一种薄膜沉淀设备压力控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板，所述调节板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的调节槽内，调节板上通过连接组件与活动板的一端可拆卸连接，活动板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的活动槽内，活动板的另一端与设于薄膜沉淀设备内部的调节组件连接，薄膜沉淀设备的一端内设有四个孔洞一，调节板上开设有四个与孔洞一相适配的孔洞二，此薄膜沉淀设备压力控制装置，区别于现有技术，改造一个能改变气体流通大小的挡板，能精准的控制气体压力，让同样的设备能适用于各种不同的靶材所需要的压力，提高设备镀膜质量。膜质量。膜质量。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜沉淀设备压力控制装置


[0001]本技术涉及薄膜沉淀设备
，具体为一种薄膜沉淀设备压力控制装置。

技术介绍

[0002]现有薄膜沉淀设备的前端有四个圆形孔洞，闸阀打开时室内的气体会通过四个圆形孔洞被低温泵抽走，PVD设备在成膜的时候闸阀会完全打开，在成膜的时候会通入一定量的工艺气体来完成镀膜，成膜过程中，对气体有一定压力要求，根据工艺的不同，每种靶材对压力要求也不同，抽取室气量大小也不同，现在PVD镀膜设备的前端都是设有固定孔径大小的挡板，不能起到调节压力的作用，为了适应每种靶材的对成膜压力的要求，改善压力，从而提高产品质量变得迫在眉睫，为此，我们提出一种薄膜沉淀设备压力控制装置。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种薄膜沉淀设备压力控制装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板，所述调节板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的调节槽内，调节板上通过连接组件与活动板的一端可拆卸连接，活动板滑动在薄膜沉淀设备一端侧壁上开设的活动槽内，活动板的另一端与设于薄膜沉淀设备内部的调节组件连接，薄膜沉淀设备的一端内设有四个孔洞一，调节板上开设有四个与孔洞一相适配的孔洞二。
[0005]作为优选，所述连接组件包括两个卡块和两个插块，两个卡块均活动连接在活动板一端内部开设的活动腔内，两个插块均固接在调节板上，卡块与推杆的一端固接，推杆活动连接在活动板的侧壁内，推杆的另一端延伸至活动板外部并固接有防脱块，推杆处于活动板和防脱块之间的外壁上套设有弹簧，活动板底部的两侧均开设有与插块相适配的插槽，插块内开设有与卡块相适配的卡槽。
[0006]作为优选，所述插块的底端设有突出部，突出部为直角梯形。
[0007]作为优选，所述调节组件包括调节螺杆，调节螺杆转动连接在薄膜沉淀设备的一端侧壁内，调节螺杆的顶端延伸至薄膜沉淀设备外部并固接有手轮，调节螺杆的外壁上螺旋传动连接有螺套，螺套嵌设于活动板内。
[0008]作为优选，所述调节螺杆处于薄膜沉淀设备外部的外壁上固接有指针，薄膜沉淀设备靠近调节螺杆的外壁上固设有固定环，固定环上设有与指针配合使用的角度刻度。
[0009]作为优选，所述调节板的厚度与调节槽的深度相同。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0011]本技术区别于现有技术，受限于现有设备上都是同样孔径大小的圆形孔洞，不能起到一个调节孔径大小的作用，不能调节气体压力，基于此改造一个能改变气体流通大小的挡板，能精准的控制气体压力，让同样的设备能适用于各种不同的靶材所需要的压
力，提高设备镀膜质量。
附图说明
[0012]图1为本技术整体的结构示意图；
[0013]图2为本技术薄膜沉淀设备剖视后的结构示意图；
[0014]图3为本技术局部放大的结构示意图；
[0015]图4为本技术调节板的结构示意图；
[0016]图5为本技术活动板一端剖视后的结构示意图；
[0017]图6为本技术孔洞一与孔洞二错开后正视的结构示意图。
