一种加热均匀的低温恒温反应浴制造技术

本实用新型专利技术涉及一种加热均匀的低温恒温反应浴，包括底座，所述底座正面的左侧固定连接有控制器，所述底座顶部的中心处放置有反应筒，所述反应筒的内腔转动连接有搅拌架，所述底座顶部的两侧均横向开设有通槽，所述反应筒的外侧设置有恒温加热机构，所述底座顶部的左侧通过支杆固定连接有与搅拌架配合使用的消毒箱。通过设置恒温加热机构，对反应筒周边进行密封处理，避免低温热量发生散失，使反应筒周边环境保持在恒温状态下，利于反应筒内部物质的融合工作，通过设置消毒机构，对使用后的搅拌架进行高压喷射消毒处理，避免搅拌架上滋生细菌发生污染，同时也对消毒后的搅拌架进行烘干加热处理，利于搅拌架的下一次搅拌使用。利于搅拌架的下一次搅拌使用。利于搅拌架的下一次搅拌使用。

【技术实现步骤摘要】
一种加热均匀的低温恒温反应浴


[0001]本技术涉及反应浴
，尤其涉及一种加热均匀的低温恒温反应浴。

技术介绍

[0002]反应浴主要用于生物试验，是一种将物质搅拌融合的器具，随着现在工业技术的发展，市面上出现了低温恒温反应浴，使反应浴内的融合物质保持在低温恒温环境状态下进行搅拌融合。
[0003]而对比例公开的一种加热均匀的低温恒温反应浴(授权号：CN214716773U)提出的仅仅是搅拌棒易出现污染的问题，而改变搅拌棒的放置位置是无法有效躲避污染源的，无法对使用后的搅拌棒进行高压喷射消毒处理，使用后的搅拌棒改变位置后仍会受到污染，同时也不能对反应浴进行密封处理，达到均匀低温加热的目的，导致反应浴低温加热过程中出现受热不均，影响内部物质的充分融合工作。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在无法对使用后的搅拌棒进行高压喷射消毒处理，同时也不能对反应浴进行密封处理，达到均匀低温加热的目的的缺点，而提出的一种加热均匀的低温恒温反应浴。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种加热均匀的低温恒温反应浴，包括底座，所述底座正面的左侧固定连接有控制器，所述底座顶部的中心处放置有反应筒，所述反应筒的内腔转动连接有搅拌架，所述底座顶部的两侧均横向开设有通槽，所述反应筒的外侧设置有恒温加热机构，所述底座顶部的左侧通过支杆固定连接有与搅拌架配合使用的消毒箱，所述消毒箱的底部连通有排液口且排液口的内腔嵌设有过滤网，所述消毒箱右侧的底部固定连接有储液盒，所述储液盒右侧的顶部连通有加液斗，所述储液盒正面的底部连通有排泄管且排泄管的内腔连通有手动阀，所述消毒箱的内腔设置有与搅拌架配合使用的消毒机构。
[0007]优选的，所述恒温加热机构包括电加热座，所述电加热座固定在底座靠近反应筒顶部的中心处，所述底座的内腔横向转动连接有正反螺纹杆，所述正反螺纹杆的右侧固定连接有旋柄且正反螺纹杆的两侧均螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的顶部固定连接有支架且支架的顶部固定连接有与反应筒配合使用的密封罩，所述密封罩外侧的顶部嵌设有温度传感器。
[0008]优选的，所述消毒机构包括增压泵，所述增压泵固定在储液盒的顶部，所述增压泵的出液口连通有三通接头，所述三通接头的两端均连通有支管，所述支管的另一端贯穿消毒箱并连通有连通架，所述连通架内侧的四端均连通有喷头，所述消毒箱内腔的左侧从前至后依次竖向嵌设有烘干灯。
[0009]优选的，所述电加热座内腔靠近反应筒的顶部设置有环形电加热丝，所述密封罩相向的一侧固定连接有密封垫圈。
[0010]优选的，所述支架的底部固定连接有与通槽滑动配合的限位滑架，所述反应筒和消毒箱的顶部均开设有与搅拌架配合使用的开口槽。
[0011]优选的，所述连通架的内腔开设有中空腔室，所述连通架和搅拌架的形状均相同且采用“人”字型设计。
[0012]优选的，所述搅拌架底部的两侧均固定连接有辅助搅拌片，且辅助搅拌片的中心处开设有矩形导流孔。
[0013]本技术中，所述一种加热均匀的低温恒温反应浴，通过设置恒温加热机构，由电加热座提供低温加热热源，对反应筒内部的物质进行低温热量处理，再由正反螺纹杆、旋柄、螺纹套、支架、密封罩和温度传感器的配合，对反应筒周边进行密封处理，避免低温热量发生散失，使反应筒周边环境保持在恒温状态下，利于反应筒内部物质的融合工作，通过设置消毒机构，由增压泵提供动力源，再由三通接头、支管、连通架、喷头和烘干灯的配合，对使用后的搅拌架进行高压喷射消毒处理，避免搅拌架上滋生细菌发生污染，同时也对消毒后的搅拌架进行烘干加热处理，利于搅拌架的下一次搅拌使用。
