一种具隐身功能的低吸油值、高比表的二氧化硅消光剂的制备方法技术

技术编号:35512105 阅读:28 留言:0更新日期:2022-11-09 14:27
本发明专利技术属于无机材料技术领域,特别涉及一种具隐身功能的低吸油值、高比表的二氧化硅消光剂的制备方法。该制备方法包括如下步骤:S1、向硫酸与硫酸钠的混合溶液中持续加入硅酸钠进行反应,反应至pH为1

【技术实现步骤摘要】
一种具隐身功能的低吸油值、高比表的二氧化硅消光剂的制备方法


[0001]本专利技术属于无机材料
,特别涉及一种具隐身功能的低吸油值、高比表的二氧化硅消光剂的制备方法。

技术介绍

[0002]涂料用于涂装物体表面形成涂膜,可以起到防污保护、导电导磁的作用,对有隐蔽性需要的军事用品,甚至可以实现“隐身”效果。这一隐身指使用具有吸收和透过红外和电磁波作用的特殊材料,阻止电磁波的反射,使通过雷达发射电磁波和红外光进行探测的侦查器失去作用,从而达到隐身效果。另外,对于此类军事用品,不显眼低光泽度的外表也极为重要。对此,一些军事用品常使用添加了消光剂的涂料,降低外层表面的光泽度。
[0003]当前消光剂产品分为有机和无机两种。其中有机消光剂如蜡层在涂膜表面阻止溶剂的挥发和氧气的渗入,影响涂膜的干燥和复涂。而无机消光剂中应用最广的为二氧化硅。二氧化硅添加在涂料中,对涂料形成屏蔽作用,达到抗紫外老化和热老化的目的,同时增加涂料的隔热性。但现有二氧化硅消光剂产品比表面积较低(200

350m2/g),物料轻,且吸油值大(200

300mL/100g),导致产品的粘度大,影响涂料的触变性。

技术实现思路

[0004]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术的第一方面是提出一种具隐身功能的低吸油值、高比表的二氧化硅消光剂的制备方法,所制得的二氧化硅同时具有消光、隐身作用,并且分散性强、具有化学稳定性,同时比表面积大、吸油值低、粘度小,不影响涂料的触变性。
[0005]本专利技术的第二方面是提出一种二氧化硅消光剂。
[0006]另外,本专利技术还提出所述二氧化硅消光剂的应用。
[0007]具体地,本专利技术采用如下的技术方案:
[0008]本专利技术的第一方面是提出一种二氧化硅消光剂的制备方法,包括如下步骤:
[0009]S1、向硫酸与硫酸钠的混合溶液中持续加入硅酸钠进行反应,反应至pH为1

4.5时,将反应生成的凝胶打散,并持续加入硫酸进行反应,控制pH在1

3.5之间;在停止硅酸钠和硫酸的加入后,得到反应混合物;
[0010]S2、将所述反应混合物与羟基化碳纳米管混合,陈化得到所述二氧化硅消光剂。
[0011]上述制备方法的反应过程如下:
[0012]本专利技术首先向硫酸与硫酸钠的混合溶液中持续加入硅酸钠,即进行碱滴酸操作,在酸性环境下,根据硅酸聚合理论,此时硅酸聚合速度慢,聚合的二氧化硅微粒之间以疏松的网状结构连接,形成凝胶,生成的二氧化硅比表面积高。酸性条件下生成的二氧化硅颗粒粒径小且分散性好,在应用于涂料时,能够在涂料表面均匀分布,并在涂层和消光剂收缩时形成微观凹凸不平的漆面,光线入射漆面后形成漫反射,获得哑光效果。酸性条件下生成的
二氧化硅具有低吸油值的性质,产品粘度低,对涂料的触变性不造成影响。接着再同时持续加入硫酸和硅酸钠溶液,即进行酸碱同滴,保证了二氧化硅的持续生成。
[0013]最后加入羟基化碳纳米管,羟基化碳纳米管表面的羟基与二氧化硅表面的大量羟基形成氢键,从而附着在二氧化硅表面。碳纳米管对红外和电磁波有强透过率,故附着了羟基化碳纳米管的二氧化硅复合材料对可见光、红外光和电磁波的反射率大大降低,有效缩减军用飞机的雷达散射截面,从而降低目标被敌方雷达侦测发现的概率,起到消光和隐身作用;另外,羟基化碳纳米管的比表面积大,对可见光、红外光和电磁波有极大的吸收率,大大提高了二氧化硅消光剂的消光效果和比表面积,也可起到隐身效果。
[0014]因此,通过本专利技术的制备方法,可以制备得到同时具有消光、隐身作用,并且分散性强、具有化学稳定性,同时比表面积大、吸油值低、粘度小,不影响涂料的触变性的二氧化硅消光剂。
[0015]在本专利技术的一些实例中,步骤S1中,反应至硅酸钠跟硫酸与硫酸钠的混合溶液中的硫酸摩尔比为0.5