[0018]图中：1、薄膜沉淀设备；2、调节组件；21、调节螺杆；22、手轮；23、螺套；3、活动板；4、连接组件；41、卡块；42、活动腔；43、推杆；44、弹簧；45、防脱块；46、插槽；47、插块；48、卡槽；5、调节板；6、调节槽；7、孔洞一；8、孔洞二；9、活动槽；10、指针；11、固定环。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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6，本技术提供一种技术方案：一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板5，调节板5滑动在薄膜沉淀设备1一端侧壁上开设的调节槽6内，调节板5上通过连接组件4与活动板3的一端可拆卸连接，活动板3滑动在薄膜沉淀设备1一端侧壁上开设的活动槽9内，活动板3的另一端与设于薄膜沉淀设备1内部的调节组件2连接，薄膜沉淀设备1的一端内设有四个孔洞一7，调节板5上开设有四个与孔洞一7相适配的孔洞二8。
[0021]进一步地，连接组件4包括两个卡块41和两个插块47，两个卡块41均活动连接在活动板3一端内部开设的活动腔42内，两个插块47均固接在调节板5上，卡块41与推杆43的一端固接，推杆43活动连接在活动板3的侧壁内，推杆43的另一端延伸至活动板3外部并固接有防脱块45，推杆43处于活动板3和防脱块45之间的外壁上套设有弹簧44，活动板3底部的两侧均开设有与插块47相适配的插槽46，插块47内开设有与卡块41相适配的卡槽48；方便更换调节板5。
[0022]进一步地，插块47的底端设有突出部，突出部为直角梯形；便于安装调节板5。
[0023]进一步地，调节组件2包括调节螺杆21，调节螺杆21转动连接在薄膜沉淀设备1的一端侧壁内，调节螺杆21的顶端延伸至薄膜沉淀设备1外部并固接有手轮22，调节螺杆21的外壁上螺旋传动连接有螺套23，螺套23嵌设于活动板3内；便于调节孔洞一7与孔洞二8的错开幅度。
[0024]进一步地，调节螺杆21处于薄膜沉淀设备1外部的外壁上固接有指针10，薄膜沉淀设备1靠近调节螺杆21的外壁上固设有固定环11，固定环11上设有与指针10配合使用的角度刻度；便于通过指针10可角度刻度的配合直观了解手轮22的转动角度，进而得出调节板5的移动距离以及孔洞一7与孔洞二8的具体错开幅度，能更加精准的控制压力大小。
[0025]进一步地，调节板5的厚度与调节槽6的深度相同；便于与管道连接。
[0026]本方案，在使用时，先进行调节板5的安装工作，将调节板5放置于调节槽6内，将调节板5上的两个插块47分别对应插入到活动板3一端的两个插槽46内，由于卡块41底部的突出部为直角梯形，进而插块47会挤压卡块41并使卡块41向活动腔42内移动，此时卡块41拉动推杆43移动并使弹簧44处于压缩状态，当插块47上的卡槽48与卡块41位置对应时，在弹簧44的弹力作用下可自动使卡块41插入到卡槽48中，即可完成调节板5的安装工作，反之，当调节板5损坏需要更换时，按压两个防脱块45并时卡块41缩回至活动腔42内，即可将插块47从插槽46中抽离，进而将调节板5取下，方便更换调节板5，再通过调节机构的设置，从外部转动手轮22并带动调节螺杆21旋转，调节螺杆21通过与螺套23的螺旋传动作用带动活动板3移动，活动板3带动调节板5移动，进而使孔洞一7与孔洞二8产生相互交错，由于孔洞一7和孔洞二8之间相互错开的幅度变化，使气体流通的大小随之变化，从而实现气体压力本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉淀设备压力控制装置，包括调节板(5)，其特征在于：所述调节板(5)滑动在薄膜沉淀设备(1)一端侧壁上开设的调节槽(6)内，调节板(5)上通过连接组件(4)与活动板(3)的一端可拆卸连接，活动板(3)滑动在薄膜沉淀设备(1)一端侧壁上开设的活动槽(9)内，活动板(3)的另一端与设于薄膜沉淀设备(1)内部的调节组件(2)连接，薄膜沉淀设备(1)的一端内设有四个孔洞一(7)，调节板(5)上开设有四个与孔洞一(7)相适配的孔洞二(8)。2.根据权利要求1所述的一种薄膜沉淀设备压力控制装置，其特征在于：所述连接组件(4)包括两个卡块(41)和两个插块(47)，两个卡块(41)均活动连接在活动板(3)一端内部开设的活动腔(42)内，两个插块(47)均固接在调节板(5)上，卡块(41)与推杆(43)的一端固接，推杆(43)活动连接在活动板(3)的侧壁内，推杆(43)的另一端延伸至活动板(3)外部并固接有防脱块(45)，推杆(43)处于活动板(3)和防脱块(45)之间的外壁上套设有弹簧(44)，活动板(3)底部的两侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄中山，童洲，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：