一种抗腐蚀金属网格的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种抗腐蚀金属网格的制备方法，包括如下步骤：在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；所述抗腐蚀药水包括如下重量百分数的物质：氢氧化钠0.2

【技术实现步骤摘要】
一种抗腐蚀金属网格的制备方法


[0001]本专利技术涉及金属网格制备
，具体涉及一种抗腐蚀金属网格的制备方法。

技术介绍

[0002]金属网格一般采用银、铜等低电阻金属，银和铜这类金属具有明显的金属亮泽，在可见光波长范围内反射率高，制成金属网格线在强光灯照射下较明显，但由于反射率高，金属网格的漫反射强，造成金属网格的雾度较高，影响金属网格的整体透过率。为了解决此问题，金属网格必须做黑化处理，黑化降低所制金属网格表面的反射率，降低所制金属网格在金属网格传感器双面的反射率和雾度，观察传感器的一面，位于正面的金属网格其图案都不明显、不易观察，从而提高金属网格传感器的美观度。但是常规黑化液通常是酸性的，pH约2～5，容易有酸性离子及其他成分残留，随着时间静置容易对产品表面金属导电层腐蚀，降低产品信赖度。

技术实现思路

[0003]为了提高金属网格产品信赖度，而提供一种抗腐蚀金属网格的制备方法。本专利技术在金属网格的制备过程中，通过在化铜处理以及黑化处理的步骤后增加抗腐蚀处理，可以使得产品信赖度提升，长时间放置后金属网格仍具有较好的导电性。
[0004]为了达到以上目的，本专利技术通过以下技术方案实现：
[0005]一种抗腐蚀金属网格的制备方法，包括如下步骤：
[0006]在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；
[0007]所述抗腐蚀药水中包含碱性化合物与缓冲作用化合物。
[0008]进一步地，所述碱性化合物为氢氧化钾和/或氢氧化钠；所述缓冲作用化合物为碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸一氢钠、磷酸二氢钠、磷酸一氢钾、磷酸二氢钾中的多种组合。
[0009]再进一步地，所述抗腐蚀药水包括如下重量百分数的物质：氢氧化钠0.2
‑
1％、碳酸氢钠1
‑
1.5％、磷酸二氢钠0.2
‑
1％、余量为去离子水。其中氢氧化钠、氢氧化钾能够去除化铜后、黑化后产品表面残留的酸性离子以及铜层表面多余的铜离子；碳酸氢盐能够去除产品表面的亚硒酸同时对碱性化合物进行缓冲作用以保护黑化层硒化铜不被碱性环境破坏，磷酸氢盐同样具有对碱性化合物缓冲的作用，并促进产品表面二氧化硒和亚硒酸的转化，使黑化反应更完全，以更加稳定黑化层硒化铜的效果。
[0010]再进一步地，所述抗腐蚀药水包括如下重量百分数的物质：氢氧化钠0.4
‑
0.8％、碳酸氢钠1
‑
1.5％、磷酸二氢钠0.5
‑
1％、余量为去离子水。
[0011]进一步地，所述抗腐蚀处理的步骤是将待处理物置于所述抗腐蚀药水中于28
‑
35℃下进行浸泡或喷淋处理60
‑
180s。
[0012]进一步地，在制得所述抗腐蚀金属网格后还包括在其表面制备保护胶层的步骤。
[0013]有益技术效果：本专利技术在金属网格的制备过程中于化铜处理和黑化处理后加入抗腐蚀药水的处理过程，能够与残留在金属网格层表面的酸性离子以及其他成分进行反应，提高金属网格产品中铜网格和黑化层在放置过程中的稳定性，缓解产品在放置过程中性能下降大的问题，进而可提高产品信赖度；本专利技术的抗腐蚀药水不会与金属网格产品表面的金属网格层发生反应，不影响金属网格的导电效果。
具体实施方式
[0014]下面将结合本专利技术的实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本专利技术及其应用或使用的任何限制。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0015]除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的数值不限制本专利技术的范围。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法应当被视为说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。
[0016]以下实施例中未注明具体条件的实验方法，通常按照国家标准测定；若没有相应的国家标准，则按照通用的国际标准、或相关企业提出的标准要求进行。除非另有说明，否则所有的份数为重量份，所有的百分比为重量百分比。
[0017]以下实施例中的金属网格制备过程中提到的在基底上涂布光刻胶、曝光处理、显影处理、化铜处理、黑化处理、制备保护胶的过程与现有技术并无区别，具体过程可以参考中国专利CN202110455609.8的实施例4操作过程。
[0018]实施例1
[0019]一种抗腐蚀金属网格的制备方法，包括如下步骤：
[0020]在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；
[0021]最后在抗腐蚀金属网格的表面制备保护胶层。
[0022]所述抗腐蚀药水由如下重量百分数的物质组成：氢氧化钠0.2％、碳酸氢钠1.5％、磷酸二氢钠1％、余量为去离子水；
[0023]所述抗腐蚀处理过程是：将化铜处理后得到的金属网格、以及黑化处理后的金属网格分别置于上述抗腐蚀药水中于30℃下进行喷淋处理120s，取出后干燥即可。
[0024]实施例2
[0025]一种抗腐蚀金属网格的制备方法，包括如下步骤：
[0026]在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；
[0027]最后在抗腐蚀金属网格的表面制备保护胶层。
[0028]所述抗腐蚀药水由如下重量百分数的物质组成：氢氧化钠1％、碳酸氢钠1％、磷酸
二氢钠0.2％、余量为去离子水；
[0029]所述抗腐蚀处理过程是：将化铜处理后得到的金属网格、以及黑化处理后的金属网格分别置于上述抗腐蚀药水中于28℃下进行浸泡处理180s，取出后干燥即可。
[0030]实施例3
[0031]一种抗腐蚀金属网格的制备方法，包括如下步骤：
[0032]在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；
[0033]最后在抗腐蚀金属网格的表面制备保护胶层。
[0034]所述抗腐蚀药水由如下重量百分数的物质组成：氢氧化钠0.4％、碳酸氢钠1.2％、磷酸二氢钠0.5％、余量为去离子水；
[0035]所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗腐蚀金属网格的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：在基底上涂布光刻胶，依次经过曝光处理、显影处理、化铜处理后得到金属网格，采用抗腐蚀药水对所得到的金属网格进行抗腐蚀处理，然后进行黑化处理，再进行所述抗腐蚀处理，即制得抗腐蚀金属网格；所述抗腐蚀药水中包含碱性化合物与缓冲作用化合物。2.根据权利要求1所述的一种抗腐蚀金属网格的制备方法，其特征在于，所述碱性化合物为氢氧化钾和/或氢氧化钠；所述缓冲作用化合物为碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸一氢钠、磷酸二氢钠、磷酸一氢钾、磷酸二氢钾中的多种组合。3.根据权利要求1或2所述的一种抗腐蚀金属网格的制备方法，其特征在于，所述抗腐蚀药水包括如下重量百分数的物质：氢氧化钠0.2
‑
1％、碳酸氢...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢才兴，冯博文，
申请(专利权)人：江苏软讯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：