[0014]通过环形电加热丝，对反应筒提供均匀低温热量，使反应筒内的温度均匀升温，通过密封垫圈，对两组密封罩闭合位置的间隙进行密封处理，防止密封罩间隙过大出现漏气，使密封罩内部保持恒温密闭环境，通过限位滑架，对支架提供辅助滑动限位补偿，提高支架移动过程中的平稳性，通过开口槽，便于使用者将搅拌架放入反应筒和消毒箱内。
[0015]通过中空腔室，利于消毒液在连通架内的聚集流通，同时也起到过度存储的作用，通过连通架和搅拌架的形状均相同且采用“人”字型设计，对搅拌架进行对应高压喷射消毒液，起到有效消毒的作用，避免消毒液喷射至搅拌架外侧造成浪费，通过辅助搅拌片，对搅拌架底部的物质进行辅助搅拌，扩大搅拌架的搅拌面积，通过矩形导流孔，利于物质在辅助搅拌片内经过的流动性，同时也对反应筒内的物质进行辅助导流处理，扩大物质与辅助搅拌片的接触面积。
附图说明
[0016]图1为本技术提出的一种加热均匀的低温恒温反应浴的结构示意图；
[0017]图2为本技术提出的一种加热均匀的低温恒温反应浴的结构局部剖视图；
[0018]图3为本技术提出的恒温加热机构的结构局部仰视图；
[0019]图4为本技术提出的消毒机构的结构侧视图。
[0020]图中：1、底座；2、反应筒；3、搅拌架；4、恒温加热机构；41、电加热座；42、正反螺纹杆；43、旋柄；44、螺纹套；45、支架；46、密封罩；47、温度传感器；5、消毒箱；6、储液盒；7、消毒机构；71、增压泵；72、三通接头；73、支管；74、连通架；75、喷头；76、烘干灯。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0022]实施例一
[0023]参照图1至图4，一种加热均匀的低温恒温反应浴，包括底座1，底座1正面的左侧固
定连接有控制器，底座1顶部的中心处放置有反应筒2，反应筒2的内腔转动连接有搅拌架3，底座1顶部的两侧均横向开设有通槽，反应筒2的外侧设置有恒温加热机构4，通过设置恒温加热机构4，由电加热座41提供低温加热热源，对反应筒2内部的物质进行低温热量处理，再由正反螺纹杆42、旋柄43、螺纹套44、支架45、密封罩46和温度传感器47的配合，对反应筒2周边进行密封处理，避免低温热量发生散失，使反应筒2周边环境保持在恒温状态下，利于反应筒2内部物质的融合工作，底座1顶部的左侧通过支杆固定连接有与搅拌架3配合使用的消毒箱5，消毒箱5的底部连通有排液口且排液口的内腔嵌设有过滤网，消毒箱5右侧的底部固定连接有储液盒6，储液盒6右侧的顶部连通有加液斗，储液盒6正面的底部连通有排泄管且排泄管的内腔连通有手动阀，消毒箱5的内腔设置有与搅拌架3配合使用的消毒机构7，通过设置消毒机构7，由增压泵71提供动力源，再由三通接头72、支管73、连通架74、喷头75和烘干灯76的配合，对使用后的搅拌架3进行高压喷射消毒处理，避免搅拌架3上滋生细菌发生污染，同时也对消毒后的搅拌架3进行烘干加热处理，利于搅拌架3的下一次搅拌使用。
[0024]实施例二
[0025]在实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种加热均匀的低温恒温反应浴，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)正面的左侧固定连接有控制器，所述底座(1)顶部的中心处放置有反应筒(2)，所述反应筒(2)的内腔转动连接有搅拌架(3)，所述底座(1)顶部的两侧均横向开设有通槽，所述反应筒(2)的外侧设置有恒温加热机构(4)，所述底座(1)顶部的左侧通过支杆固定连接有与搅拌架(3)配合使用的消毒箱(5)，所述消毒箱(5)的底部连通有排液口且排液口的内腔嵌设有过滤网，所述消毒箱(5)右侧的底部固定连接有储液盒(6)，所述储液盒(6)右侧的顶部连通有加液斗，所述储液盒(6)正面的底部连通有排泄管且排泄管的内腔连通有手动阀，所述消毒箱(5)的内腔设置有与搅拌架(3)配合使用的消毒机构(7)。2.根据权利要求1所述的一种加热均匀的低温恒温反应浴，其特征在于，所述恒温加热机构(4)包括电加热座(41)，所述电加热座(41)固定在底座(1)靠近反应筒(2)顶部的中心处，所述底座(1)的内腔横向转动连接有正反螺纹杆(42)，所述正反螺纹杆(42)的右侧固定连接有旋柄(43)且正反螺纹杆(42)的两侧均螺纹连接有螺纹套(44)，所述螺纹套(44)的顶部固定连接有支架(45)且支架(45)的顶部固定连接有与反应筒(2)配合使用的密封罩(46)，所述密封罩(46)外侧的顶部嵌设有温度传感器(4...

【专利技术属性】
技术研发人员：李婧，邓琦，艾伟健，
申请(专利权)人：天津楷特药业有限公司，
类型：新型
国别省市：