统照射照射光，光检测部的第1检测光学系统将照射光即校准处理用光作为检测光予以检测，信号处理部将与校准处理用光对应的校准信号作为检测信号，基于该校准信号，实施用于自第2处理的检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理，在第2处理中，照射光学系统对测定对象物照射照射光，光检测部的第2检测光学系统将包含自被照射了照射光的测定对象物产生的荧光、及来自被照射了照射光的测定对象物的散射光的测定对象光作为检测光予以检测，信号处理部将与
测定对象光对应的测定信号作为检测信号，自测定信号去除与第1处理中的校准处理的散射光对应的信号成分。
[0020]在本专利技术的一方式的光学测定装置中，在校准处理所涉及的第1处理中，对第1检测光学系统直接照射照射光，检测作为该照射光的校准处理用光。照射光是具有与散射光相同的相位的光。因此，通过第1检测光学系统将照射光作为校准处理用光予以检测，而可适当地将不包含荧光且与散射光相同的相位的光作为校准处理用光予以检测。由此，在第2处理中，通过基于校准处理的实施结果，自测定信号适当地去除与散射光对应的信号成分，而可去除因照射光本身引起的噪声成分且高精度地进行荧光测定。另外，由于不对测定对象物照射照射光而检测校准处理用光，因而不产生在例如对测定对象物照射照射光并检测校准处理用光的情况下成为问题的与测定对象物的特性对应的校准处理的结果的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学测定装置，其中，是对测定对象物的光学特性进行测定的光学测定装置，具备：照射光学系统，其对照射对象照射照射光；光检测部，其检测因所述照射光引起的检测光；及信号处理部，其对与所述检测光对应的检测信号进行处理，在第1处理中，所述照射光学系统以与所述测定对象物不同的校准处理用的参考构件为所述照射对象，对所述参考构件照射所述照射光，所述光检测部将包含来自被照射了所述照射光的所述参考构件的所述照射光的散射光的校准处理用光作为所述检测光予以检测，所述信号处理部将与所述校准处理用光对应的校准信号作为所述检测信号，基于该校准信号，实施用于自第2处理中的所述检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理，在第2处理中，所述照射光学系统以所述测定对象物为所述照射对象，对所述测定对象物照射所述照射光，所述光检测部将包含自被照射了所述照射光的所述测定对象物产生的荧光、及来自被照射了所述照射光的所述测定对象物的散射光的测定对象光作为所述检测光予以检测，所述信号处理部将与所述测定对象光对应的测定信号作为所述检测信号，自所述测定信号去除与所述第1处理中的所述校准处理中的所述散射光对应的信号成分。2.如权利要求1所述的光学测定装置，其中，所述参考构件包含反射所述照射光的反射构件。3.如权利要求2所述的光学测定装置，其中，所述反射构件未通过所述照射光的照射而产生荧光。4.如权利要求2或3所述的光学测定装置，其中，所述反射构件包含将所述照射光扩散的反射扩散体。5.如权利要求2或3所述的光学测定装置，其中，所述反射构件包含：反射基材，其反射所述照射光；及扩散体，其被支撑于所述反射基材，且将所述照射光扩散。6.如权利要求2或3所述的光学测定装置，其中，所述反射构件包含镜。7.一种光学测定装置，其中，是对测定对象物的光学特性进行测定的光学测定装置，具备：照射光学系统，其照射照射光；光检测部，其具有检测因所述照射光引起的检测光的第1检测光学系统及第2检测光学系统；及信号处理部，其对与所述检测光对应的检测信号进行处理，
在第1处理中，所述照射光学系统对所述第1检测光学系统照射所述照射光，所述光检测部的所述第1检测光学系统将作为所述照射光的校准处理用光作为所述检测光予以检测，所述信号处理部将与所述校准处理用光对应的校准信号作为所述检测信号，基于该校准信号，实施用于自第2处理中的所述检测信号去除与散射光对应的信号成分的校准处理，在第2处理中，所述照射光学系统对所述测定对象物照射所述照射光，所述光检测部的所述第2检测光学系统将包含自被照射了所述照射光的所述测定对象物产生的荧光、及来自被照射了所述照射光的所述测定对象物的散射光的测定对象光作为所述检测光予以检测，所述信号处理部将与所述测定对象光对应的测定信号作为所述检测信号，自所述测定信号去除与所述第1处理中的所述校准处理中的所述散射光对应的信号成分。8.一种光学测定装置，其中，是对测定对象物的光学特性进行测定的光学测定装置，具备：照射光学系统，其照射与调制信号对应的照射光；光检测部，其检测因所述照射光引起的检测光；及信号处理部...

【专利技术属性】
技术研发人员：近藤房宣，岩田直树，松村朋和，竹下照雄，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：