一种气体储存和分配容器包含储存器皿、第一气体压力调节器和第二气体压力调节器。所述储存器皿配置成容纳加压气体。所述气体储存和分配容器具有用于排放所述加压气体的排放流动路径。所述第一气体压力调节器设置在所述储存器皿内,并且所述第二气体压力调节器在所述储存器皿外部。所述排放流动路径延伸穿过所述第一气体压力调节器和所述第二气体压力调节器。一种从气体储存和分配容器排放气体的方法包含第一气体压力调节器将所述加压气体的压力降低至第一压力并且第二气体压力调节器将所述加压气体的所述压力降低至第二压力。所述加压气体的所述压力降低至第二压力。所述加压气体的所述压力降低至第二压力。
【技术实现步骤摘要】
气体储存和分配容器
[0001]本技术涉及用于储存加压气体的气体储存和分配容器。更具体地,本技术涉及在减压下分配储存的加压气体的气体储存和分配容器。
技术介绍
[0002]气体储存和分配容器可用于在工业过程中供应气体。此类容器可配置成容纳高压,以增加所含气体量。气体储存和分配容器可配置成在显著较低压力下供应其加压气体。例如,工业过程,例如半导体制造过程,可能使用危险(例如有毒、酸性、易燃等)和/或昂贵的气体。气体储存和分配容器也可用于运输此类危险和/或昂贵的气体。
技术实现思路
[0003]本技术涉及用于储存加压气体的气体储存和分配容器,以及从所述容器中分配储存气体的方法。所述气体储存和分配容器包含气体调节器组件,所述气体调节器组件具有在所述容器的储存器皿内侧的气体压力调节器和在所述容器的所述器皿外侧的另一气体压力调节器。
[0004]在实施例中,一种气体储存和分配容器包含储存器皿、第一气体压力调节器和第二气体压力调节器。所述储存器皿具有用于容纳加压气体的内部容积。所述第一气体压力调节器设置在所述储存器皿的所述内部容积内,并且所述第二气体压力调节器设置在所述储存器皿外部。所述容器还包含用于从所述气体储存和分配容器排放所述加压气体的排放流动路径。所述排放流动路径延伸穿过所述第一气体压力调节器和所述第二气体压力调节器。
[0005]在实施例中,一种从气体储存和分配容器排放气体的方法是用于分配存储在所述气体储存和分配容器的储存器皿的内部容积中的加压气体。所述方法包含所述容器具有第一气体压力调节器和第二气体压力调节器,所述第一气体压力调节器将所述加压气体的压力降低至第一压力,所述第二气体压力调节器将所述加压气体的所述压力从所述第一压力降低至第二压力。所述第一气体压力调节器设置在所述储存器皿的所述内部容积内。所述第二压力调节器位于所述储存器皿外部。
附图说明
[0006]参考构成本技术一部分的附图,附图示出可实施本文描述的气体储存和分配容器的实施例。
[0007]图1是气体储存和分配容器的实施例的横截面。
[0008]图2是气体储存和分配容器的另一个实施例的横截面。
具体实施方式
[0009]图1是气体储存和分配容器1的实施例的横截面。容器1配置成容纳加压气体,并在
预定压力下,例如低于加压气体的较低压力下排放气体。容器1包含用于储存加压气体的储存器皿10和用于在较低压力下排放储存气体的气体调节器组件20。气体调节器组件20从储存器皿10内延伸到储存器皿10外。气体调节器组件20配置成在加压气体流经气体调节器组件20时降低加压气体的压力,从而使气体以比其在容器1内的储存压力低的压力从容器1排放。气体调节器组件20包含第一气体压力调节器30和第二气体压力调节器40,其为可调节或不可调节,当气体流经气体调节器组件20并从容器1 排放时,可降低气体压力。基于第二气体压力调节器的设置,第二气体压力调节器可将气体压力进一步降低25%、35%、45%或更多。第一压力调节器30是内部压力调节器(例如,设置在储存器皿10内),其在储存器皿10内将气体压力降低第一量,并且第二压力调节器40是外部压力调节器(例如,位于储存器皿10的外部),其在储存器皿10外部进一步将加压气体的压力降低第二量。