3:1(优选0.5

2.5:1)时,同时停止硅酸钠和硫酸的加入,得到所述反应混合物。
[0016]在本专利技术的一些实例中,步骤S1中,所述硫酸与硫酸钠的混合溶液中,硫酸的摩尔浓度为1

4M,优选1

2.8M,例如1,1.2,1.4,1.6,1.8,2,2.2,2.4,2.6,2.8,3,3.5,4M等;所述硫酸与硫酸钠的混合溶液中,硫酸钠的质量浓度为0.1%

2%,优选0.2%

1.5%,例如0.1%,0.2%,0.4%,0.6%,0.8%,1%,1.2%,1.4%,1.5%,1.6%,1.8%,2%等。优选地,在实际操作中,可先预配制硫酸溶液,然后将硫酸溶液与硫酸钠溶液进行混合,其中硫酸溶液的摩尔浓度可设置为2

10M,优选5

8M,例如2M,2.5M,3M,3.5M,4M,4.5M,5M,5.5M,6M,6.5M,7M,7.5M,8M,8.5M,9M,9.5M,10M等,硫酸钠溶液的质量浓度可设置为0.5%

2%,例如0.1%,0.2%,0.3%,0.4%,0.5%,0.8%,1%,1.2%,1.5%,1.8%,2%等,硫酸钠作为电解质对反应具有促进作用,且不会给体系带来杂质;不过硫酸钠浓度过高,会促进硅酸微粒迅速聚合形成致密的粒子,无凝胶状态出现,容易导致二氧化硅产物粒径不均一,且比表面积偏小。。
[0017]在本专利技术的一些实例中,步骤S1中,所述硅酸钠以摩尔浓度为0.5

3M的硅酸钠溶液形式加入硫酸与硫酸钠的混合溶液中,优选0.85

2.5M,例如0.5,0.6,0.8,0.85,0.9,1,1.2,1.5,1.8,2,2.5,3M等。
[0018]在本专利技术的一些实例中,所述硅酸钠溶液由固体硅酸钠通过高温高压液化得到。所述液化的温度为50

80℃,优选50

70℃,例如50,55,60,65,70,75,80℃等。所述液化的压力为0.2

0.8MPa,优选0.45
±
0.1MPa。
[0019]在本专利技术的一些实例中,所述硅酸钠的模数为1

4M,优选1.5

3.5M,例如1M,1.5M,2M,2.5M,3M,3.5M,4M等。
[0020]在本专利技术的一些实例中,步骤S1中,所述硅酸钠溶液的加入速度为1

10m3/h,优选2

6m3/h,例如1,2,3,4,5,6,7,8,9,10m3/h等。
[0021]在本专利技术的一些实例中,将反应生成的凝胶打散后,硫酸的加入速度为1

2m3/h,例如1,1.2,1.4,1.6,1.8,2m3/h等。
[0022]在本专利技术的一些实例中,步骤S1的反应温度为30
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅消光剂的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:S1、向硫酸与硫酸钠的混合溶液中持续加入硅酸钠进行反应,反应至pH为1

4.5时,将反应生成的凝胶打散,并持续加入硫酸进行反应,控制pH在1

3.5之间;在停止硅酸钠和硫酸的加入后,得到反应混合物;S2、将所述反应混合物与羟基化碳纳米管混合,陈化得到所述二氧化硅消光剂。2.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于:步骤S1中,反应至硅酸钠跟硫酸与硫酸钠的混合溶液中的硫酸摩尔比为0.5

3:1时,同时停止硅酸钠和硫酸的加入,得到所述反应混合物。3.根据权利要求2所述制备方法,其特征在于:步骤S1中,所述硫酸与硫酸钠的混合溶液中,硫酸钠溶液的质量浓度为0.1%

2%。4.根据权利要求1所述制备方法,其特征在于:步骤S1中,所述硅酸钠以摩尔浓度为0.5

3M的硅酸钠溶液形式加入硫酸与硫酸钠的混合溶液中。5.根据权利要求1<...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑依璇梁少彬侯灿明黄丹
申请(专利权)人:广州市飞雪材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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