一种二流体清洗平台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种二流体清洗平台，其包括净化棚、二流体清洗机构、移动平台和吸附平台；所述净化棚的内部设有排水工作台；所述移动平台固定于排水工作台的上表面；所述吸附平台设置在移动平台上，吸附平台包括吸附底板和进气块，吸附底板上设有若干组气体流道，进气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的下表面；所述二流体清洗机构固定在净化棚的顶部并位于吸附平台的上方，二流体清洗机构包括调节柱、安装板和超音速喷嘴，安装板与调节柱滑动连接，超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下表面。本实用新型专利技术采用二流体清洗机构将高压气态流体和液态流体混合后喷出，能够去除零件上附着的超微小颗粒，零件表面清洁效果一致性好，清洗效率高。清洗效率高。清洗效率高。

【技术实现步骤摘要】
一种二流体清洗平台


[0001]本技术属于零件清洗设备领域，尤其涉及一种二流体清洗平台。

技术介绍

[0002]精密设备制造领域对零件的洁净程度要求较高，因为洁净度对产品的性能有着至关重要的影响。零件的基体表面污染物主要有尘埃粒子、纤维、油脂以及加工过程遗留的水迹、指纹等，现有生产工序主要采用分段转移纯水清洗。
[0003]传统的清洗设备如授权公告号为CN205380094U的中国专利公开的便于装配的清洗机，包括机体，安装在机体上并设有基准梁的抬起步伐输送机构，以基准梁为安装基准依次安装在机体上的射流清洗机构、高压清洗机构、定位清洗机构、翻转倒水机构、定位吹干机构、真空干燥机构。
[0004]上述清洗设备采用简单的纯水清洗，该清洗方式无法除净附着的超微小颗粒，存在效率低、耗能大等问题；大批量混合清洗时，基体表面洁净度一致性差。