[0010]第二气体压力调节器与第一气体压力调节器串联有几个优点。例如,串联的第一气体压力调节器和第二气体压力调节器在气体分配和储存容器的整个使用寿命期间为加工/注入工具提供稳定(恒定)的输送压力。当气体分配和储存容器内的压力从高变低时,通过降低第二级调节器的进口压力范围来提高稳定性。进一步的优点包含,降低压力的串联的气体压力调节器也降低了气体的释放速率,从而又实现在气体分配和储存容器出现问题或泄漏时有安全优势。另一个实例是,由于使用了串联的气体压力调节器,由于第二气体压力调节器释放的气体量不足,因此气体流量更容易控制。因此,这可以降低气体分配和储存容器所连接系统的复杂性。进一步的优点包含第二气体压力调节器的可调节性能实现气体分配和储存容器应用的灵活性。这允许客户或供应商调节气体分配和储存容器的输送压力,以适用于多个行业,包含但不限于注入、太阳能电池板、平板或LED。
[0011]容器1包含用于从容器1排放加压气体的排放流动路径2。如图1所示,气体调节器组件20包含并形成排放流动路径2。排放流动路径2延伸穿过气体调节器组件20。排放流动路径2延伸穿过气体调节器组件20内串联的第一气体压力调节器30和第二压力调节器40。容器1配置成使得加压气体只能通过排放流动路径2从容器1排放。在实施例中,加压气体只能通过穿过气体调节器组件20流出容器1。
[0012]容器1还可以包含在容器1未被填充期间密封的填充流动路径4。如图1所示,气体压力调节器20可以包含并形成填充流动路径4。填充流动路径4可延伸穿过气体压力调节器20。在容器1中已经填充气体至所需压力后,填充流动路径4被密封。如图1所示,填充流动路径4与排放流动路径2分开。容器1可包含进口阀6,所述进口阀是单向阀,可防止气体通过填充流动路径4排放(例如,加压气体通过填充流动路径4向后流动)。填充流动路径4延伸穿过进口阀6。
[0013]容器1可以容纳多种合适的气体中的一种。在实施例中,容器1内的气体是用于半导体制造的气体。例如,气体可包含但不限于半导体制造中使用的氢化物气体(例如,砷化氢、磷化氢、锑化氢、硅烷、二硼烷等)、酸性气体(例如,卤化气体、氢卤络合物气体、卤化硅烷等)等。在一些实施例中,气体可以是不同类型气体的混合物(例如,三氟化硼和氢的混合物、四氟化锗和氢的混合物等)。
[0014]储存器皿10包含内部容积12和开口14。加压气体储存在内部容积12内。气体调节器组件20具有上部22和下部21。下部21直接耦合到上部22。在一些实施例中,下部21可焊接到上部22。气体调节器组件20的上部22安装到储存器皿10的开口14。下部21从上部22延伸
到器皿10的内部空间12中。例如,如图1所示,下部21从开口14向下延伸到储存器皿10的内部空间12中。所有底部21均设置在储存器皿10内。
[0015]例如,上部21耦合到开口14以密封储存器皿10的开口14。密封件形成于上部22 的外部与开口14的内壁之间。密封配置成将加压气体容纳在储存器皿10的内部容积12 中,但使加压气体穿过气体调节器组件20的情况除外。下面将更详细地讨论容纳于储存器皿10内的气体的压力。如图1所示,开口14可以包含螺纹,并且通过将气体调节器组件20拧入开口14的螺纹中,可以将气体调节器组件20耦合到开口14。更具体地,在实施例中,通过将气体调节器组件20的上部22拧入储存器皿10的开口14中,可以将气体调节器组件20耦合到开口14。气体调节器组件20的上部22可以包含螺纹,所述螺纹拧入储存器皿10的开口14中的螺纹中。在一些实施例中,可以使用密封剂来确保储存器皿10与气体调节器组件20之间的密封。例如,用于防止本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种气体储存和分配容器,其特征在于包括:具有用于容纳加压气体的内部容积的储存器皿;所述内部容积内的第一气体压力调节器;所述储存器皿外部的第二气体压力调节器;以及用于从所述气体储存和分配容器排放所述加压气体的排放流动路径。2.根据权利要求1所述的气体储存和分配容器,其特征在于进一步包括:气体调节器组件,其耦合到所述储存器皿的开口,所述气体调节器组件包含所述第一气体压力调节器和所述第二气体压力调节器并形成所述排放流动路径。3.根据权利要求1所述的气体储存和分配容器,其特征在于所...
【专利技术属性】
技术研发人员:E,
申请(专利权)人:恩特格里斯公司,
类型:新型
国别省市:
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