技术实现思路

[0005]本技术提供了一种二流体清洗平台，以解决传统清洗装置无法除净附着的超微小颗粒的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：
[0007]本技术涉及的一种二流体清洗平台，其包括净化棚、二流体清洗机构、移动平台和吸附平台；所述的净化棚的内部设有排水工作台；所述的移动平台固定于排水工作台的上表面；所述的吸附平台设置在移动平台上，吸附平台包括吸附底板和进气块，吸附底板上设有若干组气体流道，进气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的下表面；所述的二流体清洗机构固定在净化棚的顶部并位于吸附平台的上方，二流体清洗机构包括调节柱、安装板和超音速喷嘴，安装板与调节柱滑动连接，超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下表面。
[0008]所述的超音速喷嘴用于喷射混合后的高压气态流体和液态流体，高压气态流体优选氮气，液态流体优选去离子水。
[0009]优选地，所述移动平台包括X轴模组、Y轴模组和连接板，所述的X轴模组固定在排水工作台的上表面，Y轴模组设置在X轴模组的上方并与X轴模组滑动连接，连接板位于Y轴模组的上方并与Y轴模组滑动连接，所述吸附平台固定在连接板的上表面。
[0010]优选地，所述净化棚包括框架、顶板和密封门体，顶板位于框架的顶部，密封门体设置于框架的四周，密封门体和顶板围成一个密闭空间，二流体清洗机构、移动平台和吸附平台均位于密闭空间内，净化棚的顶板上设有为密闭空间提供微正压环境的FFU风机。
[0011]优选地，所述排水工作台设置于框架的中间位置，排水工作台的下方设有电控柜和电气控制口，二流体清洗机构、移动平台和吸附平台均与电控柜连接，电气控制口与电控柜电连接。
[0012]优选地，所述净化棚上设有触屏式监控器，触屏式监控器与电控柜通信连接。
[0013]优选地，所述触屏式监控器还配有警示灯，警示灯与触屏式监控器通信连接。
[0014]优选地，所述排水工作台的内部设有空腔，排水工作台的顶面设有与空腔连通的排水孔，排水工作台的底部设有排水阀。
[0015]采用本技术提供的技术方案，与现有技术相比，具有如下有益效果：
[0016]1.本技术涉及的二流体清洗平台在吸附平台的上方设置了二流体清洗机构，二流体清洗机构将高压气态流体和液态流体混合后喷出，用于清洗吸附平台上方的零件，进而去除零件上附着的超微小颗粒，清洗效果更好。
[0017]2.本技术涉及的二流体清洗平台将吸附平台设置在移动平台上，移动平台具有X轴、Y轴的位置调节能力，使得不同零件可充分进行二流体循环清洗，兼容性强，效率高，零件表面清洁效果一致性好。
附图说明
[0018]图1是本技术涉及的二流体清洗平台的立体图；
[0019]图2是省去密封门体及电控柜的二流体清洗平台的立体图；
[0020]图3是净化棚的内部结构示意图；
[0021]图4是移动平台的结构示意图；
[0022]图5是吸附平台的结构示意图；
[0023]图6是二流体清洗机构的结构示意图。
[0024]图示说明：1
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净化棚，10
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顶板，11
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FFU风机，12
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框架，13
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排水工作台，131
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排水孔，132
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排水阀，14
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背板，2
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触屏式监控器，3
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密封门体，4
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电控柜，5
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电气控制口，6
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警示灯，7
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二流体清洗机构，71
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调节柱，72
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安装板，73
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超音速喷嘴，8
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移动平台，81
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X轴模组，82
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Y轴模组，83
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连接板，9
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吸附平台，91
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进气块，92
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吸附底板，93
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物料，94
‑
气体流道。
具体实施方式
[0025]为进一步了解本技术的内容，结合实施例对本技术作详细描述，以下实施例用于说明本技术，但不用来限制本技术的范围。
[0026]参照附图1和2所示，本技术涉及的一种二流体清洗平台包括净化棚1、二流体清洗机构7、移动平台8和吸附平台9。
[0027]参照附图1～3所示，所述的净化棚1包括框架12、顶板10和密封门体3，顶板10位于框架12的顶部，密封门体3设置于框架10的四周，密封门体3和顶板10围成一个密闭空间，密封门体3保证设备运行时处于密封状态，其优先采用透明亚克力材质，净化棚1的顶板10上设有为密闭空间提供微正压环境的FFU风机11，FFU风机11源源不断吹出过滤后的洁净空气，由于密封门体3的密闭作用，整个净化棚1处于微正压状态，外界的微小颗粒无法进入设备内部。净化棚1的内部设有排水工作台13，排水工作台13设置于框架12的中间位置，排水工作台13的下方设有电控柜4和电气控制口5，电气控制口5与电控柜4电连接，电气控制口5用于连接外接电源。
[0028]参照附图3所示，所述排水工作台13的内部设有空腔，排水工作台13的顶面设有与空腔连通的排水孔131，排水工作台13的底部设有排水阀132。排水工作台13的后方设有背
板14，为各系统提供功能模块的安装空间。
[0029]参照附图1和2所示，所述净化棚1上设有触屏式监控器2，触屏式监控器2与电控柜4通信连接，触屏式监控器2为人机交互界面，便于操作员设定工艺参数、查看设备运行状态等。所述触屏式监控器2还配有警示灯6，警示灯6与触屏式监控器2通信连接，当设备运行出现故障时，警示灯6起警示作用。
[0030]参照附图2和4所示，所述的移动平台8固定于排水工作台13的上表面，移动平台8包括X轴模组81、Y轴模组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二流体清洗平台，其特征在于：其包括净化棚、二流体清洗机构、移动平台和吸附平台；所述的净化棚的内部设有排水工作台；所述的移动平台固定于排水工作台的上表面；所述的吸附平台设置在移动平台上，吸附平台包括吸附底板和进气块，吸附底板上设有若干组气体流道，进气块与气体流道一一对应且固定在吸附底板的下表面；所述的二流体清洗机构固定在净化棚的顶部并位于吸附平台的上方，二流体清洗机构包括调节柱、安装板和超音速喷嘴，安装板与调节柱滑动连接，超音速喷嘴均匀地布置在安装板的下表面。2.根据权利要求1所述的二流体清洗平台，其特征在于：所述移动平台包括X轴模组、Y轴模组和连接板，所述的X轴模组固定在排水工作台的上表面，Y轴模组设置在X轴模组的上方并与X轴模组滑动连接，连接板位于Y轴模组的上方并与Y轴模组滑动连接，所述吸附平台固定在连接板的上表面。3.根据权利要求1所述的二流体清洗平台，其特征在于：所述净化棚包...

【专利技术属性】
技术研发人员：何子强，朱伟杰，朱凡，
申请(专利权)人：杭州爱新凯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：